携帯電話シェルレーザーマーキングマシンのコアコンポーネントであるレーザー光源は、動作中に過熱する傾向があります。そのため、熱を逃がすための冷却装置が装備されることがよくあります。しかし、空冷式と水冷式のどちらが適しているかは、レーザー光源のレーザー出力によって異なります。空冷式は小出力レーザーマーキングマシンに適しており、水冷式は高出力レーザーマーキングマシンに適しています。水冷式は、高効率冷却性能を備えた調整可能な温度制御機能を備えた水冷式産業用チラーと呼ばれることが多く、レーザーマーキングマシンのユーザーに非常に人気があります。
18年間の開発を経て、厳格な製品品質システムを確立し、充実したアフターサービスを提供しています。標準モデルは90種類以上、カスタマイズモデルは120種類以上をご用意しています。冷却能力は0.6kWから30kWまで幅広く、様々なレーザー光源、レーザー加工機、CNC工作機械、医療機器、実験装置などの冷却にご利用いただけます。
