Nūhou Wāwahi: Hoʻolaha ʻo MIIT i nā mīkini Lithography DUV kūloko me ka pololei o ka Overlay ≤8nm

I nā mahina i hala iho nei, ua hoʻopuka ke Kuhina o ka ʻOihana a me ka ʻIke ʻIke (MIIT) i nā "Alakaʻi no ka Hoʻolaha a me ka Hoʻohana ʻana o nā Lako Hana ʻenehana Nui (Set) Mua (Paʻi 2024)". Hoʻomākaukau kēia i ke ala no ka localization piha o ka hana ʻana o nā chip makua no nā nodes ma luna o 28nm!

ʻOiai ʻaʻole ʻoi aku ka ʻenehana 28nm i ka ʻoi loa, he mea nui ia ma ke ʻano he laina hoʻokaʻawale ma waena o nā ʻāpana haʻahaʻa a waena a me waena a kiʻekiʻe. Ma waho aʻe o nā CPU holomua, GPU, a me nā ʻāpana AI, hilinaʻi ka hapa nui o nā ʻāpana ʻoihana i nā ʻenehana 28nm a ʻoi aku paha.

Kumu Hana: Nā Holomua ma ka Deep Ultraviolet Lithography

Hāʻule nā ​​mīkini lithography KrF (Krypton Fluoride) a me ArF (Argon Fluoride) ma lalo o ka māhele o ka lithography Deep Ultraviolet (DUV). Hoʻohana lāua ʻelua i nā nalu māmā kikoʻī i hoʻolele ʻia ma o nā ʻōnaehana optical ma luna o ka papa photoresist o kahi wafer silicon, e hoʻoili ana i nā ʻano kaapuni paʻakikī.

Nā Mīkini Lithography KrF: E hoʻohana i kahi kumu kukui nalu 248nm, e hoʻokō ana i nā hoʻonā ma lalo o 110nm, kūpono no nā kaʻina hana hana kaapuni hoʻohui like ʻole.

Nā Mīkini Lithography ArF: E hoʻohana i kahi kumu kukui nalu 193nm, e hāʻawi ana i ka hoʻonā kiʻekiʻe aʻe no nā ʻenehana hana sub-65nm, e hiki ai ke hana ʻia nā kaapuni maikaʻi aʻe.

Ke Koʻikoʻi o ka ʻenehana: Hoʻonui ʻoihana a me ke hilinaʻi ponoʻī

ʻO ka hoʻomohala ʻana o kēia mau mīkini lithography e hōʻailona ana i kahi hanana nui i ka hoʻolaha ʻana i ka hana semiconductor a me ka hoʻokō ʻana i ke kūʻokoʻa ʻoihana.

Nā Holomua ʻenehana: ʻO ka hoʻokumu ʻana o nā mīkini lithography KrF a me ArF e hōʻike ana i ka holomua koʻikoʻi i ka ʻenehana lithography kiʻekiʻe, e hāʻawi ana i ke kākoʻo loea ikaika no ka hana semiconductor.

Hoʻonui ʻoihana: Hiki i nā mīkini lithography kiʻekiʻe ke hana i nā kaapuni hoʻohui paʻakikī a me ka hana kiʻekiʻe, e hoʻokele ana i ka hana hou ma ke kaulahao waiwai semiconductor holoʻokoʻa.

Ka Palekana Hoʻokele Waiwai a me ka Lahui: Ma ka hōʻemi ʻana i ka hilinaʻi ʻana i ka ʻenehana haole, hoʻoikaika kēia mau mīkini i ka lawa ponoʻī o ka ʻoihana semiconductor kūloko, e hoʻoikaika ana i ka palekana hoʻokele waiwai a me nā ʻoihana.

ʻO ka mea hoʻomaʻalili wai : Ke kī i ka hana paʻa o ka mīkini Lithography

He mea nui ka kaohi mahana pololei no ka hōʻoia ʻana i ka maikaʻi a me ka hua o ke kaʻina hana lithography. ʻO nā mea hoʻoluʻu wai, ma ke ʻano he mau ʻāpana koʻikoʻi o nā ʻōnaehana hoʻoluʻu, he kuleana koʻikoʻi kā lākou:

Nā Pono Hoʻomaʻalili: He ʻike nui nā mīkini Lithography i nā loli o ka mahana i ka wā e hōʻike ʻia ai, e pono ai nā mea hoʻomaʻalili wai e hāʻawi i ka kaohi mahana pololei a paʻa hoʻi.

Nā Hana o nā Chillers: Ma ka hoʻohele ʻana i ka wai hoʻoluʻu, hoʻopau pono nā chillers i ka wela i hana ʻia i ka wā hana, mālama i nā lako laser i loko o kahi pae mahana kūpono a me ka hōʻoia ʻana i ka pololei a me ka hilinaʻi i ke kaʻina hana lithography.

TEYU Hāʻawi ʻo Chiller i nā hoʻonā hoʻoluʻu ʻoihana no nā mīkini Lithography

TEYU Hiki i nā mea hoʻomaʻalili laser wikiwiki loa o ka moʻo CWUP ke hāʻawi i ka kaohi mahana pololei a paʻa hoʻi no nā mīkini lithography. Hoʻokō ke kumu hoʻohālike chiller CWUP-20ANP i ke kūpaʻa o ka mahana o ±0.08°C, e hāʻawi ana i ka hoʻomaʻalili kūpono loa no ka hana pololei.

I ke ao kikoʻī o ka hana semiconductor, ʻo nā mīkini lithography nā mea nui no ka hoʻoili ʻana o nā ʻano microcircuit. Me ka holomua o ka ʻenehana, ua lilo ka mīkini lithography krypton fluoride a me ka mīkini lithography argon fluoride i mea ikaika nui e hoʻolaha i ka hoʻomohala ʻana o ka ʻoihana me kā lākou hana maikaʻi loa.