속보: 중국 과학기술정보통신부(MIIT), 8nm 이하 오버레이 정확도를 자랑하는 국산 DUV 리소그래피 장비 홍보

최근 산업통상자원부(MIIT)는 "최초 (세트) 주요 기술 장비의 촉진 및 적용 지침(2024년판)"을 발표했습니다. 이는 28nm 이상 노드의 성숙 칩 제조 공정의 전면 국산화를 위한 길을 열었습니다!

28nm 기술은 최첨단 기술은 아니지만, 저가형 칩과 중가형 칩을 구분하는 중요한 기준이 됩니다. 고급 CPU, GPU, AI 칩을 제외한 대부분의 산업용 칩은 28nm 이상의 기술을 사용합니다.

작동 원리: 심자외선 리소그래피의 발전

크립톤 플루오라이드(KrF) 및 아르곤 플루오라이드(ArF) 리소그래피 장비는 심자외선(DUV) 리소그래피 범주에 속합니다. 두 장비 모두 광학 시스템을 통해 특정 파장의 빛을 실리콘 웨이퍼의 포토레지스트 층에 투사하여 복잡한 회로 패턴을 전사합니다.

KrF 리소그래피 장비: 248nm 파장의 광원을 사용하여 110nm 이하의 해상도를 구현하며, 다양한 집적 회로 제조 공정에 적합합니다.

ArF 리소그래피 장비: 193nm 파장의 광원을 사용하여 65nm 이하 공정 기술에 더 높은 해상도를 제공하므로 더욱 정밀한 회로 제작이 가능합니다.

기술적 중요성: 산업 고도화 및 자립

이러한 리소그래피 장비의 개발은 반도체 제조를 발전시키고 산업적 자율성을 달성하는 데 있어 중요한 이정표가 됩니다.

기술적 혁신: KrF 및 ArF 리소그래피 장비의 성공적인 개발은 고성능 리소그래피 기술의 상당한 진전을 보여주며, 반도체 제조에 강력한 기술적 지원을 제공합니다.

산업 고도화: 고정밀 리소그래피 장비는 더욱 복잡하고 고성능의 집적 회로 생산을 가능하게 하여 반도체 가치 사슬 전반에 걸쳐 혁신을 주도합니다.

경제 및 국가 안보: 외국 기술 의존도를 줄임으로써 이러한 장비는 국내 반도체 산업의 자립도를 강화하고 경제 및 산업 안보를 증진시킵니다.

냉각수 탱크 : 안정적인 리소그래피 장비 성능의 핵심

정밀한 온도 제어는 리소그래피 공정의 품질과 수율을 보장하는 데 필수적입니다. 냉각 시스템의 핵심 구성 요소인 워터 칠러는 이러한 과정에서 매우 중요한 역할을 합니다.

냉각 요구 사항: 리소그래피 장비는 노광 중 온도 변화에 매우 민감하므로, 매우 정확하고 안정적인 온도 제어를 제공하는 냉각기가 필요합니다.

칠러의 기능: 칠러는 냉각수를 순환시켜 작동 중에 발생하는 열을 효과적으로 발산함으로써 레이저 장비를 최적의 온도 범위 내로 유지하고 리소그래피 공정의 정확성과 신뢰성을 보장합니다.

TEYU 칠러는 리소그래피 장비를 위한 전문 냉각 솔루션을 제공합니다.

TEYU CWUP 시리즈 초고속 레이저 칠러는 리소그래피 장비에 정밀하고 안정적인 온도 제어를 제공할 수 있습니다. 칠러 모델 CWUP-20ANP는 ±0.08°C의 온도 안정성을 달성하여 정밀 제조에 매우 효율적인 냉각을 제공합니다.

반도체 제조라는 정밀한 분야에서 리소그래피 장비는 미세 회로 패턴을 전사하는 핵심 장비입니다. 기술 발전과 함께 크립톤 불화물 리소그래피 장비와 아르곤 불화물 리소그래피 장비는 탁월한 성능으로 산업 발전을 이끄는 중요한 역할을 담당하고 있습니다.