随着半导体尺寸越来越小，集成电路制造工艺也变得越来越复杂，需要数百甚至数千道工序。在每一道工序中，半导体表面都不可避免地会沾染或多或少的颗粒污染物、金属残留物或有机残留物。这些颗粒和残留物与半导体基材具有很强的吸附性。对于传统的化学清洗、机械清洗和超声波清洗等方法来说，去除这些颗粒和残留物是一项巨大的挑战。但激光清洗却非常便捷高效。
激光清洗具有传统清洗方法所不具备的许多优势，使其成为半导体行业的理想清洗方案。
优势：
1.激光清洗是非接触式的，可以很容易地与机械臂集成，进行远距离清洗，到达传统清洗方法难以到达的地方；
2.激光清洗机无需任何耗材即可长时间稳定工作，因此运行和维护成本非常低。一次投资即可确保多次使用；
3.激光清洗机可以处理材料表面的各种污染物，实现高度清洁。此外，它在运行过程中不会产生任何废料，因此是一种绿色清洁技术。与其他许多激光设备一样，激光清洗机也由特定类型的激光源驱动。激光清洗机常用的激光源包括二氧化碳激光器和光纤激光器。为了避免过热，激光清洗机通常配备工业水冷机。S&A Teyu 激光水冷机适用于冷却不同功率的二氧化碳激光器和光纤激光器。CW 系列水冷机因其温度稳定性可达 ±1℃ 至 ±0.1℃，在冷却二氧化碳玻璃激光管和二氧化碳金属激光管方面广受欢迎。CWFL 系列水冷机是冷却 500W 至 20000W 光纤激光器的理想选择，并提供独立式和机架式两种型号。如果您不确定该选择哪款激光水冷机，欢迎随时发送电子邮件咨询。marketing@teyu.com.cn我们的同事会尽快回复您。
