有機EL 第3世代のディスプレイ技術として知られています。そのためライター とより薄い、低エネルギー消費、高輝度 と良好な発光効率、OLED技術は、電子製品やその他の分野でますます広く使用されています。そのポリマー材料は特に熱の影響を受けやすく、従来のフィルム切断プロセスは今日の生産ニーズにはもはや適していません。現在、伝統的な職人技の能力を超えた特殊な形状のスクリーンのアプリケーション要件があります。超高速レーザー切断が登場しました。熱影響部や歪みが少なく、様々な材料の非線形加工が可能です。しかし、超高速レーザーは加工中に大量の熱を発生し、その温度を制御するために冷却ツールをサポートする必要があります。超高速レーザー より高い温度制御精度が必要です。温度制御精度 S&A CWUP までのシリーズチラー±0.1℃、超高速レーザーの温度を正確に制御し、安定した性能を維持できます。
2002 年以来、レーザー システムおよび産業用アプリケーションの正確な温度制御を行っています
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