水冷は、CO₂レーザーが実現可能な全出力範囲をカバーします。実際の製造工程では、レーザー装置の温度を適切な範囲に保つために、チラーの水温調整機能が一般的に使用され、レーザー装置の連続的かつ安定した動作を保証します。
水冷は、CO₂レーザーが実現可能な全出力範囲をカバーします。実際の製造工程では、レーザー装置の温度を適切な範囲に保つために、チラーの水温調整機能が一般的に使用され、レーザー装置の連続的かつ安定した動作を保証します。
CO2レーザーの放熱方法としては、空冷と水冷の2種類が一般的に用いられています。空冷は主に低出力レーザーに用いられ、その出力は通常100Wを超えません。一方、水冷はCO₂レーザーが実現できる全出力範囲に対応します。
水冷方式では、通常、純水、蒸留水、または脱イオン水を冷却水として使用し、レーザーから発生する熱を放散します。放熱に影響を与える主な要因は温度差です。冷却水の温度が上昇すると、温度差と放熱効果が低下し、結果としてレーザー出力に影響を及ぼします。したがって、冷却水の温度を下げることで放熱性を向上させ、ある程度までレーザー出力を向上させることができます。しかし、冷却水の温度を無制限に下げることはできません。温度が低すぎるとウォームアップ時間が長くなり、レーザー表面に結露が発生する可能性があり、レーザーの使用に支障をきたしたり、寿命を縮めたりする恐れがあります。
実際の製造工程では、レーザー装置の温度を適切な範囲に保つために、チラーの水温調整機能が一般的に使用され、レーザー装置の連続的かつ安定した動作を保証します。S &AがCO2レーザー向けに開発したCWシリーズチラーは、定温モードとインテリジェント温度制御モードの2つのモードを備えています。温度制御精度は±0.3℃まで正確で、ほとんどのCO2レーザーの冷却要件を満たし、CO2レーザー装置の継続的、安定的かつ効率的な動作を保証します。
S&Aチラーは2002年に設立され、20年以上にわたりチラー製造の経験を積んできました。S&Aは、ファイバーレーザー装置、CO2レーザー装置、紫外線レーザー装置、その他の産業用加工装置の冷却ニーズを満たす、複数のチラーシリーズ製品を開発してきました。同時に、S&Aは製品とサービスの向上にも絶えず取り組み、高性能、高信頼性、高エネルギー効率を備えた高品質の産業用チラーを、多くのレーザー装置メーカーに提供しています。
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