hírek
VR

Friss hírek: A MIIT népszerűsíti a hazai DUV litográfiai gépeket ≤8nm átfedési pontossággal

A MIIT 2024-es irányelvei előmozdítják a teljes folyamatok lokalizálását a 28 nm+ chipgyártáshoz, ami egy kulcsfontosságú technológiai mérföldkő. A legfontosabb fejlesztések közé tartoznak a KrF és ArF litográfiai gépek, amelyek nagy pontosságú áramköröket tesznek lehetővé, és növelik az iparág önellátását. A precíz hőmérséklet-szabályozás létfontosságú ezekhez a folyamatokhoz, a TEYU CWUP vízhűtőkkel stabil teljesítményt biztosítanak a félvezetőgyártásban.

december 06, 2024

Az elmúlt hónapokban az Ipari és Informatikai Minisztérium (MIIT) kiadta az "Irányelvek az első (készlet) főbb műszaki berendezések népszerűsítéséhez és alkalmazásához (2024-es kiadás)" c. Ez megnyitja az utat a 28 nm feletti csomópontok kiforrott chipgyártásának teljes folyamatban történő lokalizálásához!


Bár a 28 nm-es technológia nem a legkorszerűbb, jelentős jelentőséggel bír, mint az alsó-közép- és a közép- és csúcskategóriás chipek közötti választóvonal. A fejlett CPU-k, GPU-k és mesterséges intelligencia-chipek mellett a legtöbb ipari minőségű chip 28 nm-es vagy magasabb technológiára támaszkodik.


A MIIT népszerűsíti a hazai DUV litográfiai gépeket ≤8nm átfedési pontossággal


Működési elv: A mély-ultraibolya litográfia fejlődése

A KrF (Krypton Fluoride) és ArF (Argon Fluorid) litográfiai gépek a Deep Ultraviolet (DUV) litográfia kategóriájába tartoznak. Mindkettő speciális fényhullámhosszakat használ, amelyeket optikai rendszereken keresztül a szilíciumlapka fotoreziszt rétegére vetítenek, és bonyolult áramköri mintákat továbbítanak.

KrF litográfiai gépek: 248 nm hullámhosszú fényforrást használjon, amely 110 nm alatti felbontást ér el, és alkalmas különféle integrált áramkörök gyártási folyamataira.

ArF litográfiai gépek: 193 nm-es hullámhosszú fényforrást használjon, amely nagyobb felbontást kínál a 65 nm alatti folyamattechnológiákhoz, lehetővé téve finomabb áramkörök gyártását.


Technológiai jelentősége: Ipari fejlesztés és önellátás

Ezeknek a litográfiai gépeknek a fejlesztése jelentős mérföldkövet jelent a félvezetőgyártás előrehaladása és az ipari autonómia elérésében:

Technikai áttörések: A KrF és ArF litográfiai gépek sikeres megalkotása a csúcsminőségű litográfiai technológia jelentős előrehaladását jelzi, robusztus műszaki támogatást nyújtva a félvezetőgyártáshoz.

Iparági fejlesztés: A nagy pontosságú litográfiai gépek bonyolultabb és nagy teljesítményű integrált áramkörök gyártását teszik lehetővé, és az innovációt a teljes félvezető-értékláncon keresztül hajtják végre.

Gazdasági és nemzetbiztonság: A külföldi technológiától való függés csökkentésével ezek a gépek erősítik a hazai félvezetőipar önellátását, erősítik a gazdasági és ipari biztonságot.


Vízhűtő : a kulcs a stabil litográfiai gép teljesítményéhez

A pontos hőmérsékletszabályozás elengedhetetlen a litográfiai eljárás minőségének és hozamának biztosításához. A vízhűtők, mint a hűtőrendszerek alapvető elemei, létfontosságú szerepet játszanak:

Hűtési követelmények: A litográfiai gépek rendkívül érzékenyek a hőmérséklet-ingadozásokra az expozíció során, ezért olyan vízhűtőkre van szükség, amelyek rendkívül pontos és stabil hőmérsékletszabályozást biztosítanak.

A hűtőberendezések funkciói: A hűtővíz keringetésével a hűtők hatékonyan elvezetik a működés közben keletkező hőt, optimális hőmérsékleti tartományban tartják a lézeres berendezést, és biztosítják a litográfiai folyamat pontosságát és megbízhatóságát.


Ultragyors CWUP-20ANP lézerhűtő 0,08 ℃ stabilitással


A TEYU hűtőgép professzionális hűtési megoldásokat kínál litográfiai gépekhez

A TEYU CWUP sorozatú ultragyors lézerhűtői precíz és stabil hőmérséklet-szabályozást biztosítanak a litográfiai gépekhez. A CWUP-20ANP hűtőmodell ±0,08°C hőmérséklet-stabilitást biztosít, rendkívül hatékony hűtést biztosítva a precíziós gyártáshoz.


A félvezetőgyártás precíz világában a litográfiai gépek a mikroáramkörök mintáinak átvitelének alapvető eszközei. A technológia fejlődésével a kripton-fluorid litográfiai gépek és az argon-fluorid litográfiai gépek kiváló teljesítményükkel fontos erővé váltak az ipar fejlődésének elősegítésében.

Alapinformációk
  • Alapítás éve
    --
  • üzleti típus
    --
  • Ország / régió
    --
  • Főipar
    --
  • Fő Termékek
    --
  • Vállalati jogi személy
    --
  • Összes alkalmazottak
    --
  • Éves kimeneti érték
    --
  • Exportpiac
    --
  • Együttműködő ügyfelek
    --

Itt vagyunk neked, amikor szükséged van ránk.

Kérjük, töltse ki az űrlapot, hogy kapcsolatba léphessen velünk, és mi örömmel segítünk.

Küldje el a lekérdezést

Válasszon másik nyelvet
English
العربية
Deutsch
Español
français
italiano
日本語
한국어
Português
русский
简体中文
繁體中文
Afrikaans
አማርኛ
Azərbaycan
Беларуская
български
বাংলা
Bosanski
Català
Sugbuanon
Corsu
čeština
Cymraeg
dansk
Ελληνικά
Esperanto
Eesti
Euskara
فارسی
Suomi
Frysk
Gaeilgenah
Gàidhlig
Galego
ગુજરાતી
Hausa
Ōlelo Hawaiʻi
हिन्दी
Hmong
Hrvatski
Kreyòl ayisyen
Magyar
հայերեն
bahasa Indonesia
Igbo
Íslenska
עִברִית
Basa Jawa
ქართველი
Қазақ Тілі
ខ្មែរ
ಕನ್ನಡ
Kurdî (Kurmancî)
Кыргызча
Latin
Lëtzebuergesch
ລາວ
lietuvių
latviešu valoda‎
Malagasy
Maori
Македонски
മലയാളം
Монгол
मराठी
Bahasa Melayu
Maltese
ဗမာ
नेपाली
Nederlands
norsk
Chicheŵa
ਪੰਜਾਬੀ
Polski
پښتو
Română
سنڌي
සිංහල
Slovenčina
Slovenščina
Faasamoa
Shona
Af Soomaali
Shqip
Српски
Sesotho
Sundanese
svenska
Kiswahili
தமிழ்
తెలుగు
Точики
ภาษาไทย
Pilipino
Türkçe
Українська
اردو
O'zbek
Tiếng Việt
Xhosa
יידיש
èdè Yorùbá
Zulu
Aktuális nyelv:Magyar