隨著半導體尺寸越來越小，積體電路製造流程也變得越來越複雜，需要數百甚至數千道工序。在每一道工序中，半導體表面都不可避免地會沾染或多或少的顆粒污染物、金屬殘留物或有機殘留物。這些顆粒和殘留物與半導體基材具有很強的吸附性。對於傳統的化學清洗、機械清洗和超音波清洗等方法來說，去除這些顆粒和殘留物是一項巨大的挑戰。但雷射清洗卻非常便捷有效率。
雷射清洗具有傳統清洗方法所不具備的許多優勢，使其成為半導體產業的理想清洗方案。
優勢：
1.雷射清洗是非接觸式的，可以很容易地與機械手臂集成，進行遠距離清洗，到達傳統清洗方法難以到達的地方；
2.雷射清洗機無需任何耗材即可長時間穩定工作，因此運作和維護成本非常低。一次投資即可確保多次使用；
3.雷射清洗機可以處理材料表面的各種污染物，實現高度清潔。此外，它在運行過程中不會產生任何廢料，因此是一種綠色清潔技術。與其他許多雷射設備一樣，雷射清洗機也由特定類型的雷射光源驅動。雷射清洗機常用的雷射光源包括二氧化碳雷射和光纖雷射。為了避免過熱，雷射清洗機通常配備工業水冷機。 S&A Teyu 雷射水冷機適用於冷卻不同功率的二氧化碳雷射和光纖雷射。 CW 系列水冷機因其溫度穩定性可達 ±1℃ 至 ±0.1℃，在冷卻二氧化碳玻璃雷射管和二氧化碳金屬雷射管方面廣受歡迎。 CWFL 系列水冷機是冷卻 500W 至 20000W 光纖雷射的理想選擇，並提供獨立式和機架式兩種型號。如果您不確定該選擇哪一款雷射水冷機，歡迎隨時發送電子郵件諮詢。marketing@teyu.com.cn我們的同事會盡快回覆您。
