Ny fandokoana cryogenic dia ahafahana manodina akora mazava kokoa sy azo fehezina kokoa

Eo am-pitomboan'ny famokarana mandroso mankany amin'ny fahamarinan-toerana ambony kokoa, ny fanaraha-maso henjana kokoa ny dingana, ary ny fifanarahan'ny akora mivelatra kokoa, dia miha-mivoatra mifanaraka amin'izany ny teknolojian'ny fandokoana. Ny fandokoana Cryogenic, amin'ny alàlan'ny fanaraha-maso mazava tsara ny mari-pana ao amin'ny efitrano sy ny substrate, dia ahafahana manao fanodinana azo antoka sy azo averina na dia amin'ny ambaratonga nanometer aza. Lasa dingana tena ilaina amin'ny famokarana semiconductor, fanamboarana fitaovana photonic, famokarana MEMS, ary sehatra fikarohana siantifika izany.

Inona no atao hoe fandokoana Cryogenic?
Ny fandokoana cryogenic dia dingana fandokoana mifototra amin'ny plasma izay atao amin'ny mari-pana ambany dia ambany, matetika eo anelanelan'ny -80 °C sy -150 °C na latsaka. Mandritra ny dingana, ny substrate dia tazonina amin'ny mari-pana cryogenic lalina marin-toerana, ka mamela ny vokatra azo avy amin'ny fihetsehana hamorona sosona passivation voafehy eo amin'ny velaran'ny fitaovana. Ity fomba fiasa ity dia manatsara be dia be ny fahamarinan'ny fandokoana sy ny fahafaha-mifehy ny dingana.

Ireto misy fomba fiasa fototra:
* Fanosehana amin'ny lafiny voafehy: Ny fanamafisana ny passivation amin'ny rindrina ilany dia miteraka endrika mahitsy kokoa sy mitsangana kokoa.
* Fitoviana tsara kokoa amin'ny fihetsehana: Ny mari-pana ambany kokoa dia mampihena ny fiovaovan'ny tahan'ny fihetsehana, ka manatsara ny fahamarinan-toerana ara-drafitra.
* Kalitao ambony indrindra amin'ny velarana: Ny hamafin'ny velarana mihena dia manohana fitaovana elektronika optika sy saro-pady avo lenta.

Tombony lehibe amin'ny fandokoana Cryogenic
1. Fahaiza-manao avo lenta amin'ny tahan'ny lafiny
Ny fandokoana cryogenic dia ahafahana mahazo tahan'ny lafiny avo dia avo miaraka amin'ny rindrina mitsangana, ka mahatonga azy io ho tsara indrindra amin'ny fandokoana silikônina lalina, microchannels, ary rafitra MEMS sarotra.

2. Fitohizan'ny dingana sy ny fahafaha-miverimberina tsara dia tsara
Ny fanaraha-maso lalina ny mari-pana cryogenic dia mampatanjaka ny tahan'ny etching, manohana ny tontolo famokarana izay mitaky tsy fitoviana hentitra isaky ny andiany.

3. Fifanarahana amin'ny fitaovana maro
Ny fandokoana cryogenic dia mety amin'ny fitaovana isan-karazany, anisan'izany:
* Silisiôma
* Oksida
* Nitrida
* Polimera voafantina
* Akora fotonika toy ny lithium niobate (LiNbO₃)

4. Fihenan'ny fahasimbana ety ambonin'ny tany
Ny baomba iôna ambany kokoa dia mampihena ny fiforonan'ny lesoka, ka mahatonga ity dingana ity ho mety tsara amin'ny singa optika, mpitsikilo infrarouge, ary rafitra bitika avo lenta.

Singa fototra amin'ny rafitra fandokoana Cryogenic
Ny rafitra fandokoana cryogenic mahazatra dia misy:
* Efitrano cryogenic sy sehatra elektroda mangatsiaka ho an'ny fiasan'ny mari-pana ambany dia ambany marin-toerana
* Loharanon'ny plasma (RF / ICP) mba hamoronana karazana reactive avo lenta
* Rafitra fanaraha-maso ny mari-pana (fitaovana fampangatsiahana) mba hihazonana ny faharetan'ny fizotran'ny asa
* Rafitra fanaterana entona, manohana entona toy ny SF₆ sy O₂
* Rafitra fanaraha-maso mihidy mandrindra ny mari-pana, ny tsindry, ny herinaratra ary ny fikorianan'ny entona
Anisan'izany, ny fahombiazan'ny fanaraha-maso ny mari-pana no anton-javatra fototra mamaritra ny fahamarinan-toerana sy ny fahafahan'ny dingana famerimberenana mandritra ny fotoana maharitra.

Fandrindrana ny hafanana amin'ny dingana famokarana bitika sy nano
Amin'ny fomba fiasa azo ampiharina amin'ny fanamboarana bitika sy nano, matetika ampiasaina miaraka amin'ny rafitra fanamboarana bitika amin'ny laser ny rafitra fanesorana cryogenic. Ny fampiharana mahazatra dia ahitana ny fitaratra amin'ny alàlan'ny fananganana, ny fanamboarana fitaovana photonic, ary ny marika wafer.

Na dia samy hafa aza ny tanjon'izy ireo amin'ny hafanana:
* Ny fanaovana sary sokitra cryogenic dia mitaky ny fitazonana ny wafer amin'ny mari-pana cryogenic lalina
* Ny rafitra laser dia mitaky ny fitazonana ny loharanon'ny laser ao anatin'ny varavarankely fiasana tery sy akaikin'ny mari-pana ao an-trano
Samy mitaky fitoniana miavaka amin'ny mari-pana ireo dingana roa ireo.
Mba hahazoana antoka fa maharitra ny herin'ny laser mivoaka, ny kalitaon'ny taratra, ary ny tsy fiovaovan'ny fanodinana, dia matetika ampiasaina ny vata fampangatsiahana rano amin'ny laser avo lenta. Amin'ny fampiharana laser ultra-haingana, matetika ilaina ny fahamarinan'ny fanaraha-maso ny mari-pana ±0.1 °C na tsara kokoa (toy ny ±0.08 °C).

Ao anatin'ny tontolo indostrialy sy fikarohana tena izy, ny vata fampangatsiahana amin'ny mari-pana tsy miovaova toy ny TEYU CWUP-20 PRO ultrafast laser chiller , miaraka amin'ny fahamarinan'ny mari-pana ±0.08 °C, dia manome fanaraha-maso mafana azo antoka mandritra ny fampiasana maharitra. Miaraka amin'ny rafitra fanodinana cryogenic, ireo vata fampangatsiahana mazava tsara ireo dia mamorona rafitra fitantanana mafana feno sy mirindra ho an'ny famokarana madinika sy nano.

Fampiharana mahazatra
* Ny fandokoana cryogenic dia ampiasaina betsaka amin'ny:
* Fanesorana lalina ny ion reactive (DRIE)
* Fanamboarana rafitra puce photonic
* Fanamboarana fitaovana MEMS
* Fanodinana fantsona mikrofluidika
* Rafitra optika mazava tsara
* Famoronana nano amin'ny sehatra fikarohana
Ireo fampiharana rehetra ireo dia mitaky fifehezana hentitra amin'ny fitsanganan'ny rindrina amin'ny ilany, ny fahamoran'ny ety ivelany ary ny tsy fiovaovan'ny fizotran'ny asa.

Famaranana
Tsy ny fampihenana ny mari-pana fotsiny ihany no atao hoe cryogenic etching. Fa ny fahazoana mari-pana marin-toerana sy voafehy tsara izay ahafahana mahazo fahamarinan-toerana sy tsy miovaova mihoatra ny fetran'ny fomba fandrahoana mahazatra. Rehefa mandroso hatrany ny teknolojia semiconductor, photonic, ary nanomanufacturing, dia lasa dingana fototra tsy azo ihodivirana ny cryogenic etching, ary ny rafitra fanaraha-maso ny mari-pana azo antoka no fototra ahafahany miasa amin'ny fahaizany feno.