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半导体激光清洗应用

激光清洗具有许多传统清洗方法所不具备的优点,是理想的半导体清洗方案。

随着半导体越来越小,集成电路的制造工艺也越来越复杂,需要几百上千道工序。而经过每道工序,半导体不可避免地会被或多或少的颗粒污染物、金属残留物或有机物残留物所覆盖。而这些颗粒和残渣对半导体基材的基础有很强的吸收能力。去除这些颗粒和残留物对于化学清洗、机械清洗和超声波清洗等传统方法来说是一个巨大的挑战。但是对于激光清洗,它’非常好和容易。 


激光清洗具有传统清洗方法所不具备的诸多优点’没有,这使其成为理想的半导体清洗解决方案。 

优点:


1.激光清洗非接触式,可轻松与机械臂集成进行远距离清洗,到达传统清洗方式难以触及的部位;


2.激光清洗机无需任何耗材即可长期稳定工作。因此,其运行和维护成本相当低。一次投资可保证多次使用;


3.激光清洗机可以处理材料表面的各种污染物,实现高度清洁。另外,它赢了’运行过程中不产生任何废物,是一种绿色清洁技术。

像许多其他激光设备一样,激光清洗机由某些类型的激光源驱动。激光清洗机常用的激光源有CO2激光和光纤激光。并且为了避免过热,激光清洗机通常配备工业冷水机。 S&A 特宇激光冷水机适用于冷却不同功率的CO2激光器和光纤激光器。 CW 系列冷水机在冷却 CO2 玻璃激光管和 CO2 金属激光管方面非常受欢迎,其温度稳定性范围为±1℃ 至±0.1℃. CWFL 系列冷却器非常适合冷却 500W 至 20000W 的光纤激光器,并提供独立单元和机架安装单元。如果您不确定选择哪种激光冷水机,您可以发送电子邮件至[email protected] 我们的同事会尽快回复您。 


industrial water chiller

基本信息
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