ດັ່ງທີ່ພວກເຮົາຮູ້, ອົງປະກອບເອເລັກໂຕຣນິກແລະ semiconductor ມີຂະຫນາດຂະຫນາດນ້ອຍແລະຄວາມຫນາແຫນ້ນສູງ, ດັ່ງນັ້ນການເຈາະ laser ໃສ່ພວກມັນຄາດວ່າຈະມີຄວາມຊັດເຈນແລະມີປະສິດທິພາບສູງ. ແຫຼ່ງເລເຊີທົ່ວໄປທີ່ໃຊ້ໃນການເຈາະເລເຊີເທິງເຊລາມິກແມ່ນເລເຊີ UV.
ເຕັກນິກການເລເຊີທີ່ໃຊ້ໃນເຊລາມິກຂອງເອເລັກໂຕຣນິກແລະອົງປະກອບ semiconductor ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນປະກອບມີການເຈາະ laser.
ອາລູມິນຽມ oxide ceramics ແລະອາລູມິນຽມ nitride ceramics ມີລັກສະນະ conduction ຄວາມຮ້ອນສູງ, insulation ສູງແລະທົນທານຕໍ່ອຸນຫະພູມສູງ, ສະນັ້ນພວກເຂົາເຈົ້າມີຄໍາຮ້ອງສະຫມັກກ້ວາງໃນພື້ນທີ່ເອເລັກໂຕຣນິກແລະ semiconductor. ຢ່າງໃດກໍຕາມ, ວັດສະດຸເຊລາມິກເຫຼົ່ານີ້ແມ່ນແຂງຫຼາຍແລະ brittle, ສະນັ້ນຂະບວນການຮູບຮ່າງຂອງເຄື່ອງຈັກແມ່ນບໍ່ງ່າຍ. ຂຸມຈຸນລະພາກແມ່ນຍາກທີ່ຈະສ້າງເປັນພິເສດ. ເນື່ອງຈາກເລເຊີມີລັກສະນະຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງພະລັງງານສູງແລະທິດທາງທີ່ດີ, ມັນມັກຈະຖືກນໍາໃຊ້ເພື່ອດໍາເນີນການເຈາະໃນເຊລາມິກ. ລໍາແສງເລເຊີແມ່ນສຸມໃສ່ການເຮັດວຽກໂດຍຜ່ານລະບົບ optical. ແສງເລເຊີທີ່ມີຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງພະລັງງານສູງຈະລະລາຍແລະລະເຫີຍຂອງວັດສະດຸແລະຫຼັງຈາກນັ້ນກະແສອາກາດທີ່ມາຈາກຫົວເລເຊີຈະພັດເອົາວັດສະດຸທີ່ລະລາຍອອກແລະມັນຈະເປັນຮູ.
ດັ່ງທີ່ພວກເຮົາຮູ້, ອົງປະກອບເອເລັກໂຕຣນິກແລະ semiconductor ມີຂະຫນາດນ້ອຍແລະຄວາມຫນາແຫນ້ນສູງ, ດັ່ງນັ້ນການເຈາະ laser ໃສ່ພວກມັນຄາດວ່າຈະມີຄວາມຊັດເຈນແລະມີປະສິດທິພາບສູງ. ແຫຼ່ງເລເຊີທົ່ວໄປທີ່ໃຊ້ໃນການເຈາະເລເຊີເທິງເຊລາມິກແມ່ນເລເຊີ UV. ມັນມີພື້ນທີ່ທີ່ມີຜົນກະທົບຄວາມຮ້ອນຂະຫນາດນ້ອຍຫຼາຍແລະບໍ່ທໍາລາຍວັດສະດຸ, ເຊິ່ງເຮັດໃຫ້ມັນເປັນເຄື່ອງມືທີ່ເຫມາະສົມທີ່ຈະດໍາເນີນການເຈາະໃສ່ວັດສະດຸເຊລາມິກຂອງອົງປະກອບເອເລັກໂຕຣນິກແລະ semiconductor.
ເພື່ອຮັກສາຜົນກະທົບທີ່ດີກວ່າຂອງເລເຊີ UV, ແນະນໍາໃຫ້ເພີ່ມເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນເລເຊີອຸດສາຫະກໍາ. S&A Teyu CWUL-05 laser water chiller ແມ່ນເຫມາະສົມສໍາລັບການ cooling laser UV ຈາກ 3W ຫາ 5W. ມັນໄດ້ອອກແບບທໍ່ຢ່າງຖືກຕ້ອງທີ່ສາມາດຫຼີກເວັ້ນການຜະລິດຟອງ. ນອກຈາກນັ້ນ, ເຄື່ອງເຢັນເລເຊີອຸດສາຫະກໍານີ້ມີລັກສະນະສະຖຽນລະພາບຂອງອຸນຫະພູມ ± 0.2 ° C, ສະນັ້ນມັນເຮັດວຽກໄດ້ດີໃນການຄວບຄຸມອຸນຫະພູມຂອງເລເຊີ UV.
ສໍາລັບຂໍ້ມູນເພີ່ມເຕີມກ່ຽວກັບເຄື່ອງເຢັນນີ້, ຄລິກ https://www.teyuchiller.com/compact-recirculating-chiller-cwul-05-for-uv-laser_ul1
ພວກເຮົາຢູ່ທີ່ນີ້ເພື່ອເຈົ້າໃນເວລາທີ່ທ່ານຕ້ອງການພວກເຮົາ.
ກະລຸນາຕື່ມແບບຟອມເພື່ອຕິດຕໍ່ພວກເຮົາ, ແລະພວກເຮົາຍິນດີທີ່ຈະຊ່ວຍທ່ານ.
