उच्च परावर्तकता असलेल्या पदार्थांच्या लेसर प्रक्रिया आणि लेसर कूलिंगमधील आव्हाने

लेसर उद्योग वेगाने प्रगती करत आहे, विशेषतः ऑटोमोबाईल्स, इलेक्ट्रॉनिक्स, यंत्रसामग्री, विमानचालन आणि स्टील यासारख्या मोठ्या प्रमाणात उत्पादन क्षेत्रात. या उद्योगांनी पारंपारिक प्रक्रिया पद्धतींना अपग्रेड केलेला पर्याय म्हणून लेसर प्रक्रिया तंत्रज्ञानाचा अवलंब केला आहे आणि "लेसर उत्पादन" युगात प्रवेश केला आहे.

तथापि, कटिंग आणि वेल्डिंगसह उच्च परावर्तकता असलेल्या सामग्रीची लेसर प्रक्रिया करणे हे एक महत्त्वाचे आव्हान आहे. ही चिंता बहुतेक लेसर उपकरणे वापरणाऱ्यांमध्ये आहे ज्यांना आश्चर्य वाटते: खरेदी केलेले लेसर उपकरणे उच्च परावर्तकता असलेल्या सामग्रीवर प्रक्रिया करू शकतात का? उच्च परावर्तकता असलेल्या सामग्रीच्या लेसर प्रक्रियेसाठी लेसर चिलरची आवश्यकता असते का?

हाय रिफ्लेक्टिव्हिटी मटेरियलची प्रक्रिया करताना, लेसरच्या आतील भागात जास्त हाय रिटर्न लेसर असल्यास कटिंग किंवा वेल्डिंग हेड आणि लेसरला नुकसान होण्याचा धोका असतो. हा धोका हाय-पॉवर फायबर लेसर उत्पादनांसाठी अधिक स्पष्ट असतो, कारण रिटर्न लेसरची पॉवर कमी-पॉवर लेसर उत्पादनांपेक्षा लक्षणीयरीत्या जास्त असते. हाय-पॉवर रिफ्लेक्टिव्हिटी मटेरियल कापल्याने लेसरला धोका निर्माण होतो कारण जर मटेरियलमध्ये प्रवेश केला नाही तर हाय-पॉवर रिटर्न लाइट लेसरच्या आत प्रवेश करतो, ज्यामुळे नुकसान होते.

उच्च परावर्तकता सामग्री म्हणजे काय?

उच्च परावर्तकता असलेले पदार्थ म्हणजे लेसरजवळ कमी शोषण दर असलेले पदार्थ, कारण त्यांची प्रतिरोधकता कमी असते आणि पृष्ठभाग तुलनेने गुळगुळीत असतो. उच्च परावर्तकता असलेले पदार्थ खालील ४ अटींद्वारे ठरवता येतात:

१. लेसर आउटपुट तरंगलांबीनुसार निर्णय घेणे

वेगवेगळ्या आउटपुट तरंगलांबी असलेल्या लेसरसाठी वेगवेगळ्या पदार्थांमध्ये वेगवेगळे शोषण दर असतात. काहींमध्ये उच्च परावर्तन असू शकते तर काहींमध्ये नसू शकते.

२. पृष्ठभागाच्या रचनेनुसार निर्णय घेणे

मटेरियलची पृष्ठभाग जितकी गुळगुळीत असेल तितका त्याचा लेसर शोषण दर कमी असेल. स्टेनलेस स्टील देखील पुरेसे गुळगुळीत असल्यास ते अत्यंत परावर्तित होऊ शकते.

३. प्रतिरोधकतेनुसार निर्णय घेणे

कमी प्रतिरोधकता असलेल्या पदार्थांमध्ये लेसरसाठी शोषण दर कमी असतात, ज्यामुळे उच्च परावर्तन होते. उलट, उच्च प्रतिरोधकता असलेल्या पदार्थांमध्ये शोषण दर जास्त असतात.

४. पृष्ठभागाच्या स्थितीनुसार निर्णय घेणे

पदार्थाच्या पृष्ठभागाच्या तापमानातील फरक, तो घन किंवा द्रव अवस्थेत असला तरी, त्याच्या लेसर शोषण दरावर परिणाम करतो. सामान्यतः, उच्च तापमान किंवा द्रव अवस्थेत लेसर शोषण दर जास्त असतो, तर कमी-तापमान किंवा घन अवस्थेत लेसर शोषण दर कमी असतात.

उच्च परावर्तकता असलेल्या पदार्थांच्या लेसर प्रक्रियेची समस्या कशी सोडवायची?

या समस्येबाबत, प्रत्येक लेसर उपकरण उत्पादकाकडे संबंधित उपाययोजना आहेत. उदाहरणार्थ, रेकस लेसरने लेसर प्रक्रियेच्या उच्च-प्रतिबिंबित सामग्रीच्या समस्येचे निराकरण करण्यासाठी चार-स्तरीय अँटी-हाय-रिफ्लेक्शन प्रकाशावर संरक्षण प्रणाली डिझाइन केली आहे. त्याच वेळी, असामान्य प्रक्रिया झाल्यास लेसरचे रिअल-टाइम संरक्षण सुनिश्चित करण्यासाठी विविध रिटर्न लाइट मॉनिटरिंग फंक्शन्स जोडण्यात आले आहेत.

लेसर आउटपुट स्थिरता सुनिश्चित करण्यासाठी लेसर चिलर आवश्यक आहे.

लेसरचे स्थिर आउटपुट हे उच्च लेसर प्रक्रिया कार्यक्षमता आणि उत्पादन उत्पन्न सुनिश्चित करण्यासाठी एक महत्त्वाचा दुवा आहे. लेसर तापमानास संवेदनशील आहे, म्हणून अचूक तापमान नियंत्रण देखील आवश्यक आहे. TEYU लेसर चिलरमध्ये ±0.1℃ पर्यंत तापमान अचूकता, स्थिर तापमान नियंत्रण, दुहेरी तापमान नियंत्रण मोड आहे तर ऑप्टिक्स थंड करण्यासाठी उच्च-तापमान सर्किट आणि लेसर थंड करण्यासाठी कमी-तापमान सर्किट आणि उच्च परावर्तकता सामग्रीसाठी लेसर प्रक्रिया उपकरणांचे पूर्णपणे संरक्षण करण्यासाठी विविध अलार्म चेतावणी कार्ये आहेत!