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Contrôle précis de la température pour les systèmes laser et les applications industrielles depuis 2002
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Les directives 2024 du MIIT encouragent la localisation complète du processus de fabrication de puces 28 nm+, une étape technologique cruciale. Les principales avancées comprennent les machines de lithographie KrF et ArF, qui permettent des circuits de haute précision et renforcent l'autonomie de l'industrie. Un contrôle précis de la température est essentiel pour ces processus, les refroidisseurs d'eau TEYU CWUP garantissant des performances stables dans la fabrication de semi-conducteurs.
Ces derniers mois, le ministère de l'Industrie et des Technologies de l'information (MIIT) a publié les « Lignes directrices pour la promotion et l'application des premiers équipements techniques majeurs (édition 2024) ». Cela ouvre la voie à la localisation complète du processus de fabrication de puces matures pour les nœuds supérieurs à 28 nm !
Bien que la technologie 28 nm ne soit pas à la pointe de la technologie, elle revêt une importance considérable en tant que ligne de démarcation entre les puces d'entrée et de milieu de gamme et celles de milieu et de haut de gamme. Outre les processeurs, les GPU et les puces d'IA avancés, la plupart des puces de qualité industrielle s'appuient sur des technologies 28 nm ou supérieures.
Principe de fonctionnement : Progrès dans la lithographie ultraviolette profonde
Les machines de lithographie KrF (fluorure de krypton) et ArF (fluorure d'argon) font partie de la catégorie de la lithographie ultraviolette profonde (DUV). Toutes deux utilisent des longueurs d'onde lumineuses spécifiques projetées par des systèmes optiques sur la couche de résine photosensible d'une plaquette de silicium, transférant ainsi des motifs de circuits complexes.
Machines de lithographie KrF : utilisent une source lumineuse de longueur d'onde de 248 nm, atteignant des résolutions inférieures à 110 nm, adaptées à divers processus de fabrication de circuits intégrés.
Machines de lithographie ArF : utilisent une source lumineuse de longueur d'onde de 193 nm, offrant une résolution plus élevée pour les technologies de processus inférieures à 65 nm, permettant la fabrication de circuits plus fins.
Importance technologique : modernisation et autonomie de l'industrie
Le développement de ces machines de lithographie marque une étape majeure dans l’avancement de la fabrication de semi-conducteurs et dans l’atteinte de l’autonomie industrielle :
Avancées techniques : La création réussie de machines de lithographie KrF et ArF met en évidence des progrès significatifs dans la technologie de lithographie haut de gamme, offrant un support technique solide pour la fabrication de semi-conducteurs.
Mise à niveau de l'industrie : les machines de lithographie de haute précision permettent la production de circuits intégrés plus complexes et plus performants, stimulant l'innovation tout au long de la chaîne de valeur des semi-conducteurs.
Sécurité économique et nationale : En réduisant la dépendance à l'égard des technologies étrangères, ces machines renforcent l'autosuffisance de l'industrie nationale des semi-conducteurs, renforçant ainsi la sécurité économique et industrielle.
Refroidisseur d'eau : la clé pour des performances stables des machines de lithographie
Un contrôle précis de la température est essentiel pour garantir la qualité et le rendement du processus de lithographie. Les refroidisseurs d'eau, en tant que composants essentiels des systèmes de refroidissement, jouent un rôle essentiel :
Exigences de refroidissement : les machines de lithographie sont extrêmement sensibles aux fluctuations de température pendant l'exposition, ce qui nécessite des refroidisseurs d'eau qui fournissent un contrôle de température très précis et stable.
Fonctions des refroidisseurs : En faisant circuler l'eau de refroidissement, les refroidisseurs dissipent efficacement la chaleur générée pendant le fonctionnement, maintenant l'équipement laser dans une plage de température optimale et garantissant la précision et la fiabilité du processus de lithographie.
TEYU Chiller propose des solutions de refroidissement professionnelles pour les machines de lithographie
Les refroidisseurs laser ultrarapides de la série TEYU CWUP peuvent fournir un contrôle de température précis et stable pour les machines de lithographie. Le modèle de refroidisseur CWUP-20ANP atteint une stabilité de température de ± 0,08 °C, offrant un refroidissement très efficace pour une fabrication de précision.
Dans le monde précis de la fabrication de semi-conducteurs, les machines de lithographie sont les principaux dispositifs de transfert de motifs de microcircuits. Avec l'avancement de la technologie, la machine de lithographie au fluorure de krypton et la machine de lithographie au fluorure d'argon sont devenues une force importante pour promouvoir le développement de l'industrie grâce à leurs excellentes performances.
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