言語

超高速レーザーチラーが超高速レーザー加工を支援

2023-02-13

超高速レーザー加工とは？超高速レーザーとは、パルス幅がピコ秒レベル以下のパルスレーザーのことです。 1 ピコ秒は 10⁻¹² 秒に等しく、空気中の光の速度は 3 X 10⁸m/s であり、光が地球から月まで移動するには約 1.3 秒かかります。 1ピコ秒の間に光が移動する距離は0.3mmです。パルスレーザーは非常に短時間で放射されるため、超高速レーザーと物質との相互作用時間も短くなります。従来のレーザー加工と比較すると、超高速レーザー加工の熱影響は比較的小さいため、超高速レーザー加工は主にサファイア、ガラス、ダイヤモンド、半導体、セラミック、シリコンなどの硬くて脆い材料の微細穴あけ、切断、彫刻の表面処理に使用されます。超高速レーザー装置の高精度加工には、冷却するための高精度チラーが必要です。 S&高出力 & 超高速レーザーチラーは、±0.1℃までの温度制御安定性を備えており、

Sについて&チラー

S&A Chiller は長年のチラー製造経験を経て 2002 年に設立され、現在ではレーザー業界における冷却技術の先駆者および信頼できるパートナーとして認められています。 S&チラーは約束どおり、高性能、高信頼性、エネルギー効率に優れた工業用水チラーを優れた品質で提供します。

当社の循環水冷却装置は、さまざまな産業用途に最適です。特にレーザー用途では、スタンドアロンユニットからラックマウントユニット、低出力から高出力シリーズまで、±1℃から±0.1℃の安定性技術を適用したレーザー水チラーの完全なラインを開発しています。

水チラーは、ファイバーレーザー、CO2レーザー、UVレーザー、超高速レーザーなどの冷却に広く使用されています。その他の産業用途としては、CNCスピンドル、工作機械、UVプリンター、真空ポンプ、MRI装置、誘導炉、ロータリーエバポレーター、医療診断装置、精密冷却を必要とするその他の装置などがある。