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超高速レーザーチラーが超高速レーザー加工を護衛

2023-02-13

超高速レーザー加工とは何ですか？超高速レーザーとは、パルス幅がピコ秒レベル以下のパルスレーザーです。1ピコ秒は10の⁻¹²秒に相当し、空気中の光の速度は3×10⁸m/sで、地球から月まで光が移動するのは約1.3秒かかります。1ピコ秒の時間内に光が移動する距離は0.3mmです。パルスレーザーは非常に短い時間で放射されるため、超高速レーザーと材料との相互作用時間も短くなります。従来のレーザー加工と比較して、超高速レーザー加工の熱影響は比較的小さいため、超高速レーザー加工は主にサファイア、ガラス、ダイヤモンド、半導体、セラミックス、シリコンなどの硬くて脆い材料の微細な穴あけ、切断、彫刻の表面処理に使用されます。超高速レーザー装置の高精度加工には、冷却用の高精度チラーが必要です。 S&A 高出力・超高速レーザーチラーは、最大±0.1℃の温度制御安定性を備え、...

S&A チラーについて

S&A Chillerは、長年のチラー製造経験を活かして2002年に設立され、現在ではレーザー業界における冷却技術の先駆者および信頼できるパートナーとして認められています。S&A Chillerは、高性能、高信頼性、エネルギー効率に優れた高品質の産業用水チラーを提供することで、その約束を果たします。

当社の循環式水冷装置は、幅広い産業用途に最適です。特にレーザー用途向けには、スタンドアロン型からラックマウント型まで、低出力から高出力まで、±1℃から±0.1℃の安定性技術を適用した、包括的なレーザー水冷装置ラインナップを開発しています。

水冷却装置は、ファイバーレーザー、CO2レーザー、UVレーザー、超高速レーザーなどの冷却に広く使用されています。その他の産業用途には、CNCスピンドル、工作機械、UVプリンター、真空ポンプ、MRI装置、誘導炉、ロータリーエバポレーター、医療診断装置、および精密冷却を必要とするその他の装置が含まれます。

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