チラーアプリケーションビデオ
方法を見る TEYUの産業用チラーは、ファイバーレーザーやCO2レーザーからUVシステム、3Dプリンター、実験装置、射出成形など、様々な業界で活用されています。これらのビデオでは、実際の冷却ソリューションの活用例をご紹介します。
TEYU CWUL-10 UVレーザーチラーは、ミラーレーザーサンドブラスト機の精密な温度制御を実現します。安定したUVレーザー性能は、鮮明なパターンと均一な表面処理に不可欠です。連続加工中、UVレーザー光源は熱を発生し、ビームの安定性と彫刻精度に影響を与える可能性があります。CWUL-10は安定した温度環境を維持し、安定したレーザー出力と信頼性の高い鏡面仕上げを実現します。
TEYU CWUL-10は、高精度冷却とコンパクトな閉ループ設計により、敏感なUVレーザー部品の熱を効果的に放散し、熱ストレスを軽減します。安定した温度制御により、プロセスの再現性が向上し、機器の寿命が延長されるため、ミラーレーザーサンドブラストや精密表面加工に最適な信頼性の高い冷却ソリューションとなります。
TEYU CWUL-10は、高精度冷却とコンパクトな閉ループ設計により、敏感なUVレーザー部品の熱を効果的に放散し、熱ストレスを軽減します。安定した温度制御により、プロセスの再現性が向上し、機器の寿命が延長されるため、ミラーレーザーサンドブラストや精密表面加工に最適な信頼性の高い冷却ソリューションとなります。
2026
02
20
CWFL-3000 ファイバーレーザーチラーは、金属板工場で稼働するファイバーレーザーカッターに、安定的かつ効率的な冷却を提供するように設計されています。鋼板、ステンレス鋼、アルミニウム板の連続切断中、ファイバーレーザー光源と切断ヘッドは多大な熱を発生します。CWFL-3000は、デュアルサーキット冷却システムにより正確な温度制御を維持し、レーザー出力の安定化と一貫した切断品質の確保に貢献します。
ファイバーレーザーチラーCWFL-3000は、厳しい生産環境下でも信頼性の高い放熱を実現し、重要なレーザー部品への熱ストレスを軽減し、システムの長期的な安定性をサポートします。安定した冷却により、切断精度の向上、ダウンタイムの最小化、そして全体的な生産効率の向上を実現し、産業用ファイバーレーザー切断アプリケーションにおける信頼性の高い冷却ソリューションとなります。
ファイバーレーザーチラーCWFL-3000は、厳しい生産環境下でも信頼性の高い放熱を実現し、重要なレーザー部品への熱ストレスを軽減し、システムの長期的な安定性をサポートします。安定した冷却により、切断精度の向上、ダウンタイムの最小化、そして全体的な生産効率の向上を実現し、産業用ファイバーレーザー切断アプリケーションにおける信頼性の高い冷却ソリューションとなります。
2026
02
14
TEYU CWUL-05 UVレーザーチラーは、ノートパソコンのキーボード加工に使用されるUVレーザーマーカーの正確な温度制御を実現するために設計されています。UVレーザーは熱変動に非常に敏感であり、安定したレーザー出力と微細なマーキング品質を維持するには、安定した冷却が不可欠です。CWUL-05は、正確で信頼性の高い温度制御を実現することで、連続運転時においても鮮明な文字、均一なコントラスト、そして安定したマーキング性能を実現します。
CWUL-05は、コンパクトな設計と閉ループ冷却システムを備え、UVレーザー光源から熱を効果的に除去し、重要な部品への熱ストレスを軽減します。安定した温度制御により、プロセスの再現性が向上し、機器の寿命が延びるため、ノートパソコンのキーボードへのUVレーザーマーキング用途に最適な冷却ソリューションです。
CWUL-05は、コンパクトな設計と閉ループ冷却システムを備え、UVレーザー光源から熱を効果的に除去し、重要な部品への熱ストレスを軽減します。安定した温度制御により、プロセスの再現性が向上し、機器の寿命が延びるため、ノートパソコンのキーボードへのUVレーザーマーキング用途に最適な冷却ソリューションです。
2026
02
09
CO2 100W 3Dガルボレーザーマーキングマシン（600×600mm）は、高速かつ大面積のマーキング中に継続的に熱を発生するため、安定した性能を得るには安定した冷却が不可欠です。産業用水冷装置がCO2レーザー管と光学部品の閉ループ温度制御を提供し、安定したレーザー出力、正確なフォーカス、そして作業領域全体にわたる均一なマーキング品質を維持します。
産業用チラーは、余分な熱を効果的に除去することで熱ストレスを軽減し、主要コンポーネントの耐用年数を延ばします。安定した冷却は、プロセスの再現性とシステムの信頼性を向上させ、CO2 100W 3Dガルボレーザーマーキングマシンが長い生産サイクルと厳しい産業環境において効率的に稼働することを可能にします。
産業用チラーは、余分な熱を効果的に除去することで熱ストレスを軽減し、主要コンポーネントの耐用年数を延ばします。安定した冷却は、プロセスの再現性とシステムの信頼性を向上させ、CO2 100W 3Dガルボレーザーマーキングマシンが長い生産サイクルと厳しい産業環境において効率的に稼働することを可能にします。
2026
02
05
超高速レーザーは温度変化に非常に敏感で、ビームの安定性と出力性能に直接影響を及ぼします。TEYUの超高速レーザーチラーは±0.1℃の温度制御精度を実現し、安定した温度環境を作り出すことで、精密アプリケーションにおいて一貫したレーザー出力と信頼性の高い加工品質を維持します。
TEYU精密チラーは、精密な冷却と安定した動作により、レーザー部品への熱ストレスを軽減し、システムの長期的な信頼性をサポートします。正確な温度制御により、プロセスの再現性と全体的な効率が向上し、TEYUは超高速レーザーシステムにとって信頼性の高い冷却ソリューションとなります。
TEYU精密チラーは、精密な冷却と安定した動作により、レーザー部品への熱ストレスを軽減し、システムの長期的な信頼性をサポートします。正確な温度制御により、プロセスの再現性と全体的な効率が向上し、TEYUは超高速レーザーシステムにとって信頼性の高い冷却ソリューションとなります。
2026
01
30
TEYU 産業用チラーCW-6000は、厚さ3mmのカーボン材料の切断に使用される500W CO2レーザーカッターの安定した温度制御を実現します。レーザーの連続運転中は、レーザー出力の安定性と切断精度を維持するために、効果的な放熱が不可欠です。CW-6000は、効率的な冷却システムと閉ループ水循環により、レーザー光源を信頼性の高い動作温度範囲内に保ちます。
産業用チラーCW-6000は、安定した冷却を実現することで、CO2レーザー切断システムのクリーンな切断、安定した性能、そして長期稼働をサポートします。産業グレードの設計とインテリジェントな温度制御により、精度と信頼性が求められる高出力CO2レーザーアプリケーションに最適な冷却ソリューションを提供します。
産業用チラーCW-6000は、安定した冷却を実現することで、CO2レーザー切断システムのクリーンな切断、安定した性能、そして長期稼働をサポートします。産業グレードの設計とインテリジェントな温度制御により、精度と信頼性が求められる高出力CO2レーザーアプリケーションに最適な冷却ソリューションを提供します。
2026
01
27
CNC加工でアクリルを滑らかに切断するには、スピンドル速度や正確なツールパスだけでは不十分です。アクリルは熱に敏感で、わずかな温度変化でも溶解、接着、あるいはエッジの曇りを引き起こす可能性があります。加工精度と安定性を確保するには、強力な熱制御が不可欠です。
TEYU CW-3000産業用チラーは、この必要な安定性を提供します。効率的な熱除去を実現する設計により、連続彫刻中のCNCスピンドルの温度を一定に保ちます。熱の蓄積を抑えることで、よりスムーズな動作を実現し、工具の摩耗を軽減し、アクリルの変形を防ぎます。
スピンドル性能、加工戦略、そして信頼性の高い冷却システムが連携することで、アクリル切断はよりクリーンで静粛、そして予測可能なものになります。その結果、管理された製造プロセスを反映した、磨き上げられた仕上がりが実現し、信頼性の高い品質を実現します。
TEYU CW-3000産業用チラーは、この必要な安定性を提供します。効率的な熱除去を実現する設計により、連続彫刻中のCNCスピンドルの温度を一定に保ちます。熱の蓄積を抑えることで、よりスムーズな動作を実現し、工具の摩耗を軽減し、アクリルの変形を防ぎます。
スピンドル性能、加工戦略、そして信頼性の高い冷却システムが連携することで、アクリル切断はよりクリーンで静粛、そして予測可能なものになります。その結果、管理された製造プロセスを反映した、磨き上げられた仕上がりが実現し、信頼性の高い品質を実現します。
2026
01
16
実際の産業現場では、安定した温度制御がレーザー洗浄の安定した結果を得るために不可欠です。3000Wハンドヘルドレーザー洗浄システムは、一体型ハンドヘルドレーザーチラーCWFL-3000ENWと組み合わせることで、連続運転中に金属表面全体にわたってスムーズで制御された洗浄性能を実現します。
CWFL-3000ENWは、レーザー光源と光学部品を独立して制御するデュアルサーキット冷却設計を採用しています。インテリジェントな監視と効率的な放熱により、チラーは最適な動作温度を維持し、ビームの安定性を維持し、熱変動を最小限に抑え、均一な洗浄品質を実現します。この統合冷却ソリューションは、運用の信頼性を高め、プロフェッショナルなレーザー洗浄アプリケーションに求められる安定したユーザーエクスペリエンスを提供します。
CWFL-3000ENWは、レーザー光源と光学部品を独立して制御するデュアルサーキット冷却設計を採用しています。インテリジェントな監視と効率的な放熱により、チラーは最適な動作温度を維持し、ビームの安定性を維持し、熱変動を最小限に抑え、均一な洗浄品質を実現します。この統合冷却ソリューションは、運用の信頼性を高め、プロフェッショナルなレーザー洗浄アプリケーションに求められる安定したユーザーエクスペリエンスを提供します。
2025
12
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TEYU RMFL-1500は、ハンドヘルドレーザー溶接機および洗浄機に安定した高精度の冷却を提供するために設計されたコンパクトなラックマウント型チラーです。高効率冷却システムとデュアル回路設計により、限られたスペースでもレーザー光源とレーザーヘッドの両方に信頼性の高い温度制御を提供します。
インテリジェントな制御、複数の安全アラーム、RS-485接続を備えたRMFL-1500は、産業用レーザーシステムに容易に統合できます。過熱を防止し、安定した溶接および洗浄性能を確保し、機器の長期にわたるトラブルのない稼働をサポートするため、信頼できるチラーメーカーが提供する信頼性の高い冷却ソリューションとなっています。
インテリジェントな制御、複数の安全アラーム、RS-485接続を備えたRMFL-1500は、産業用レーザーシステムに容易に統合できます。過熱を防止し、安定した溶接および洗浄性能を確保し、機器の長期にわたるトラブルのない稼働をサポートするため、信頼できるチラーメーカーが提供する信頼性の高い冷却ソリューションとなっています。
2025
12
10
TEYU CWFL-1500ファイバーレーザーチラーは、リチウム電池製造に使用される1500Wロボット溶接システムに精密な温度管理を提供します。安定した温度制御により、熱の蓄積を最小限に抑え、温度ドリフトを低減し、高速自動化ラインにおける連続溶接をサポートします。高強度動作時にレーザー溶接ヘッドとバッテリーモジュールの両方を保護することで、安定した溶接品質と長期的な機器の信頼性を維持します。
インテリジェントな制御と強力な冷却能力を備えたCWFL-1500ファイバーレーザーチラーは、現代のバッテリー工場におけるプロセスの安定性を向上させます。シフト交代後も安定したパフォーマンスを確保し、高出力ロボットレーザー溶接環境に最適な信頼できる冷却ソリューションです。
インテリジェントな制御と強力な冷却能力を備えたCWFL-1500ファイバーレーザーチラーは、現代のバッテリー工場におけるプロセスの安定性を向上させます。シフト交代後も安定したパフォーマンスを確保し、高出力ロボットレーザー溶接環境に最適な信頼できる冷却ソリューションです。
2025
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デュアルワイヤハンドヘルドレーザー溶接機は、強力なレーザー熱源と2本の同期フィラーワイヤを組み合わせることで、高効率の「熱源＋デュアルフィラー」溶接プロセスを実現します。この技術により、より深い溶け込み、より速い溶接速度、より滑らかな継ぎ目が可能になりますが、同時に大量の熱が発生するため、正確な制御が必要となります。
TEYUのラック型レーザーチラーRMFL-3000は、レーザー光源、制御システム、ワイヤ送給機構の信頼性の高い温度制御を実現し、連続運転時における最適な熱安定性を確保します。コンパクトなラックマウント設計のRMFL-3000は、安定した溶接性能の維持、過熱防止、機器寿命の延長に貢献します。RMFL-3000のようなプロ仕様のレーザーチラーを選択することは、生産性の向上と優れた溶接品質の実現に不可欠です。
TEYUのラック型レーザーチラーRMFL-3000は、レーザー光源、制御システム、ワイヤ送給機構の信頼性の高い温度制御を実現し、連続運転時における最適な熱安定性を確保します。コンパクトなラックマウント設計のRMFL-3000は、安定した溶接性能の維持、過熱防止、機器寿命の延長に貢献します。RMFL-3000のようなプロ仕様のレーザーチラーを選択することは、生産性の向上と優れた溶接品質の実現に不可欠です。
2025
10
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半導体レーザーダイシングでは、温度変動がレーザーの精度と材料の完全性に直接影響を与える可能性があります。TEYU CWUP-20ANP 高精度チラーは、±0.08℃の精度で超安定的な温度制御を実現し、プロセス全体を通して安定したレーザー出力と優れたビーム品質を保証します。精密な温度管理により、繊細なウェハの熱応力とマイクロクラックを最小限に抑え、よりスムーズな切断と高い歩留まりを実現します。
高度な半導体製造および研究開発環境向けに設計されたCWUP-20ANPは、超高速レーザーシステムに信頼性の高い冷却性能を提供します。コンパクトな設計、エネルギー効率の高い動作、そしてインテリジェントな温度制御により、安定的かつ再現性の高いレーザー加工を可能にし、メーカーがダイシングサイクルごとに最高品質の結果を達成できるよう支援します。
高度な半導体製造および研究開発環境向けに設計されたCWUP-20ANPは、超高速レーザーシステムに信頼性の高い冷却性能を提供します。コンパクトな設計、エネルギー効率の高い動作、そしてインテリジェントな温度制御により、安定的かつ再現性の高いレーザー加工を可能にし、メーカーがダイシングサイクルごとに最高品質の結果を達成できるよう支援します。
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