携帯電話シェルレーザーマーキングマシンのコアコンポーネントであるレーザーソースは、動作中に過熱する傾向があります。 そのため、熱を取り除くために冷却装置が装備されていることが多いです。 ただし、空冷と水冷のどちらが優れているかは、レーザー ソースのレーザー出力によって異なります。 空冷は小出力レーザーマーキングマシンに適していますが、水冷は高出力レーザーマーキングマシンに適しています。 水冷は、高効率の冷凍性能を備えた調整可能な温度制御を提供し、レーザーマーキングマシンのユーザーの間で非常に人気がある水冷工業用チラーと呼ばれることがよくあります。
18 年間の開発を経て、当社は厳格な製品品質システムを確立し、確立されたアフターサービスを提供しています。 当社では、90 種類以上の標準水チラー モデルと 120 種類以上のカスタマイズ可能な水チラー モデルを提供しています。 0.6KW から 30KW までの冷却能力を備えた当社の水冷却装置は、さまざまなレーザー光源、レーザー加工機、CNC マシン、医療機器、実験装置などの冷却に適用できます。
