ファイバーレーザー管切断システムには、500Wから12000Wまでの信頼性の高いファイバーレーザーがレーザー光源として搭載されることが多くあります。この範囲のファイバーレーザー光源を冷却するために、当社ではそれぞれの産業用プロセス水チラーを開発しています。選定のガイドラインは以下のとおりです。
500W ファイバーレーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-500 の使用をお勧めします。1000W ファイバーレーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-1000 の使用が推奨されます。
1500W ファイバーレーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-1500 の使用が推奨されます。
2000W ファイバーレーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-2000 の使用が推奨されます。
3000W ファイバーレーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-3000 の使用が推奨されます。
4000W ファイバーレーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-4000 の使用が推奨されます。
6000W ファイバーレーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-6000 の使用が推奨されます。
8000W ファイバーレーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-8000 の使用が推奨されます。
12000W ファイバーレーザーの場合、工業用プロセス水チラー CWFL-12000 の使用が推奨されます。
18年間の開発を経て、厳格な製品品質システムを確立し、充実したアフターサービスを提供しています。標準モデルは90種類以上、カスタマイズモデルは120種類以上をご用意しています。冷却能力は0.6kWから30kWまで幅広く、様々なレーザー光源、レーザー加工機、CNC工作機械、医療機器、実験装置などの冷却にご利用いただけます。
