Um die Nachfrage in der Halbleiterfertigung zu decken, wird der Bedarf an Anlagen zur Halbleiterverarbeitung drastisch steigen. Zu diesen Anlagen gehören Stepper, Laserätzmaschinen, Dünnschichtabscheidungsanlagen, Ionenimplantationsanlagen, Laserschneidmaschinen, Laserbohrmaschinen und vieles mehr.

Wie oben ersichtlich, basiert der Großteil der Maschinen zur Bearbeitung von Halbleitermaterialien auf Lasertechnik. Der Laserstrahl erzielt aufgrund seiner berührungslosen, hocheffizienten und präzisen Eigenschaften einzigartige Ergebnisse bei der Bearbeitung von Halbleitermaterialien.
Viele Schneidvorgänge an Siliziumwafern wurden früher mechanisch durchgeführt. Heute übernimmt jedoch das Präzisionslaserschneiden diese Aufgabe. Die Lasertechnik zeichnet sich durch hohe Effizienz, glatte Schnittkanten, den Verzicht auf Nachbearbeitung und die Vermeidung von Schadstoffen aus. In der Vergangenheit wurden für das Wafer-Laserschneiden Nanosekunden-UV-Laser eingesetzt, da UV-Laser eine kleine Wärmeeinflusszone aufweisen und als Kaltbearbeitungsverfahren bekannt sind. In den letzten Jahren hat sich jedoch mit der Weiterentwicklung der Anlagen der Einsatz von Ultrakurzpulslasern, insbesondere von Pikosekundenlasern, beim Wafer-Laserschneiden zunehmend durchgesetzt. Da die Leistung von Ultrakurzpulslasern stetig steigt, ist zu erwarten, dass Pikosekunden-UV-Laser und sogar Femtosekunden-UV-Laser in Zukunft weit verbreitet sein werden, um eine präzisere und schnellere Bearbeitung zu ermöglichen.
In naher Zukunft wird die Halbleiterindustrie in unserem Land in die Phase des stärksten Wachstums eintreten, was eine enorme Nachfrage nach Halbleiteranlagen und eine massive Waferbearbeitung zur Folge haben wird. All dies trägt zur Steigerung der Nachfrage nach Lasermikrobearbeitung, insbesondere nach Ultrakurzpulslasern, bei.
Die Herstellung von Halbleitern, Touchscreens und Bauteilen für Unterhaltungselektronik wird die wichtigste Anwendung von Ultrakurzpulslasern sein. Derzeit verzeichnet der heimische Markt für Ultrakurzpulslaser ein rasantes Wachstum bei sinkenden Preisen. So ist beispielsweise der Preis für einen 20-Watt-Pikosekundenlaser von ursprünglich 1 Million RMB auf unter 400.000 RMB gefallen. Dies ist ein positiver Trend für die Halbleiterindustrie.
Die Stabilität von Anlagen zur ultraschnellen Laserbearbeitung hängt eng mit dem Wärmemanagement zusammen. Letztes Jahr brachte S&A Teyu die mobile Industriekühlung CWUP-20 auf den Markt, die zur Kühlung von Femtosekunden-, Pikosekunden-, Nanosekunden- und anderen ultraschnellen Lasern eingesetzt werden kann. Weitere Informationen zu dieser Kühlung finden Sie unter https://www.teyuchiller.com/portable-water-chiller-cwup-20-for-ultrafast-laser-and-uv-laser_ul5









































































































