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冷却水温度がCO₂レーザー出力に与える影響

水冷は、CO₂レーザーが達成できる出力範囲全体をカバーします。実際の製造工程では、チラーの水温調整機能を利用してレーザー装置を適切な温度範囲に保ち、レーザー装置の継続的かつ安定した動作を確保するのが一般的です。

2022-06-16

CO₂レーザーでは、一般的に空冷式と水冷式の2種類の放熱方法が用いられます。空冷式放熱は主に低出力レーザーに用いられ、その出力は通常100Wを超えません。水冷式は、CO₂レーザーが達成可能な全出力範囲をカバーします。

水冷では、レーザーの放熱に通常、純水、蒸留水、または脱イオン水を冷却水として使用します。放熱に影響を与える主な要因は温度差です。冷却水の温度が上昇すると、温度差が減少し、放熱効果が低下し、レーザー出力に影響を与えます。したがって、冷却水の温度を下げることで放熱性が向上し、レーザー出力をある程度まで高めることができます。しかし、冷却水の温度を無制限に下げることはできません。温度が低すぎるとウォームアップ時間が長くなり、レーザー表面に結露が発生する可能性があり、レーザーの使用に影響を与え、寿命を縮める可能性があります。

実際の生産工程では、チラーの水温調整機能を用いてレーザー装置を適切な温度範囲に保ち、レーザー装置の連続運転と安定運転を確保しています。 S&AがCO2レーザー用に開発したCWシリーズチラーは、定温制御とインテリジェント温度制御の2つのモードを備えています。温度制御精度は±0.3℃と高精度で、ほとんどのCO2レーザーの冷却・冷却要件を満たし、CO2レーザー装置の連続運転、安定運転、高効率運転を保証します。

S&Aチラーは2002年に設立され、チラー製造において20年以上の経験を誇ります。S&Aは、ファイバーレーザー装置、CO2レーザー装置、紫外線レーザー装置、その他産業用加工装置の冷却要件を満たすチラーシリーズを開発しました。同時に、S&Aは製品とサービスを継続的に改善し、多くのレーザー装置メーカーに高性能、高信頼性、高エネルギー効率を備えた高品質の産業用チラーを提供しています。