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ब्रेकिंग न्यूज़: MIIT ने 8nm या उससे कम ओवरले सटीकता वाली घरेलू DUV लिथोग्राफी मशीनों को बढ़ावा दिया

MIIT के 2024 के दिशानिर्देश 28nm+ चिप निर्माण के लिए पूर्ण प्रक्रिया स्थानीयकरण को बढ़ावा देते हैं, जो एक महत्वपूर्ण तकनीकी उपलब्धि है। प्रमुख प्रगति में KrF और ArF लिथोग्राफी मशीनें शामिल हैं, जो उच्च परिशुद्धता वाले सर्किट को सक्षम बनाती हैं और उद्योग की आत्मनिर्भरता को बढ़ावा देती हैं। इन प्रक्रियाओं के लिए सटीक तापमान नियंत्रण अत्यंत महत्वपूर्ण है, और TEYU CWUP वाटर चिलर सेमीकंडक्टर निर्माण में स्थिर प्रदर्शन सुनिश्चित करते हैं।

हाल के महीनों में, उद्योग और सूचना प्रौद्योगिकी मंत्रालय (एमआईआईटी) ने "प्रथम (सेट) प्रमुख तकनीकी उपकरणों के संवर्धन और अनुप्रयोग के लिए दिशानिर्देश (2024 संस्करण)" जारी किए हैं। इससे 28 एनएम से ऊपर के नोड्स के लिए परिपक्व चिप निर्माण की पूर्ण प्रक्रिया के स्थानीयकरण का मार्ग प्रशस्त होता है!

हालांकि 28nm तकनीक अत्याधुनिक नहीं है, फिर भी निम्न-से-मध्यम श्रेणी और मध्यम-से-उच्च श्रेणी के चिप्स के बीच विभाजक के रूप में इसका महत्वपूर्ण महत्व है। उन्नत सीपीयू, जीपीयू और एआई चिप्स के अलावा, अधिकांश औद्योगिक-श्रेणी के चिप्स 28nm या उच्चतर तकनीकों पर निर्भर करते हैं।

 MIIT ने ≤8nm ओवरले सटीकता वाली घरेलू DUV लिथोग्राफी मशीनों को बढ़ावा दिया

कार्यप्रणाली: डीप अल्ट्रावायलेट लिथोग्राफी में प्रगति

क्रिप्टन फ्लोराइड (KrF) और आर्गन फ्लोराइड (ArF) लिथोग्राफी मशीनें डीप अल्ट्रावायलेट (DUV) लिथोग्राफी की श्रेणी में आती हैं। दोनों ही मशीनें ऑप्टिकल सिस्टम के माध्यम से सिलिकॉन वेफर की फोटोरेसिस्ट परत पर विशिष्ट प्रकाश तरंग दैर्ध्य को प्रक्षेपित करके जटिल सर्किट पैटर्न को स्थानांतरित करती हैं।

KrF लिथोग्राफी मशीनें: 248nm तरंगदैर्ध्य वाले प्रकाश स्रोत का उपयोग करती हैं, जिससे 110nm से कम का रिज़ॉल्यूशन प्राप्त होता है, जो विभिन्न एकीकृत सर्किट निर्माण प्रक्रियाओं के लिए उपयुक्त है।

एआरएफ लिथोग्राफी मशीनें: 193 एनएम तरंगदैर्ध्य वाले प्रकाश स्रोत का उपयोग करती हैं, जो सब-65 एनएम प्रक्रिया प्रौद्योगिकियों के लिए उच्च रिज़ॉल्यूशन प्रदान करती हैं, जिससे महीन सर्किटों का निर्माण संभव हो पाता है।

तकनीकी महत्व: उद्योग का उन्नयन और आत्मनिर्भरता

इन लिथोग्राफी मशीनों का विकास सेमीकंडक्टर निर्माण को आगे बढ़ाने और औद्योगिक स्वायत्तता प्राप्त करने में एक महत्वपूर्ण मील का पत्थर है:

तकनीकी सफलताएँ: KrF और ArF लिथोग्राफी मशीनों का सफल निर्माण उच्च-स्तरीय लिथोग्राफी प्रौद्योगिकी में महत्वपूर्ण प्रगति को दर्शाता है, जो अर्धचालक निर्माण के लिए मजबूत तकनीकी सहायता प्रदान करता है।

उद्योग का उन्नयन: उच्च परिशुद्धता वाली लिथोग्राफी मशीनें अधिक जटिल और उच्च-प्रदर्शन वाले एकीकृत परिपथों के उत्पादन को सक्षम बनाती हैं, जिससे संपूर्ण अर्धचालक मूल्य श्रृंखला में नवाचार को बढ़ावा मिलता है।

आर्थिक और राष्ट्रीय सुरक्षा: विदेशी प्रौद्योगिकी पर निर्भरता कम करके, ये मशीनें घरेलू सेमीकंडक्टर उद्योग की आत्मनिर्भरता को मजबूत करती हैं, जिससे आर्थिक और औद्योगिक सुरक्षा को बल मिलता है।

वाटर चिलर : लिथोग्राफी मशीन के स्थिर प्रदर्शन की कुंजी

लिथोग्राफी प्रक्रिया की गुणवत्ता और उत्पादन सुनिश्चित करने के लिए सटीक तापमान नियंत्रण आवश्यक है। शीतलन प्रणालियों के प्रमुख घटकों के रूप में वाटर चिलर एक महत्वपूर्ण भूमिका निभाते हैं।

शीतलन आवश्यकताएँ: लिथोग्राफी मशीनें एक्सपोज़र के दौरान तापमान में उतार-चढ़ाव के प्रति अत्यंत संवेदनशील होती हैं, जिसके लिए ऐसे वाटर चिलर की आवश्यकता होती है जो अत्यधिक सटीक और स्थिर तापमान नियंत्रण प्रदान करते हैं।

चिलर के कार्य: शीतलन जल को प्रसारित करके, चिलर संचालन के दौरान उत्पन्न गर्मी को प्रभावी ढंग से दूर करते हैं, लेजर उपकरण को इष्टतम तापमान सीमा के भीतर बनाए रखते हैं और लिथोग्राफी प्रक्रिया में सटीकता और विश्वसनीयता सुनिश्चित करते हैं।

 0.08℃ स्थिरता वाला अल्ट्राफास्ट लेजर चिलर CWUP-20ANP

TEYU चिलर लिथोग्राफी मशीनों के लिए पेशेवर शीतलन समाधान प्रदान करता है

TEYU CWUP श्रृंखला के अल्ट्राफास्ट लेजर चिलर लिथोग्राफी मशीनों के लिए सटीक और स्थिर तापमान नियंत्रण प्रदान कर सकते हैं। चिलर मॉडल CWUP-20ANP ±0.08°C की तापमान स्थिरता प्राप्त करता है, जो सटीक विनिर्माण के लिए अत्यधिक कुशल शीतलन प्रदान करता है।

सेमीकंडक्टर निर्माण की सटीक दुनिया में, लिथोग्राफी मशीनें माइक्रोसर्किट पैटर्न के स्थानांतरण के लिए प्रमुख उपकरण हैं। प्रौद्योगिकी की प्रगति के साथ, क्रिप्टन फ्लोराइड लिथोग्राफी मशीन और आर्गन फ्लोराइड लिथोग्राफी मशीन अपने उत्कृष्ट प्रदर्शन के कारण उद्योग के विकास को बढ़ावा देने में महत्वपूर्ण भूमिका निभा रही हैं।

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