自 2002 年以來，為雷射系統和工業應用提供精確的溫度控制
語言
隨著半導體越來越小，集成電路的製造工藝也越來越複雜，需要幾百上千道工序。而經過每道工序，半導體不可避免地會被或多或少的顆粒污染物、金屬殘留物或有機物殘留物所覆蓋。而這些顆粒和殘渣對半導體基材的基礎有很強的吸收能力。去除這些顆粒和殘留物對於化學清洗、機械清洗和超聲波清洗等傳統方法來說是一個巨大的挑戰。但是對於激光清洗，它’非常好和容易。
優點：
1.激光清洗非接觸式，可輕鬆與機械臂集成進行遠距離清洗，到達傳統清洗方式難以觸及的部位；
2.激光清洗機無需任何耗材即可長期穩定工作。因此，其運行和維護成本相當低。一次投資可保證多次使用；
像許多其他激光設備一樣，激光清洗機由某些類型的激光源驅動。激光清洗機常用的激光源有CO2激光和光纖激光。並且為了避免過熱，激光清洗機通常配備工業冷水機。 S&A 特宇激光冷水機適用於冷卻不同功率的CO2激光器和光纖激光器。 CW 系列冷水機在冷卻 CO2 玻璃激光管和 CO2 金屬激光管方面非常受歡迎，其溫度穩定性範圍為±1℃ 至±0.1℃. CWFL 系列冷卻器非常適合冷卻 500W 至 20000W 的光纖激光器，並提供獨立單元和機架安裝單元。如果您不確定選擇哪種激光冷水機，您可以發送電子郵件至[email protected] 我們的同事會盡快回复您。
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