前述の通り、超高速レーザーは高精度で知られており、温度制御はこうした高精度化に密接に関連しています。超高速レーザーの需要の高まりに応えるため、Teyuは最大30Wの超高速レーザーの冷却用に特別に設計されたコンパクトな水冷装置、CWUPシリーズとRMUPシリーズを開発しました。
様々なレーザー機器の中核部品であるレーザー光源は、20世紀における最も重要な発明の一つです。レーザー科学は、人々に光子学の理解を深めることを可能にしました。レーザー技術は、半導体、航空宇宙、化学など、多くの産業に広く応用されています。科学技術の発展に伴い、人々はレーザー技術に対する要求水準を高め、より高精度なレーザー機器を求めています。そのため、超高速レーザー、つまり超高速処理能力を備えたレーザー光源の人気が高まり始めています。
超高速レーザーは、高い単一パルスエネルギー、高いピーク値出力、そして「冷間加工」を特徴としています。民生用電子機器、ディスプレイパネル、PCB、化学、航空宇宙、そして高精度加工を必要とする産業において広く応用されています。
民生用電子機器が提出されました。
超高速レーザーが最も成熟した応用分野は民生用電子機器です。超高速レーザーを用いて民生用電子機器の画面全体を切断することで、加工精度と効率を大幅に向上させることができます。また、超高速レーザーは3Dガラスカバーやカメラカバーの切断にも有利です。
パネルフィールドを表示します。
OLEDパネルには多くの高分子材料が使用されています。超高速レーザーの「冷間加工」機能は、高温による高分子材料の液化を回避できます。そのため、超高速レーザーはOLEDパネルの切断や剥離に非常によく使用されています。
PCB分野。
超高速レーザーは、PCB や FPC の加工においてナノ秒レーザーに取って代わるものになると期待されています。
超高速レーザーは、レーザー業界において最も注目を集めるレーザー光源となっています。海外のレーザー企業も国内のレーザー企業も、徐々に超高速レーザー市場に参入し、独自の超高速レーザーを開発しています。これは、近い将来、超高速レーザーの用途がますます拡大し、加工技術においてますます重要な役割を果たすようになることを意味します。
前述の通り、超高速レーザーは高精度で知られており、温度制御はこの高精度化に密接に関連しています。超高速レーザーの需要の高まりに応えるため、S&A Teyuは、最大30Wまでの超高速レーザーの冷却に特化した小型循環水チラー、CWUPシリーズとRMUPシリーズを開発しました。これらの2つの超高速レーザー用小型循環水チラーは、±0.1℃の温度安定性を誇り、インテリジェントな温度コントローラーを搭載することで、水温の変動を最小限に抑えます。S&A Teyu超高速レーザーチラーの詳細については、 https://www.teyuchiller.com/ultrafast-laser-uv-laser-chiller_c3をご覧ください。
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