自 2002 年以来，为激光系统和工业应用提供精确的温度控制
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随着半导体越来越小，集成电路的制造工艺也越来越复杂，需要几百上千道工序。而经过每道工序，半导体不可避免地会被或多或少的颗粒污染物、金属残留物或有机物残留物所覆盖。而这些颗粒和残渣对半导体基材的基础有很强的吸收能力。去除这些颗粒和残留物对于化学清洗、机械清洗和超声波清洗等传统方法来说是一个巨大的挑战。但是对于激光清洗，它’非常好和容易。
优点：
1.激光清洗非接触式，可轻松与机械臂集成进行远距离清洗，到达传统清洗方式难以触及的部位；
2.激光清洗机无需任何耗材即可长期稳定工作。因此，其运行和维护成本相当低。一次投资可保证多次使用；
像许多其他激光设备一样，激光清洗机由某些类型的激光源驱动。激光清洗机常用的激光源有CO2激光和光纤激光。并且为了避免过热，激光清洗机通常配备工业冷水机。 S&A 特宇激光冷水机适用于冷却不同功率的CO2激光器和光纤激光器。 CW 系列冷水机在冷却 CO2 玻璃激光管和 CO2 金属激光管方面非常受欢迎，其温度稳定性范围为±1℃ 至±0.1℃. CWFL 系列冷却器非常适合冷却 500W 至 20000W 的光纤激光器，并提供独立单元和机架安装单元。如果您不确定选择哪种激光冷水机，您可以发送电子邮件至[email protected] 我们的同事会尽快回复您。
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