レーザーマーキングマシンは、レーザー光源の観点から、ファイバーレーザーマーキングマシン、CO2レーザーマーキングマシン、UVレーザーマーキングマシンに分類できます。 ファイバーレーザーマーキングマシンの場合、熱負荷が小さいため、熱を取り除くために空冷が使用されることが多いです。 CO2 レーザーマーキングマシンの場合、そのパワーによって異なります。 たとえば、高出力の CO2 レーザーマーキング マシンでは、工業用水チラー マシンと呼ばれる水冷がよく使用されます。 UVレーザーマーキングマシンの場合、工業用水チラーマシンを装備することはほぼ標準的な方法です。
17 年間の開発を経て、当社は厳格な製品品質システムを確立し、確立されたアフターサービスを提供しています。 当社では、90 種類以上の標準水チラー モデルと 120 種類以上のカスタマイズ可能な水チラー モデルを提供しています。 0.6KWから30KWまでの冷却能力を備えた当社の水チラーは、さまざまなレーザー光源、レーザー加工機、CNCマシン、医療機器、実験装置などの冷却に適しています。
