携帯電話のシェルレーザーマーキングマシンのコアコンポーネントとしてのレーザー光源は、動作中に過熱する傾向があります。したがって、冷却装置は、それから熱を取り除くためにしばしば装備されます。ただし、空冷または水冷のどちらが優れているかは、レーザー光源のレーザー出力に依存します。空冷は小出力レーザーマーキングマシンに適しており、水冷は高出力レーザーマーキングマシンに適しています。水冷はしばしば水冷工業用チラーと呼ばれ、高効率の冷凍性能を備えた調整可能な温度制御を提供し、レーザーマーキングマシンのユーザーの間で非常に人気があります。
18年の開発を経て、厳格な製品品質システムを確立し、確立されたアフターサービスを提供します。カスタマイズ用に90以上の標準ウォーターチラーモデルと120以上のウォーターチラーモデルを提供しています。 0.6KWから30KWの範囲の冷却能力を備えた当社のウォーターチラーは、さまざまなレーザー光源、レーザー加工機、CNC機、医療機器、実験装置などの冷却に適用できます。
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