E mafai ai e le Cryogenic Etching ona sili atu le sa'o ma le pulea o le fa'agasologa o meafaitino

A o faʻaauau pea ona tuleia e le gaosiga faʻaleleia atili le saʻo, le pulea lelei o le faʻagasologa, ma le lautele o le fetaui o meafaitino, o loʻo faʻagasolo foʻi tekinolosi o le valiina. O le Cryogenic Etching, e ala i le pulea saʻo o le vevela o le potu ma le substrate, e mafai ai ona faʻagasologa mautu ma toe fai e tusa lava pe i le fua o le nanometer. Ua avea ma se faiga taua i le gaosiga o semiconductor, gaosiga o masini photonic, gaosiga MEMS, ma faʻavae suʻesuʻega faasaienisi.

O le ā le Cryogenic Etching?
O le etching cryogenic o se faiga etching e faʻavae i le plasma e faia i le vevela e matua maualalo lava, e masani lava mai le –80 °C i le –150 °C pe maualalo ifo. I le taimi o le faiga, e tausia le substrate i se vevela loloto-cryogenic mautu, e mafai ai e oloa e maua mai i le tali atu ona fausia se vaega faʻatonutonuina o le passivation i luga o le mea. O lenei faiga e faʻaleleia atili ai le saʻo o le etching ma le puleaina o le faiga.

O auala autū e aofia ai:
* Taofiofia le vaneina i autafa: O le fa'aleleia atili o le pasivaina o le puipui i autafa e maua ai ni fa'asologa e sili atu ona sa'o ma sili atu ona tū sa'o.
* Fa'aleleia atili le tutusa o le tali atu: O le maualalo o le vevela e fa'aitiitia ai le fesuisuia'i o le fua faatatau o le tali atu, ma fa'aleleia atili ai le mautu o le fausaga.
* Tulaga sili ona lelei o le fogaeleele: O le fa'aitiitia o le ma'a'a o le fogaeleele e lagolagoina ai masini eletise e maualuga le fa'atinoga ma masini eletise e ma'ale'ale.

Fa'amanuiaga Autū o le Cryogenic Etching
1. Malosiaga Maualuga o le Fua Faatatau
E mafai ai e le cryogenic etching ona faia ni aspect ratios maualuluga tele ma ni sidewalls faatulagaina, ma avea ai ma mea lelei tele mo le deep silicon etching, microchannels, ma fausaga MEMS faigata.

2. Faiga Tumau Lelei ma le Toe Faifaipea
O le puleaina loloto o le vevela o le cryogenic e fa'amautu ai le fua o le etching, e lagolagoina ai siosiomaga gaosiga e mana'omia ai le tutusa lelei o le gaosiga mai lea vaega i lea vaega.

3. Fegalegaleaiga Lautele o Meafaitino
E talafeagai le fa'a'ofuina o le cryogenic mo le tele o meafaitino, e aofia ai:
* Silikoni
* Okisa
* Nitrides
* Polimer ua filifilia
* Mea fa'a-photonic e pei o le lithium niobate (LiNbO₃)

4. Fa'aitiitia le Fa'aleagaina o le Luga
O le maualalo o le fa'aosoina o ion e fa'aitiitia ai le fa'atupuina o fa'aletonu, ma avea ai le faiga ma mea e fetaui lelei mo vaega opitika, masini e iloa ai infrared, ma fausaga laiti e maualuga le maaleale.

Vaega Autū o se Faiga Fa'a'ofuofu Cryogenic
O se faiga masani o le etching cryogenic e aofia ai:
* Potu cryogenic ma le tulaga eletise fa'amālūlūina mo le fa'agaioiga mautu o le vevela maualalo
* Punaoa o le plasma (RF / ICP) e fa'atupu ai ni meaola e tali atu i le tele o mea'ai
* Faiga e pulea ai le vevela (meafaigaluega fa'amālūlū) e fa'atumauina ai se vaitaimi mautu o le fa'agasologa
* Faiga e tuʻuina atu ai le kesi, e lagolagoina ai kesi e pei o le SF₆ ma le O₂
* Faiga fa'atonutonu tapuni e fa'amaopoopo ai le vevela, mamafa, eletise, ma le tafe o le kesi
Faatasi ai ma nei mea, o le faatinoga o le puleaina o le vevela o le autu lea e fuafua ai le mautu o le faagasologa i se taimi umi ma le mafai ona toe faia.

Fa'amaopoopoga Fa'avevela i Fa'agasologa o le Faia o Mea Laiti ma Mea Nano
I galuega faatino o le micro- ma le nano-fabrication, e masani ona faʻaaogaina faiga eli ai le cryogenic faʻatasi ai ma faiga o le laser micromachining. O faʻaoga masani e aofia ai le tioata e ala i le fausiaina, gaosiga o masini photonic, ma le faʻailogaina o le wafer.

E ui e eseese a latou sini fa'avevela:
* O le etching cryogenic e manaʻomia ai le tausia o le wafer i le vevela loloto-cryogenic
* E manaʻomia e faiga laser le teuina o le puna laser i totonu o se faamalama faʻagaoioiga vaapiapi, e lata i le vevela o le potu
E manaʻomia e faiga uma e lua le mautu lelei o le vevela.
Ina ia mautinoa le mautu o le malosiaga o le laser, le lelei o le ave, ma le tutusa o le faagasologa i se taimi umi, e masani ona faaaogaina masini faamalulu vai laser e maualuga le sa'o. I galuega laser e matua vave lava, e masani ona manaomia le sa'o o le puleaina o le vevela e ±0.1 °C pe sili atu (e pei o le ±0.08 °C).

I totonu o siosiomaga fa'apisinisi ma su'esu'ega moni, o masini fa'amālūlū e tumau le vevela e pei o le TEYU CWUP-20 PRO ultrafast laser chiller , fa'atasi ai ma le mautu o le vevela e ±0.08 °C, e maua ai le pulea lelei o le vevela i le taimi o le fa'agaoioiga umi. Fa'atasi ai ma faiga e fa'amama ai le vevela (cryogenic etching systems), o nei masini fa'amālūlū sa'o e fausia ai se fa'avae atoatoa ma fa'amaopoopoina o le pulega o le vevela mo le gaosiga laiti ma le nano.

Fa'aoga Masani
* O le cryogenic etching e faʻaaogaina lautele i:
* Fa'a'ofuina loloto o le ion reactive (DRIE)
* Fausiaina o le fausaga o le photonic chip
* Gaosiga o masini MEMS
* Fa'agasologaina o le alavai Microfluidic
* Fausaga opitika sa'o
* Nanofabrication i luga o fausaga suʻesuʻe
O nei fa'aoga uma e mana'omia ai le pulea lelei o le tulaga sa'o o le puipui i autafa, le lamolemole o le laualuga, ma le tutusa o le fa'agasologa.

Faaiuga
O le fa'a'ofuina o le cryogenic e lē na'o le fa'aitiitia o le vevela. Ae o le ausia lea o tulaga fa'avevela mautu ma pulea lelei e mafai ai ona maua se tulaga sa'o ma tutusa e sili atu nai lo tapula'a o faiga fa'a'ofuina masani. A'o fa'aauau pea ona alualu i luma tekinolosi semiconductor, photonic, ma nanomanufacturing, o le fa'a'ofuina o le cryogenic ua avea ma se faiga autu e le mafai ona suia, ma o faiga fa'atuatuaina o le puleaina o le vevela o lo'o tumau pea le fa'avae e mafai ai ona fa'atino i lona gafatia atoatoa.