2002 年以来、レーザー システムおよび産業用アプリケーションの正確な温度制御を行っています
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水冷は、CO₂レーザーが達成できる全出力範囲をカバーします。実際の製造工程では、通常、冷却装置の水温調整機能を使用して、レーザー装置を適切な温度範囲内に保ち、レーザー装置の継続的かつ安定した動作を保証します。
CO2レーザーで一般的に使用される放熱方法には、空冷と水冷の2つがあります。空冷式の放熱は主に低出力レーザーに使用され、その出力は通常100Wを超えません。水冷は、CO₂レーザーが達成できる全出力範囲をカバーします。
水冷は通常、レーザーからの熱を放散するための冷却水として、純水、蒸留水、または脱イオン水を使用します。熱放散に影響を与える主な要因は温度差です。冷却水の温度が上昇すると、温度差と放熱効果が減少し、それによってレーザー出力に影響を与えます。したがって、冷却水の温度を下げると、放熱が改善され、レーザー出力がある程度向上します。ただし、冷却水を無期限に減らすことはできません。温度が低すぎると、ウォームアップ時間が長くなり、レーザーの表面に凝縮が発生して、レーザーの使用に影響を与え、さらには寿命が短くなる可能性があります。
実際の製造工程では、通常、冷却装置の水温調整機能を使用して、レーザー装置を適切な温度範囲内に保ち、レーザー装置の継続的かつ安定した動作を保証します。 TheCWシリーズチラー によって開発された S&A CO2レーザー用 一定温度とインテリジェント温度制御の2つのモードがあります。温度制御の精度は±0.3℃まで正確であり、ほとんどのCO2レーザーの冷却および冷却要件を満たし、CO2レーザー装置が継続して安定して効率的に動作することを保証します。
S&A チラー 2002年に設立され、チラー製造で20年以上の経験があります。 S&A は、ほとんどのファイバーレーザー装置、CO2レーザー装置、紫外線レーザー装置、およびその他の産業用処理装置の冷却要件のニーズを満たすことができる、いくつかのチラーシリーズ製品を開発しました。同時に、 S&A また、製品とサービスを絶えず改善しており、大多数のレーザー機器メーカーに高性能、高信頼性、高エネルギー効率を備えた高品質の産業用チラーを提供しています。
てゆ S&A Chiller は 21 年間のチラー製造経験を積んで 2002 年に設立され、現在ではレーザー業界における冷却技術のパイオニアおよび信頼できるパートナーとして認められています。
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