ファイバーレーザーチューブ切断システムには、レーザー光源として 500W ～ 12000W の信頼性の高いファイバーレーザーが装備されていることがよくあります。 この範囲のファイバーレーザー光源を冷却するために、当社ではそれぞれの産業プロセス水チラーを開発して冷却しています。 選択のガイドラインはこちら：
500W ファイバーレーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-500 の使用が推奨されます。
1000W ファイバー レーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-1000 の使用が推奨されます。
1500W ファイバー レーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-1500 の使用が推奨されます。
2000W ファイバーレーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-2000 の使用が推奨されます。
3000W ファイバー レーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-3000 の使用が推奨されます。
4000W ファイバー レーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-4000 の使用が推奨されます。
6000W ファイバーレーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-6000 の使用が推奨されます。
8000W ファイバー レーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-8000 の使用が推奨されます。
12000W ファイバー レーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-12000 の使用が推奨されます。
18 年間の開発を経て、当社は厳格な製品品質システムを確立し、確立されたアフターサービスを提供しています。 当社では、90 種類以上の標準水チラー モデルと 120 種類以上のカスタマイズ可能な水チラー モデルを提供しています。 0.6KW から 30KW までの冷却能力を備えた当社の水冷却装置は、さまざまなレーザー光源、レーザー加工機、CNC マシン、医療機器、実験装置などの冷却に適用できます。
