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チップウェーハレーザーマーキングとその冷却システム

2023-02-10

チップは情報化時代の中核技術製品であり、一粒の砂から生まれました。チップに用いられる半導体材料は単結晶シリコンで、砂の核となる成分は二酸化ケイ素です。シリコンの製錬、精製、高温成形、回転延伸を経て、砂は単結晶シリコン棒となり、切断、研削、スライス、面取り、研磨などの工程を経て、最終的にシリコンウェハーが完成します。シリコンウェハーは半導体チップ製造の基本材料です。品質管理とプロセス改善の要件を満たし、後続の製造テストおよびパッケージング工程におけるウェハーの管理と追跡を容易にするため、ウェハーまたは結晶粒子の表面に、鮮明な文字やQRコードなどの特定のマークを刻印することができます。レーザーマーキングは、高エネルギービームを用いてウェハーに非接触で照射します。刻印指示を迅速に実行する一方で、レーザー装置は冷却性能も備えていなければなりません。

S&A チラーについて

S&A Chillerは、長年のチラー製造経験を活かして2002年に設立され、現在ではレーザー業界における冷却技術の先駆者および信頼できるパートナーとして認められています。S&A Chillerは、高性能、高信頼性、エネルギー効率に優れた高品質の産業用水チラーを提供することで、その約束を果たします。

当社の循環式水冷装置は、幅広い産業用途に最適です。特にレーザー用途向けには、スタンドアロン型からラックマウント型まで、低出力から高出力まで、±1℃から±0.1℃の安定性技術を適用した、包括的なレーザー水冷装置ラインナップを開発しています。

水冷却装置は、ファイバーレーザー、CO2レーザー、UVレーザー、超高速レーザーなどの冷却に広く使用されています。その他の産業用途には、CNCスピンドル、工作機械、UVプリンター、真空ポンプ、MRI装置、誘導炉、ロータリーエバポレーター、医療診断装置、および精密冷却を必要とするその他の装置が含まれます。

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