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Dernières nouvelles : Le MIIT promeut les machines de lithographie DUV nationales avec une précision de superposition ≤ 8 nm

Les directives 2024 du MIIT encouragent la localisation complète des processus de fabrication des puces de plus de 28 nm, une étape technologique cruciale. Parmi les avancées majeures figurent les machines de lithographie KrF et ArF, qui permettent la réalisation de circuits de haute précision et renforcent l'autonomie de l'industrie. Un contrôle précis de la température est essentiel pour ces procédés ; les refroidisseurs d'eau CWUP garantissent une performance stable dans la fabrication des semi-conducteurs.

Ces derniers mois, le ministère de l'Industrie et des Technologies de l'information (MIIT) a publié les « Lignes directrices pour la promotion et l'application des premiers équipements techniques majeurs (édition 2024) ». Celles-ci ouvrent la voie à une localisation complète du processus de fabrication des puces matures pour les nœuds supérieurs à 28 nm !

Bien que la technologie 28 nm ne soit pas à la pointe du progrès, elle revêt une importance considérable car elle marque la frontière entre les puces d'entrée et de milieu de gamme et celles de milieu et de haut de gamme. Hormis les processeurs, les cartes graphiques et les puces d'intelligence artificielle les plus performantes, la plupart des puces industrielles reposent sur des technologies de 28 nm ou supérieures.

 Le MIIT promeut les machines de lithographie DUV nationales avec une précision de superposition ≤ 8 nm

Principe de fonctionnement : Progrès en lithographie ultraviolette profonde

Les machines de lithographie KrF (fluorure de krypton) et ArF (fluorure d'argon) appartiennent à la catégorie de la lithographie ultraviolette profonde (DUV). Toutes deux utilisent des longueurs d'onde lumineuses spécifiques projetées par des systèmes optiques sur la couche de photorésine d'une plaquette de silicium, permettant ainsi le transfert de motifs de circuits complexes.

Machines de lithographie KrF : utilisent une source lumineuse de longueur d’onde de 248 nm, atteignant des résolutions inférieures à 110 nm, adaptées à divers procédés de fabrication de circuits intégrés.

Machines de lithographie ArF : utilisent une source lumineuse de longueur d’onde de 193 nm, offrant une résolution plus élevée pour les technologies de traitement inférieures à 65 nm, permettant la fabrication de circuits plus fins.

Importance technologique : modernisation de l'industrie et autonomie

Le développement de ces machines de lithographie constitue une étape majeure dans le progrès de la fabrication des semi-conducteurs et l'obtention de l'autonomie industrielle :

Avancées techniques : La création réussie des machines de lithographie KrF et ArF met en évidence des progrès significatifs dans la technologie de lithographie haut de gamme, fournissant un soutien technique solide à la fabrication de semi-conducteurs.

Modernisation du secteur : Les machines de lithographie de haute précision permettent la production de circuits intégrés plus complexes et plus performants, stimulant l’innovation tout au long de la chaîne de valeur des semi-conducteurs.

Sécurité économique et nationale : en réduisant la dépendance à l’égard des technologies étrangères, ces machines renforcent l’autosuffisance de l’industrie nationale des semi-conducteurs, consolidant ainsi la sécurité économique et industrielle.

Refroidisseur d'eau : la clé d'une performance stable de la machine de lithographie

Un contrôle précis de la température est essentiel pour garantir la qualité et le rendement du procédé de lithographie. Les refroidisseurs d'eau, composants essentiels des systèmes de refroidissement, jouent un rôle primordial :

Exigences de refroidissement : Les machines de lithographie sont extrêmement sensibles aux fluctuations de température pendant l’exposition, ce qui nécessite des refroidisseurs d’eau assurant un contrôle de température très précis et stable.

Fonctions des refroidisseurs : En faisant circuler de l’eau de refroidissement, les refroidisseurs dissipent efficacement la chaleur générée pendant le fonctionnement, maintenant ainsi l’équipement laser dans une plage de température optimale et assurant la précision et la fiabilité du processus de lithographie.

 Refroidisseur laser ultrarapide CWUP-20ANP avec une stabilité de 0,08 °C

TEYU Chiller propose des solutions de refroidissement professionnelles pour les machines de lithographie

Les refroidisseurs laser ultrarapides de la série CWUP assurent un contrôle précis et stable de la température des machines de lithographie. Le modèle CWUP-20ANP garantit une stabilité de température de ±0,08 °C, offrant un refroidissement très efficace pour la fabrication de précision.

Dans le secteur de la fabrication des semi-conducteurs, où la précision est primordiale, les machines de lithographie sont essentielles au transfert des motifs de microcircuits. Grâce aux progrès technologiques, les machines de lithographie au fluorure de krypton et au fluorure d'argon, grâce à leurs performances exceptionnelles, sont devenues un moteur important du développement de cette industrie.

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