В реальных условиях промышленных цехов стабильный контроль температуры имеет решающее значение для достижения стабильных результатов лазерной очистки. Ручная лазерная система очистки мощностью 3000 Вт в сочетании со встроенным ручным лазерным охладителем CWFL-3000ENW обеспечивает плавную и контролируемую очистку металлических поверхностей в режиме непрерывной работы.
Система охлаждения CWFL-3000ENW имеет двухконтурную конструкцию, которая независимо регулирует работу лазерного источника и оптических компонентов. Благодаря интеллектуальному мониторингу и эффективному отводу тепла, чиллер поддерживает оптимальные рабочие температуры, способствуя сохранению стабильности луча, минимизации температурных колебаний и обеспечению равномерного качества очистки. Это интегрированное решение для охлаждения повышает надежность работы и обеспечивает стабильную и уверенную работу, необходимую для профессиональной лазерной очистки.
