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Últimas noticias: MIIT promueve máquinas de litografía DUV domésticas con precisión de superposición de ≤8 nm

Las directrices del MIIT para 2024 promueven la localización de todo el proceso para la fabricación de chips de más de 28 nm, un hito tecnológico crucial. Entre los avances clave se incluyen las máquinas de litografía KrF y ArF, que permiten circuitos de alta precisión e impulsan la autosuficiencia de la industria. El control preciso de la temperatura es vital para estos procesos, y los enfriadores de agua CWUP de TEYU garantizan un rendimiento estable en la fabricación de semiconductores.

Diciembre 06, 2024

En los últimos meses, el Ministerio de Industria y Tecnología de la Información (MIIT) publicó las "Directrices para la promoción y aplicación de los primeros equipos técnicos importantes (edición 2024)". ¡Esto allana el camino para la localización de procesos completos de fabricación de chips maduros para nodos por encima de los 28 nm!


Aunque la tecnología de 28 nm no es de vanguardia, tiene una importancia significativa como línea divisoria entre los chips de gama baja y media y los de gama media y alta. Aparte de las CPU, GPU y chips de IA avanzados, la mayoría de los chips de grado industrial se basan en tecnologías de 28 nm o superiores.


El MIIT promueve máquinas de litografía DUV domésticas con precisión de superposición de ≤8 nm


Principio de funcionamiento: avances en la litografía ultravioleta profunda

Las máquinas de litografía KrF (fluoruro de criptón) y ArF (fluoruro de argón) pertenecen a la categoría de litografía ultravioleta profunda (DUV). Ambas utilizan longitudes de onda de luz específicas proyectadas a través de sistemas ópticos sobre la capa de fotorresistencia de una oblea de silicio, transfiriendo patrones de circuitos complejos.

Máquinas de litografía KrF: utilizan una fuente de luz de longitud de onda de 248 nm, logrando resoluciones inferiores a 110 nm, adecuadas para diversos procesos de fabricación de circuitos integrados.

Máquinas de litografía ArF: utilizan una fuente de luz con una longitud de onda de 193 nm, lo que ofrece una mayor resolución para tecnologías de proceso de menos de 65 nm, lo que permite la fabricación de circuitos más finos.


Importancia tecnológica: modernización de la industria y autosuficiencia

El desarrollo de estas máquinas de litografía marca un hito importante en el avance de la fabricación de semiconductores y el logro de la autonomía industrial:

Avances técnicos: La exitosa creación de las máquinas de litografía KrF y ArF resalta un progreso significativo en la tecnología de litografía de alta gama, proporcionando un sólido soporte técnico para la fabricación de semiconductores.

Actualización de la industria: Las máquinas de litografía de alta precisión permiten la producción de circuitos integrados más complejos y de alto rendimiento, impulsando la innovación en toda la cadena de valor de los semiconductores.

Seguridad económica y nacional: Al reducir la dependencia de la tecnología extranjera, estas máquinas fortalecen la autosuficiencia de la industria nacional de semiconductores, reforzando la seguridad económica e industrial.


Enfriador de agua : la clave para un rendimiento estable de la máquina de litografía

El control preciso de la temperatura es esencial para garantizar la calidad y el rendimiento del proceso de litografía. Los enfriadores de agua, como componentes básicos de los sistemas de refrigeración, desempeñan un papel fundamental:

Requisitos de enfriamiento: Las máquinas de litografía son extremadamente sensibles a las fluctuaciones de temperatura durante la exposición, lo que requiere enfriadores de agua que proporcionen un control de temperatura altamente preciso y estable.

Funciones de los enfriadores: Al hacer circular agua de enfriamiento, los enfriadores disipan eficazmente el calor generado durante el funcionamiento, manteniendo el equipo láser dentro de un rango de temperatura óptimo y garantizando precisión y confiabilidad en el proceso de litografía.


Enfriador láser ultrarrápido CWUP-20ANP con estabilidad de 0,08 ℃


TEYU Chiller ofrece soluciones de refrigeración profesionales para máquinas de litografía

Los enfriadores láser ultrarrápidos de la serie CWUP de TEYU pueden proporcionar un control de temperatura preciso y estable para las máquinas de litografía. El enfriador modelo CWUP-20ANP logra una estabilidad de temperatura de ±0,08 °C, lo que proporciona un enfriamiento altamente eficiente para la fabricación de precisión.


En el mundo de la fabricación de semiconductores, las máquinas de litografía son los dispositivos centrales para la transferencia de patrones de microcircuitos. Con el avance de la tecnología, las máquinas de litografía de fluoruro de criptón y de fluoruro de argón se han convertido en una fuerza importante para promover el desarrollo de la industria con su excelente rendimiento.

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