最初のレーザーの開発に成功して以来、現在、レーザーは高出力と多様性の方向に発展しています。レーザー冷却装置として、産業用レーザーチラーの将来の開発動向は、多様化、インテリジェンス、高い冷却能力、およびより高い温度制御精度の要件です。
レーザーの正式名称は Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation (LASER) で、「誘導放射による光増幅」を意味します。レーザーの主な特徴は、優れた単色性、優れたコヒーレンス、優れた指向性、高輝度であり、レーザー切断、レーザー溶接、レーザーマーキング、レーザー通信、レーザー美容などで広く使用されています。
最初のレーザーの開発に成功して以来、現在、レーザーは高出力と多様性の方向に発展しています。としてレーザー冷却ユニット、産業用レーザーチラーの今後の開発動向は?
1. 多様化。CO2 レーザー、YAG レーザーなどの従来のレーザーの初期冷却から、ファイバー レーザー、紫外レーザー、超高速固体レーザーの冷却まで、レーザー チラーの開発は単一から多様化されており、あらゆるタイプのレーザー冷却のニーズをカバーできます。
2. 冷却能力が高い。 レーザーは、低出力から高出力へと発展してきました。ファイバー レーザーに関する限り、数キロワットから 10,000 ワットに発展しました。レーザー チラーも、最初は満足のいくキロワット レーザーから、10,000 ワット レーザー冷凍のブレークスルーに対応するまでに発展しました。 S&A チラーは 40000W ファイバーレーザーの冷凍に対応でき、さらに冷凍能力を高める方向で開発を進めています。
3. より高い温度制御精度要件。 これまで、レーザーチラーの温度制御精度は±1°C、±0.5°C、±0.3°Cであり、レーザー冷却の要件を満たすことができました。レーザー機器の洗練された開発により、水温制御の要件はますます高くなり、元の温度制御精度は冷凍要件を満たすことができなくなりました。特に、紫外線レーザーの要件は特に厳しく、レーザーの開発を促進しています。精度へのチラー。の温度制御精度 S&A UVレーザーチラー ±0.1℃に達し、水温変動の安定化に効果を発揮します。
4. 知的。 工業生産はますますインテリジェントになり、レーザー冷却装置も工業生産のインテリジェントなニーズを満たす必要があります。 S&A チラーはModbus RS-485通信プロトコルをサポートしており、水温をリモートで監視し、水温パラメーターをリモートで変更し、生産ラインにないときはいつでもレーザーチラーの冷却状態をチェックし、温度をインテリジェントに制御できます。
手友チラー 2002年に設立され、成熟した豊富な冷凍経験があり、製品の品質は厳密に管理されています。 S&A チラーには、世界中の多くの国に物流倉庫とサービスポイントがあり、ユーザーに優れたサービスと優れたアフターサービスを提供しています。
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