Berita Terkini: MIIT Mempromosikan Mesin Litografi DUV Domestik dengan Ketepatan Lapisan ≤8nm

Dalam beberapa bulan kebelakangan ini, Kementerian Industri dan Teknologi Maklumat (MIIT) telah mengeluarkan "Garis Panduan untuk Promosi dan Penggunaan Peralatan Teknikal Utama (Set) Pertama (Edisi 2024)". Ini membuka jalan untuk penyetempatan proses penuh pembuatan cip matang untuk nod melebihi 28nm!

Walaupun teknologi 28nm bukanlah teknologi canggih, ia memegang kepentingan yang ketara sebagai garis pemisah antara cip kelas rendah hingga pertengahan dan kelas sederhana hingga tinggi. Selain CPU, GPU dan cip AI yang canggih, kebanyakan cip gred perindustrian bergantung pada teknologi 28nm atau lebih tinggi.

Prinsip Kerja: Kemajuan dalam Litografi Ultraungu Dalam

Mesin litografi KrF (Krypton Fluorida) dan ArF (Argon Fluorida) termasuk dalam kategori litografi Ultraungu Dalam (DUV). Kedua-duanya menggunakan panjang gelombang cahaya tertentu yang diunjurkan melalui sistem optik ke lapisan fotoresis wafer silikon, memindahkan corak litar yang rumit.

Mesin Litografi KrF: Gunakan sumber cahaya panjang gelombang 248nm, mencapai resolusi di bawah 110nm, sesuai untuk pelbagai proses pembuatan litar bersepadu.

Mesin Litografi ArF: Menggunakan sumber cahaya panjang gelombang 193nm, yang menawarkan resolusi yang lebih tinggi untuk teknologi proses sub-65nm, membolehkan fabrikasi litar yang lebih halus.

Kepentingan Teknologi: Peningkatan Industri dan Kemandirian

Pembangunan mesin litografi ini menandakan satu peristiwa penting dalam memajukan pembuatan semikonduktor dan mencapai autonomi perindustrian:

Kejayaan Teknikal: Kejayaan penciptaan mesin litografi KrF dan ArF menonjolkan kemajuan ketara dalam teknologi litografi canggih, menyediakan sokongan teknikal yang mantap untuk pembuatan semikonduktor.

Naik Taraf Industri: Mesin litografi berketepatan tinggi membolehkan penghasilan litar bersepadu yang lebih kompleks dan berprestasi tinggi, memacu inovasi merentasi keseluruhan rantaian nilai semikonduktor.

Keselamatan Ekonomi dan Negara: Dengan mengurangkan kebergantungan pada teknologi asing, mesin-mesin ini memperkukuh kemandirian industri semikonduktor domestik, sekali gus memperkukuh keselamatan ekonomi dan perindustrian.

Penyejuk Air : Kunci kepada Prestasi Mesin Litografi yang Stabil

Kawalan suhu yang tepat adalah penting untuk memastikan kualiti dan hasil proses litografi. Penyejuk air, sebagai komponen teras sistem penyejukan, memainkan peranan penting:

Keperluan Penyejukan: Mesin litografi sangat sensitif terhadap turun naik suhu semasa pendedahan, justeru memerlukan penyejuk air yang menyediakan kawalan suhu yang sangat tepat dan stabil.

Fungsi Penyejuk: Dengan mengedarkan air penyejuk, penyejuk dapat menghilangkan haba yang dihasilkan semasa operasi dengan berkesan, mengekalkan peralatan laser dalam julat suhu optimum dan memastikan ketepatan dan kebolehpercayaan dalam proses litografi.

TEYU Penyejuk Menawarkan Penyelesaian Penyejukan Profesional untuk Mesin Litografi

TEYU Penyejuk laser ultra pantas siri CWUP boleh memberikan kawalan suhu yang tepat dan stabil untuk mesin litografi. Model penyejuk CWUP-20ANP mencapai kestabilan suhu ±0.08°C, memberikan penyejukan yang sangat cekap untuk pembuatan jitu.

Dalam dunia pembuatan semikonduktor yang tepat, mesin litografi merupakan peranti teras untuk pemindahan corak mikrolitar. Dengan kemajuan teknologi, mesin litografi kripton fluorida dan mesin litografi argon fluorida telah menjadi kuasa penting untuk menggalakkan pembangunan industri dengan prestasi cemerlangnya.