Лазерная очистка использует высокочастотный и высокоэнергетический лазерный импульс, воздействующий на поверхность заготовки. Поверхность заготовки поглощает сфокусированную энергию лазера, благодаря чему масляные пятна, ржавчина или налёт мгновенно испаряются. Это очень полезно и эффективно для удаления нежелательных загрязнений. Поскольку время взаимодействия лазера с заготовкой очень короткое, материал не повреждается.
Лазерный очиститель подходит для обработки самых разных материалов и имеет широкий спектр применения. Он может использоваться для удаления покрытия или краски с поверхности металла и стекла. Он также подходит для удаления ржавчины, окислов, жира, клея, пыли, пятен, остатков и т. д. Лазерный очиститель также подходит для очистки культурных реликвий, камней и наружных поверхностей зданий.
Поскольку лазерная очистная машина имеет так много применений, она очень популярна в автомобильной промышленности, очистке полупроводниковых пластин, производстве высокоточных деталей, очистке военной техники, внешней уборке зданий, очистке культурных реликвий, очистке печатных плат и т. д.
В качестве источника лазерного луча в лазерной очистной установке используется волоконный лазер или лазерный диод. Это играет важную роль в обеспечении качества лазерного луча. Для поддержания превосходного качества луча источник лазерного луча должен быть надлежащим образом охлажден. Это означает, что необходимо использовать промышленную систему рециркуляции охладитель. S&A Серия Teyu CWFL идеально подходит для охлаждения лазерной очистной установки, поскольку оснащена двойной системой контроля температуры, которая одновременно охлаждает источник лазера и лазерную головку. Кроме того, системы рециркуляции воды серии CWFL охладитель оснащены интеллектуальными терморегуляторами, которые обеспечивают автоматическую регулировку температуры воды, что очень удобно для пользователя. Для получения дополнительной информации о чиллерах с рециркуляцией воды серии CWFL перейдите по ссылке https://www.chillermanual.net/fiber-laser-chillers_c2
