2002年以来、レーザーシステムと産業用アプリケーション向けの精密温度制御
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レーザーマーキング技術は1970年代に最初に発明されて以来、非常に急速に発展してきました。 1988年までに、レーザーマーキングは最大のアプリケーションの1つになり、世界の産業用アプリケーション全体の29％を占めています。
レーザーマーキングは、汚染や損傷がなく、コンピューター技術と統合する機能を備えた非接触技術です。これは、現在の市場で最も広く使用されているレーザー技術の1つです。レーザーマーキングは、被写体に高エネルギーで高密度のレーザー光を投射し、被写体の表面が蒸発または変色して永久的なマーキングを形成するようにします。高精度、幅広い用途、消耗品、高効率、汚染がないことが特徴です。
国内のレーザーマーキングマシンはハイエンドの方向に向かっているので、それらのアクセサリーは最新の技術に追いつく必要があります。そしてコアアクセサリーとして、レーザークーラーは可能な限り正確である必要があります。 S&A CWUPシリーズ循環水チラーは、±0.1℃の正確な温度制御と小さな設置面積で知られています。さらに、Modbus485通信プロトコルもサポートしており、リモートコントロールが可能です。 CWUPシリーズレーザークーラーの詳細については、次のURLをご覧ください。 https://www.teyuchiller.com/ultrafast-laser-uv-laser-chiller_c3
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