Лазерна техніка, яка використовується в кераміці електроніки та напівпровідникових компонентів, в основному включає лазерне свердління.
Кераміка з оксиду алюмінію та кераміка з нітриду алюмінію мають високу теплопровідність, високу ізоляцію та стійкість до високих температур, тому вони мають широке застосування в електроніці та напівпровідникових областях. Однак ці керамічні матеріали дуже тверді та крихкі, тому процес машинного формування не є простим. Особливо важко утворити мікроотвір. Оскільки лазер має високу щільність потужності та хорошу спрямованість, його часто використовують для свердління кераміки. Лазерний промінь фокусується на заготовку через оптичну систему. Лазерне світло з високою щільністю потужності розплавить і випарує матеріали, а потім повітряний струм, що йде від лазерної головки, здуває розплавлені матеріали, і це утворює отвір.
Як відомо, електроніка та напівпровідникові компоненти мають невеликі розміри та високу щільність, тому очікується, що лазерне свердління на них буде високоточним та ефективним. Поширеним джерелом лазера, який використовується для лазерного свердління кераміки, є УФ-лазер. Він має дуже малу зону теплового впливу і не пошкоджує матеріали, що робить його ідеальним інструментом для свердління керамічних матеріалів електроніки та напівпровідникових компонентів.
Щоб зберегти чудовий ефект УФ-лазера, пропонується додати промисловий лазерний охолоджувач. S&A Лазерний водяний чиллер Teyu CWUL-05 ідеально підходить для охолодження УФ-лазера від 3 Вт до 5 Вт. Він має належним чином сконструйований трубопровід, який дозволяє уникнути утворення бульбашки. Крім того, цей промисловий лазерний охолоджувач має температурну стабільність ±0,2°C, тому він добре контролює температуру УФ-лазера.
Щоб отримати додаткову інформацію про цей охолоджувач, натиснітьhttps://www.teyuchiller.com/compact-recirculating-chiller-cwul-05-for-uv-laser_ul1