隨著半導體越來越小，積體電路製造流程也越來越複雜，需要幾百、幾千道工序。 而半導體經過每一道工序時，不可避免地會沾染上或多或少的顆粒污染物、金屬殘留物或有機物殘留物。 而這些顆粒和殘留物以半導體基材為基礎，具有很強的吸收能力。 對於化學清洗、機械清洗和超音波清洗等傳統方法來說，去除這些顆粒和殘留物是一項巨大的挑戰。 但對於雷射清洗來說，它非常好而且容易
雷射清洗具有許多傳統清洗方法所不具備的優點，是半導體清洗的理想解決方案，
優勢:
1.雷射清洗屬於非接觸式清洗，可輕鬆與機械手臂集成，進行遠距離清洗，達到傳統清洗方式難以觸及的點；
2.雷射清洗機可長期穩定運作，無需任何耗材。 因此其運作和維護成本相當低。 一次投資可保證多次使用；
3.雷射清洗機可以處理材料表面各種污染物，達到較高的清潔度。 而且它在運行過程中不會產生任何廢物，因此它是一種綠色清潔技術。
與許多其他雷射設備一樣，雷射清洗機由某些類型的雷射源供電。 而雷射清洗機常見的雷射光源有CO2雷射和光纖雷射。 並且為了避免過熱，雷射清洗機通常會配備工業冷水機。 S&Teyu雷射冷水機適用於冷卻不同功率的CO2雷射和光纖雷射。 CW系列冷水機在冷卻CO2玻璃雷射管和CO2金屬雷射管方面非常受歡迎，其溫度穩定性範圍為 ±1℃ 至 ±0.1℃. CWFL 系列冷水機非常適合冷卻 500W 至 20000W 的光纖雷射器，有獨立式和機架式兩種形式。 如果您不確定選擇哪一款雷射水冷機，您可以發送電子郵件至 marketing@teyu.com.cn 我們的同事將很快回覆您
