超高速レーザーとUVレーザーは超高精度で知られており、PCB、薄膜、半導体プロセス、マイクロマシニングに最適です。しかし、高精度であるがゆえに、熱変化に非常に敏感です。ごくわずかな温度変動でさえ、レーザーの性能に大きな違いをもたらす可能性があります。このような高精度のレーザーには、同様に高精度な水冷装置が不可欠です。
S&A CWUP および CWUL シリーズ水冷却ユニットは、コンパクトなパッケージで高精度の冷却を実現し、5W ~ 40W の超高速レーザーや UV レーザーの冷却に適しています。
同様に精密な温度制御機能を備えたラックマウントチラーをお探しなら、RMUPシリーズが最適です。3W~15Wの超高速レーザーおよびUVレーザーの冷却に適しています。