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Última hora: El MIIT promueve las máquinas de litografía DUV nacionales con una precisión de superposición de ≤8 nm.

Las directrices del MIIT para 2024 promueven la localización de procesos completos para la fabricación de chips de 28 nm o más, un hito tecnológico crucial. Entre los avances clave se incluyen las máquinas de litografía KrF y ArF, que permiten la creación de circuitos de alta precisión e impulsan la autosuficiencia de la industria. El control preciso de la temperatura es vital para estos procesos, y los enfriadores de agua CWUP TEYU garantizan un rendimiento estable en la fabricación de semiconductores.

En los últimos meses, el Ministerio de Industria y Tecnología de la Información (MIIT) publicó las "Directrices para la promoción y aplicación del primer conjunto de equipos técnicos importantes (Edición 2024)". ¡Esto allana el camino para la localización completa del proceso de fabricación de chips maduros para nodos superiores a 28 nm!

Si bien la tecnología de 28 nm no es de última generación, tiene una importancia significativa como línea divisoria entre los chips de gama baja-media y los de gama media-alta. Aparte de las CPU, GPU y chips de IA avanzados, la mayoría de los chips de grado industrial utilizan tecnologías de 28 nm o superiores.

 El MIIT promueve las máquinas de litografía DUV nacionales con una precisión de superposición de ≤8 nm.

Principio de funcionamiento: Avances en la litografía ultravioleta profunda

Las máquinas de litografía KrF (fluoruro de kriptón) y ArF (fluoruro de argón) pertenecen a la categoría de litografía ultravioleta profunda (DUV). Ambas utilizan longitudes de onda de luz específicas proyectadas a través de sistemas ópticos sobre la capa de fotorresina de una oblea de silicio, transfiriendo intrincados patrones de circuitos.

Máquinas de litografía KrF: Utilizan una fuente de luz con una longitud de onda de 248 nm, logrando resoluciones inferiores a 110 nm, adecuadas para diversos procesos de fabricación de circuitos integrados.

Máquinas de litografía ArF: Utilizan una fuente de luz con una longitud de onda de 193 nm, lo que ofrece una mayor resolución para tecnologías de proceso inferiores a 65 nm, permitiendo la fabricación de circuitos más finos.

Importancia tecnológica: modernización de la industria y autosuficiencia

El desarrollo de estas máquinas de litografía supone un hito importante en el avance de la fabricación de semiconductores y en el logro de la autonomía industrial:

Avances técnicos: La exitosa creación de máquinas de litografía KrF y ArF pone de manifiesto un progreso significativo en la tecnología de litografía de alta gama, proporcionando un sólido soporte técnico para la fabricación de semiconductores.

Actualización del sector: Las máquinas de litografía de alta precisión permiten la producción de circuitos integrados más complejos y de alto rendimiento, impulsando la innovación en toda la cadena de valor de los semiconductores.

Seguridad económica y nacional: Al reducir la dependencia de la tecnología extranjera, estas máquinas fortalecen la autosuficiencia de la industria nacional de semiconductores, reforzando la seguridad económica e industrial.

Enfriador de agua : la clave para un rendimiento estable de la máquina de litografía.

El control preciso de la temperatura es esencial para garantizar la calidad y el rendimiento del proceso de litografía. Los enfriadores de agua, como componentes clave de los sistemas de refrigeración, desempeñan un papel vital:

Requisitos de refrigeración: Las máquinas de litografía son extremadamente sensibles a las fluctuaciones de temperatura durante la exposición, por lo que requieren enfriadores de agua que proporcionen un control de temperatura muy preciso y estable.

Funciones de los enfriadores: Al hacer circular agua de refrigeración, los enfriadores disipan eficazmente el calor generado durante el funcionamiento, manteniendo los equipos láser dentro de un rango de temperatura óptimo y garantizando la precisión y la fiabilidad en el proceso de litografía.

 Enfriador láser ultrarrápido CWUP-20ANP con estabilidad de 0,08 ℃

TEYU Chiller ofrece soluciones de refrigeración profesionales para máquinas de litografía

TEYU Los enfriadores láser ultrarrápidos de la serie CWUP proporcionan un control de temperatura preciso y estable para máquinas de litografía. El modelo CWUP-20ANP alcanza una estabilidad de temperatura de ±0,08 °C, ofreciendo una refrigeración altamente eficiente para la fabricación de precisión.

En el preciso mundo de la fabricación de semiconductores, las máquinas de litografía son los dispositivos clave para la transferencia de patrones de microcircuitos. Con el avance de la tecnología, las máquinas de litografía de fluoruro de kriptón y de fluoruro de argón se han convertido en un elemento fundamental para impulsar el desarrollo de la industria gracias a su excelente rendimiento.

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