チラーアプリケーション
2002年以来、レーザーシステムと産業用アプリケーション向けの精密温度制御
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チップは、情報化時代のコア技術製品です。一粒の砂から生まれました。チップに使用される半導体材料は単結晶シリコンで、砂のコア成分は二酸化ケイ素です。シリコン製錬、精製、高温成形、回転延伸を経て、砂は単結晶シリコン棒になり、切断、研削、スライス、面取り、研磨を経て、最終的にシリコンウェーハが作られます。シリコンウェーハは、半導体チップ製造の基本材料です。品質管理とプロセス改善の要件を満たし、その後の製造テストとパッケージング プロセスでのウェーハの管理と追跡を容易にするために、明確な文字や QR コードなどの特定のマークをウェーハまたは結晶粒子の表面に刻印することができます。レーザーマーキングは、高エネルギービームを使用して非接触でウェーハを照射します。彫刻命令を迅速に実行する一方で、レーザー機器も冷却する必要があります。 S&A UVレーザーチラー 安定した光出力を確保し、ウェーハ表面の高精度マーキング要件を満たします。
一粒の砂からシリコンウェーハ、そして完全なチップに至るまで、製造プロセスの精度には非常に厳しい要求があります。レーザーマーキングの精度は、必然的に正確な温度制御ソリューションに関連しています。 S&A チップ生産の複雑で退屈なプロセスではチラーは小さいように見えますが、中間リンクの重要な精度保証であり、チップがより洗練された分野に行くことは無数の詳細な精度の保証と一緒です.
S&A Chiller は 2002 年に設立され、長年のチラー製造の経験を持ち、現在では冷却技術のパイオニアであり、レーザー業界の信頼できるパートナーとして認められています。 S&A チラーは、高性能で信頼性が高く、エネルギー効率に優れた産業用水チラーを優れた品質で提供するという約束を果たします。
当社の再循環水チラーは、さまざまな産業用途に最適です。特にレーザー アプリケーションでは、スタンドアロン ユニットからラック マウント ユニットまで、低出力から高出力シリーズまで、±1℃～±0.1℃の安定性技術を適用したレーザー水チラーの完全なラインを開発しています。
水チラーは、ファイバーレーザー、CO2レーザー、UVレーザー、超高速レーザーなどを冷却するために広く使用されています。その他の産業用途には、CNCスピンドル、工作機械、UVプリンター、真空ポンプ、MRI装置、誘導炉、ロータリーエバポレーター、医療診断装置が含まれます正確な冷却を必要とするその他の機器。
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TEYU S&A Chiller は 23 年のチラー製造経験を持ち、2002 年に設立されました。現在では、冷却技術の先駆者であり、レーザー業界の信頼できるパートナーとして認められています。
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