水冷は、CO₂レーザーが達成できる全出力範囲をカバーします。実際の製造工程では、通常、冷却装置の水温調整機能を使用して、レーザー装置を適切な温度範囲内に保ち、レーザー装置の継続的かつ安定した動作を保証します。
CO2 レーザーで一般的に使用される放熱方法には、空冷と水冷の 2 つがあります。 空冷による放熱は主に低出力レーザーに使用され、その出力は通常 100W を超えません。水冷は、CO₂ レーザーが達成できる出力範囲全体をカバーします。
水冷では通常、レーザーからの熱を放散するための冷却水として純水、蒸留水、または脱イオン水を使用します。熱放散に影響を与える主な要因は温度差です。 冷却水の温度が上昇すると、温度差が減少して放熱効果が減少し、レーザー出力に影響を与えます。したがって、冷却水の温度を下げることで放熱性が向上し、ある程度のレーザー出力を高めることができます。ただし、冷却水は無制限に減らすことはできません。温度が低すぎるとウォームアップ時間が長くなり、レーザーの表面に結露が発生する可能性があり、レーザーの使用に影響を与え、さらにはレーザーの耐用年数が短くなります。
実際の生産工程では、通常、レーザー装置を適切な温度範囲に保つためにチラーの水温調整機能が使用され、レーザー装置の継続的かつ安定した動作が保証されます。 の CWシリーズチラー によって開発された S&A CO2レーザー用 一定温度とインテリジェント温度制御の 2 つのモードがあります。温度制御精度は±0.3℃まで正確で、ほとんどのCO2レーザーの冷却要件を満たし、CO2レーザー装置が安定して効率的に動作し続けることを保証します。
S&A チラー は 2002 年に設立され、チラー製造において 20 年以上の経験があります。 S&A は、ほとんどのファイバーレーザー機器、CO2レーザー機器、紫外線レーザー機器、その他の産業用加工機器の冷却要件を満たすことができるチラーシリーズ製品をいくつか開発しました。同時に、 S&A また、製品とサービスを継続的に改善し、高性能、高信頼性、高エネルギー効率を備えた高品質の産業用チラーをほとんどのレーザー機器メーカーに提供しています。
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