有機EL 第3世代のディスプレイ技術として知られています。そのためライター とより薄い、低エネルギー消費、高輝度 と良好な発光効率、OLED技術は、電子製品やその他の分野でますます広く使用されています。そのポリマー材料は特に熱の影響を受けやすく、従来のフィルム切断プロセスは今日の生産ニーズにはもはや適していません。現在、伝統的な職人技の能力を超えた特殊な形状のスクリーンのアプリケーション要件があります。超高速レーザー切断が登場しました。熱影響部や歪みが少なく、様々な材料の非線形加工が可能です。
しかし、超高速レーザーは加工中に大量の熱を発生し、その温度を制御するために冷却ツールをサポートする必要があります。超高速レーザー より高い温度制御精度が必要です。温度制御精度 S&A CWUP までのシリーズチラー±0.1℃、超高速レーザーの温度を正確に制御し、安定した性能を維持できます。
S&A Chiller は 2002 年に設立され、長年のチラー製造の経験を持ち、現在では冷却技術のパイオニアであり、レーザー業界の信頼できるパートナーとして認められています。 S&A チラーは、高性能で信頼性が高く、エネルギー効率に優れた産業用水チラーを優れた品質で提供するという約束を果たします。
当社の再循環水チラーは、さまざまな産業用途に最適です。特にレーザー アプリケーションでは、スタンドアロン ユニットからラック マウント ユニットまで、低出力から高出力シリーズまで、±1℃~±0.1℃の安定性技術を適用したレーザー水チラーの完全なラインを開発しています。
水チラーは、ファイバーレーザー、CO2レーザー、UVレーザー、超高速レーザーなどを冷却するために広く使用されています。その他の産業用途には、CNCスピンドル、工作機械、UVプリンター、真空ポンプ、MRI装置、誘導炉、ロータリーエバポレーター、医療診断装置が含まれます正確な冷却を必要とするその他の機器。
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