レーザープロセスチラーは、その名前が示すように、レーザー光源を冷却するために使用されます。 レーザー光源には、CO2レーザー、YAGレーザー、ファイバーレーザー、UVレーザー、超高速レーザーなど、さまざまな種類があります。 レーザーによって冷却の必要性が異なるため、レーザー水チラーを選択する際には、ユーザーは出力を一致させる必要があります。 & レーザーの種類によってチラーの冷却能力が異なります。 例えば、260W CO2レーザーの冷却にはSを使用することをお勧めします。&1800Wの冷却能力を持つTeyuレーザープロセスチラーCW-5300。
19 年間の開発を経て、当社は厳格な製品品質システムを確立し、確立されたアフターサービスを提供しています。 当社では、90 種類以上の標準水チラー モデルと 120 種類以上のカスタマイズ可能な水チラー モデルを提供しています。 0.6KW から 30KW までの冷却能力を備えた当社の水冷却装置は、さまざまなレーザー光源、レーザー加工機、CNC マシン、医療機器、実験装置などの冷却に適用できます。