ထုတ်လုပ်မှု চাহিদာကို ဖြည့်ဆည်းရန်အတွက်၊ semiconductor processing equipment များသည် သိသိသာသာ တိုးတက်မှုကို ကြုံတွေ့ရလိမ့်မည်။ ဤ equipment များတွင် stepper၊ laser etching machine၊ thin-film depositional equipment၊ ion implanter၊ laser scribing machine၊ laser hole drilling machine စသည်တို့ ပါဝင်သည်။
အထက်တွင်တွေ့မြင်နိုင်သည့်အတိုင်း၊ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းပြုပြင်ထုတ်လုပ်သည့်စက်အများစုကို လေဆာနည်းပညာဖြင့် ပံ့ပိုးပေးထားသည်။ လေဆာအလင်းတန်းသည် ထိတွေ့မှုမရှိခြင်း၊ ထိရောက်မှုမြင့်မားခြင်းနှင့် တိကျသောအရည်အသွေးကြောင့် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းကို ပြုပြင်ထုတ်လုပ်ရာတွင် ထူးခြားသောအကျိုးသက်ရောက်မှုရှိနိုင်သည်။
ဆီလီကွန်အခြေခံ ဝေဖာဖြတ်တောက်ခြင်းအလုပ်အများစုကို ယခင်က စက်ပိုင်းဆိုင်ရာဖြတ်တောက်ခြင်းဖြင့် ပြုလုပ်ခဲ့ကြသည်။ သို့သော် ယခုအခါ တိကျသောလေဆာဖြတ်တောက်ခြင်းသည် တာဝန်ယူသည်။ လေဆာနည်းပညာတွင် မြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်၊ ချောမွေ့သောဖြတ်တောက်မှုအနားသတ်နှင့် နောက်ထပ် post-processing မလိုအပ်ဘဲ မည်သည့်ညစ်ညမ်းမှုမျှ မထုတ်လုပ်ပါ။ အတိတ်ကာလတွင် လေဆာဝေဖာဖြတ်တောက်ခြင်းတွင် nanosecond UV laser ကို အသုံးပြုခဲ့ပြီး၊ အဘယ်ကြောင့်ဆိုသော် UV laser သည် အပူသက်ရောက်မှုဇုန်ငယ်ဖြင့် သွင်ပြင်လက္ခဏာရှိပြီး cold processing အဖြစ် လူသိများသောကြောင့်ဖြစ်သည်။ သို့သော် မကြာသေးမီနှစ်များအတွင်း စက်ပစ္စည်းများ အဆင့်မြှင့်တင်မှုနှင့်အတူ ultrafast laser၊ အထူးသဖြင့် picosecond laser ကို ဝေဖာလေဆာဖြတ်တောက်ခြင်းတွင် တဖြည်းဖြည်းအသုံးပြုလာခဲ့သည်။ ultrafast laser ၏ စွမ်းအားသည် ဆက်လက်တိုးပွားလာသည်နှင့်အမျှ picosecond UV laser နှင့် femtosecond UV laser တို့ကိုပင် ပိုမိုတိကျပြီး မြန်ဆန်သော လုပ်ငန်းစဉ်များရရှိရန် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုလာမည်ဟု မျှော်လင့်ရသည်။
မကြာမီအနာဂတ်တွင် ကျွန်ုပ်တို့နိုင်ငံ၏ semiconductor လုပ်ငန်းသည် အလျင်မြန်ဆုံး ကြီးထွားလာသောကာလသို့ ဝင်ရောက်လာမည်ဖြစ်ပြီး semiconductor ပစ္စည်းကိရိယာများနှင့် wafer processing ပမာဏ များပြားလာမည်ဖြစ်သည်။ ဤအရာအားလုံးသည် laser micro-machining၊ အထူးသဖြင့် ultrafast laser ၏ လိုအပ်ချက်ကို မြှင့်တင်ရန် ကူညီပေးသည်။
တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း၊ ထိတွေ့မျက်နှာပြင်၊ စားသုံးသူအီလက်ထရွန်းနစ်အစိတ်အပိုင်းများ ထုတ်လုပ်ခြင်းသည် အလွန်မြန်ဆန်သောလေဆာ၏ အရေးကြီးဆုံးအသုံးချမှုများဖြစ်လိမ့်မည်။ လောလောဆယ်တွင် ပြည်တွင်း အလွန်မြန်ဆန်သောလေဆာသည် အလျင်အမြန်တိုးတက်မှုကို ကြုံတွေ့နေရပြီး ဈေးနှုန်းများ ကျဆင်းနေသည်။ ဥပမာအားဖြင့်၊ 20W picosecond လေဆာအတွက် ၎င်း၏ဈေးနှုန်းသည် မူလ ယွမ် ၁ သန်းမှ ယွမ် ၄၀၀,၀၀၀ အောက်သို့ ကျဆင်းသွားသည်။ ၎င်းသည် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းလုပ်ငန်းအတွက် အပြုသဘောဆောင်သော လမ်းကြောင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။
အလွန်မြန်ဆန်သော လုပ်ငန်းစဉ်ပစ္စည်းကိရိယာများ၏ တည်ငြိမ်မှုသည် အပူချိန်စီမံခန့်ခွဲမှုနှင့် နီးကပ်စွာ ဆက်စပ်နေပါသည်။ ပြီးခဲ့သည့်နှစ်က S&A Teyu သည် femtosecond laser၊ picosecond laser၊ nanosecond laser နှင့် အခြားအလွန်မြန်ဆန်သော laser များကို အအေးခံရန် အသုံးပြုနိုင်သည့် သယ်ဆောင်ရလွယ်ကူသော စက်မှုလုပ်ငန်းသုံး အအေးပေးစက် CWUP-20 ကို မိတ်ဆက်ခဲ့သည်။ ဤအအေးပေးစက်အကြောင်း ပိုမိုသိရှိလိုပါက https://www.teyuchiller.com/portable-water-chiller-cwup-20-for-ultrafast-laser-and-uv-laser_ul5 တွင် ရှာဖွေနိုင်ပါသည်။
