數控雕刻機通常採用循環式冷水機來控制溫度，以達到最佳的運作條件。特域 S&A CWFL-2000工業冷水機專為冷卻配備2kW光纖雷射光源的數控雕刻機而設計。它突出了雙溫控電路，可以獨立、同時冷卻雷射和光學元件，與雙冷卻器解決方案相比，可節省高達 50% 的空間。
自 2002 年以來一直致力於雷射系統和工業應用的精確溫度控制
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