隨著半導體尺寸越來越小，積體電路製造流程也越來越複雜，需要數百甚至數千道工序。而每道工序，半導體表面不可避免地會沾染上或多或少的顆粒污染物、金屬殘留物或有機殘留物。這些顆粒和殘留物由於半導體基底材料的特性，具有很強的吸附能力。對於化學清洗、機械清洗和超音波清洗等傳統方法來說，去除這些顆粒和殘留物是一項巨大的挑戰。而對於雷射清洗來說，去除這些顆粒和殘留物則變得非常簡單。
雷射清洗具有許多傳統清洗方法所不具備的優點，是半導體理想的清洗解決方案。
優點：
1.雷射清洗是非接觸式的，可以輕鬆與機械手臂整合進行遠距離清洗，到達傳統清洗方法難以到達的位置；
2.雷射清洗機無需任何耗材，可長期穩定工作，運轉維護成本低，一次投資，可多次使用；
3.雷射清洗機可有效處理材料表面各種污染物，達到較高的清潔度，且在清洗過程中不會產生任何廢棄物，是一種綠色清洗技術。與許多其他雷射設備一樣，雷射清洗機由特定類型的雷射源供電。雷射清洗機的常見雷射光源是二氧化碳雷射和光纖雷射。為了避免過熱，雷射清洗機通常配備工業冷水機。 S&A 特宇雷射冷水機適用於冷卻不同功率的二氧化碳雷射和光纖雷射。 CW系列冷水機在冷卻二氧化碳玻璃雷射管和二氧化碳金屬雷射管方面非常受歡迎，溫度穩定性範圍為±1℃至±0.1℃。 CWFL系列冷水機是冷卻500W至20000W光纖雷射的理想選擇，有獨立式和機架式兩種型號。如果您不確定要選擇哪一款雷射冷水機，可以發送電子郵件至marketing@teyu.com.cn我們的同事將很快回覆您。
