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La tecnica laser utilizzata nella lavorazione della ceramica per componenti elettronici e semiconduttori comprende principalmente la foratura laser.
Le ceramiche di ossido di alluminio e nitruro di alluminio presentano un'elevata conducibilità termica, un elevato isolamento e un'alta resistenza alle alte temperature, pertanto trovano ampia applicazione nei settori dell'elettronica e dei semiconduttori. Tuttavia, questi materiali ceramici sono molto duri e fragili, quindi il processo di formatura meccanica non è semplice. La formazione di microfori è particolarmente difficile. Grazie all'elevata densità di potenza e alla buona direzionalità, il laser viene spesso utilizzato per eseguire la foratura della ceramica. Il raggio laser viene focalizzato sul pezzo in lavorazione tramite un sistema ottico. La luce laser ad alta densità di potenza fonde ed evapora il materiale, dopodiché un flusso d'aria proveniente dalla testa laser rimuove il materiale fuso, formando un foro.
Come sappiamo, i componenti elettronici e a semiconduttore hanno dimensioni ridotte e un'elevata densità, quindi la foratura laser su di essi deve essere estremamente precisa ed efficiente. La sorgente laser comunemente utilizzata nella foratura laser su ceramica è il laser UV. Questo tipo di laser presenta una zona termicamente alterata molto ridotta e non danneggia i materiali, il che lo rende lo strumento ideale per eseguire la foratura sui materiali ceramici dei componenti elettronici e a semiconduttore.
Per mantenere l'efficacia superiore del laser UV, si consiglia di aggiungere un refrigeratore laser industriale. Il refrigeratore ad acqua per laser S&A Teyu CWUL-05 è ideale per raffreddare laser UV da 3W a 5W. È dotato di una tubazione progettata in modo da evitare la formazione di bolle. Inoltre, questo refrigeratore laser industriale offre una stabilità di temperatura di ±0,2 °C, garantendo un controllo preciso della temperatura del laser UV.
Per ulteriori informazioni su questo refrigeratore, clicca su https://www.teyuchiller.com/compact-recirculating-chiller-cwul-05-for-uv-laser_ul1
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