レーザーチラー CWFL-2000 は、2kW ファイバーレーザーの温度を制御するように特別に設計されており、1 つのハウジングに 2 つのチャンネルを備えており、ファイバーレーザーシステムの 2 つの領域 (ファイバーレーザーと光学) を対象としています。 2 つのシングル チラーの配置と比較して、このデュアル チャネル設計によりチラーの設置面積が大幅に削減され、レーザー チラー CWFL-2000 は MAX 2kW ファイバー レーザーに最適な冷却デバイスになります。
2002 年以来、レーザー システムおよび産業用アプリケーションの正確な温度制御を行っています
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