随着半导体尺寸越来越小，集成电路制造工艺也越来越复杂，需要数百甚至数千道工序。而每道工序，半导体表面不可避免地会沾染上或多或少的颗粒污染物、金属残留物或有机残留物。这些颗粒和残留物由于半导体基底材料的特性，具有很强的吸附能力。对于化学清洗、机械清洗和超声波清洗等传统方法来说，去除这些颗粒和残留物是一项巨大的挑战。而对于激光清洗来说，去除这些颗粒和残留物则变得非常简单。
激光清洗具有许多传统清洗方法所不具备的优点，是半导体理想的清洗解决方案。
优点：
1.激光清洗是非接触式的，可以轻松与机械臂集成进行远距离清洗，到达传统清洗方法难以到达的位置；
2.激光清洗机无需任何耗材，可长期稳定工作，运行维护成本低，一次投资，可多次使用；
3.激光清洗机可以有效处理材料表面各种污染物，达到较高的清洁度，且在操作过程中不会产生任何废弃物，是一种绿色清洗技术。与许多其他激光设备一样，激光清洗机由特定类型的激光源供电。激光清洗机的常见激光源是二氧化碳激光器和光纤激光器。为了避免过热，激光清洗机通常配备工业冷水机。S&A 特宇激光冷水机适用于冷却不同功率的二氧化碳激光器和光纤激光器。CW系列冷水机在冷却二氧化碳玻璃激光管和二氧化碳金属激光管方面非常受欢迎，温度稳定性范围为±1℃至±0.1℃。CWFL系列冷水机是冷却500W至20000W光纤激光器的理想选择，有独立式和机架式两种型号。如果您不确定选择哪款激光冷水机，可以发送电子邮件至marketing@teyu.com.cn我们的同事将很快回复您。
