Ultime notizie: MIIT promuove le macchine per litografia DUV nazionali con precisione di sovrapposizione ≤8nm

Nei mesi scorsi, il Ministero dell'Industria e dell'Informatica (MIIT) ha pubblicato le "Linee guida per la promozione e l'applicazione delle prime (e più) principali apparecchiature tecniche (edizione 2024)". Ciò apre la strada alla localizzazione completa del processo di produzione di chip maturi per nodi superiori a 28 nm!

Sebbene la tecnologia a 28 nm non sia all'avanguardia, riveste un'importanza significativa in quanto segna il confine tra i chip di fascia medio-bassa e quelli di fascia medio-alta. A parte CPU, GPU e chip per l'intelligenza artificiale di fascia alta, la maggior parte dei chip di livello industriale si basa su tecnologie a 28 nm o superiori.

Principio di funzionamento: progressi nella litografia a ultravioletti profondi

Le macchine per litografia a KrF (fluoruro di kripton) e ArF (fluoruro di argon) rientrano nella categoria della litografia a ultravioletti profondi (DUV). Entrambe utilizzano specifiche lunghezze d'onda della luce proiettate attraverso sistemi ottici sullo strato di fotoresist di un wafer di silicio, trasferendo complessi schemi di circuiti.

Macchine per litografia KrF: utilizzano una sorgente luminosa con lunghezza d'onda di 248 nm, raggiungendo risoluzioni inferiori a 110 nm, adatte a diversi processi di produzione di circuiti integrati.

Macchine per litografia ArF: utilizzano una sorgente luminosa con lunghezza d'onda di 193 nm, offrendo una risoluzione più elevata per le tecnologie di processo inferiori a 65 nm, consentendo la fabbricazione di circuiti più fini.

Significato tecnologico: ammodernamento industriale e autosufficienza

Lo sviluppo di queste macchine per la litografia rappresenta una pietra miliare fondamentale per il progresso della produzione di semiconduttori e per il raggiungimento dell'autonomia industriale:

Progressi tecnologici: la riuscita realizzazione delle macchine per litografia KrF e ArF evidenzia un significativo progresso nella tecnologia di litografia di fascia alta, fornendo un solido supporto tecnico per la produzione di semiconduttori.

Aggiornamento del settore: le macchine per litografia ad alta precisione consentono la produzione di circuiti integrati più complessi e performanti, promuovendo l'innovazione lungo l'intera catena del valore dei semiconduttori.

Sicurezza economica e nazionale: riducendo la dipendenza dalla tecnologia estera, queste macchine rafforzano l'autosufficienza dell'industria nazionale dei semiconduttori, consolidando la sicurezza economica e industriale.

Refrigeratore d'acqua : la chiave per prestazioni stabili delle macchine per litografia

Un controllo preciso della temperatura è essenziale per garantire la qualità e la resa del processo di litografia. I refrigeratori d'acqua, in quanto componenti fondamentali dei sistemi di raffreddamento, svolgono un ruolo vitale:

Requisiti di raffreddamento: le macchine per litografia sono estremamente sensibili alle fluttuazioni di temperatura durante l'esposizione, pertanto necessitano di refrigeratori d'acqua che garantiscano un controllo della temperatura estremamente preciso e stabile.

Funzioni dei refrigeratori: Facendo circolare acqua di raffreddamento, i refrigeratori dissipano efficacemente il calore generato durante il funzionamento, mantenendo le apparecchiature laser entro un intervallo di temperatura ottimale e garantendo precisione e affidabilità nel processo di litografia.

TEYU Chiller offre soluzioni di raffreddamento professionali per macchine di litografia

TEYU I refrigeratori laser ultraveloci della serie CWUP possono fornire un controllo della temperatura preciso e stabile per le macchine di litografia. Il modello di refrigeratore CWUP-20ANP raggiunge una stabilità della temperatura di ±0,08 °C, offrendo un raffreddamento altamente efficiente per la produzione di precisione.

Nel mondo della produzione di semiconduttori, le macchine per la litografia sono dispositivi fondamentali per il trasferimento dei pattern dei microcircuiti. Con il progresso tecnologico, le macchine per la litografia al fluoruro di kripton e al fluoruro di argon sono diventate una forza trainante per lo sviluppo del settore grazie alle loro eccellenti prestazioni.