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Präzise Temperaturregelung für Lasersysteme und industrielle Anwendungen seit 2002
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Die Richtlinien des MIIT für 2024 fördern die vollständige Prozesslokalisierung für die Herstellung von 28-nm-Chips, ein entscheidender technischer Meilenstein. Zu den wichtigsten Fortschritten zählen KrF- und ArF-Lithografiemaschinen, die hochpräzise Schaltkreise ermöglichen und die Unabhängigkeit der Industrie stärken. Eine präzise Temperaturregelung ist für diese Prozesse von entscheidender Bedeutung. TEYU CWUP-Wasserkühler sorgen für eine stabile Leistung bei der Halbleiterherstellung.
In den letzten Monaten hat das Ministerium für Industrie und Informationstechnologie (MIIT) die „Richtlinien für die Förderung und Anwendung der ersten (festgelegten) wichtigsten technischen Ausrüstung (Ausgabe 2024)“ herausgegeben. Dies ebnet den Weg für die vollständige Prozesslokalisierung der ausgereiften Chipherstellung für Knoten über 28 nm!
Obwohl die 28-nm-Technologie nicht auf dem neuesten Stand ist, ist sie dennoch von großer Bedeutung als Trennlinie zwischen Chips der unteren bis mittleren Preisklasse und Chips der mittleren bis oberen Preisklasse. Abgesehen von fortschrittlichen CPUs, GPUs und KI-Chips basieren die meisten Industriechips auf 28-nm- oder höheren Technologien.
Funktionsprinzip: Fortschritte in der Tief-Ultraviolett-Lithographie
KrF- (Kryptonfluorid) und ArF- (Argonfluorid) Lithographiemaschinen fallen in die Kategorie der Tief-Ultraviolett-Lithographie (DUV). Beide verwenden spezielle Lichtwellenlängen, die durch optische Systeme auf die Fotolackschicht eines Siliziumwafers projiziert werden, wodurch komplizierte Schaltkreismuster übertragen werden.
KrF-Lithografiemaschinen: Verwenden eine Lichtquelle mit 248 nm Wellenlänge und erreichen Auflösungen unter 110 nm, geeignet für verschiedene Herstellungsprozesse integrierter Schaltkreise.
ArF-Lithografiegeräte: Verwenden eine Lichtquelle mit 193 nm Wellenlänge und bieten so eine höhere Auflösung für Prozesstechnologien unter 65 nm, wodurch die Herstellung feinerer Schaltkreise möglich wird.
Technologische Bedeutung: Industrie-Upgrade und Eigenständigkeit
Die Entwicklung dieser Lithographiemaschinen stellt einen wichtigen Meilenstein für die Weiterentwicklung der Halbleiterfertigung und das Erreichen industrieller Autonomie dar:
Technische Durchbrüche: Die erfolgreiche Entwicklung von KrF- und ArF-Lithografiemaschinen unterstreicht den bedeutenden Fortschritt in der High-End-Lithografietechnologie und bietet eine robuste technische Unterstützung für die Halbleiterherstellung.
Branchen-Upgrade: Hochpräzise Lithografiemaschinen ermöglichen die Herstellung komplexerer und leistungsstärkerer integrierter Schaltkreise und treiben Innovationen entlang der gesamten Halbleiter-Wertschöpfungskette voran.
Wirtschaftliche und nationale Sicherheit: Durch die Verringerung der Abhängigkeit von ausländischer Technologie stärken diese Maschinen die Autarkie der heimischen Halbleiterindustrie und erhöhen so die wirtschaftliche und industrielle Sicherheit.
Wasserkühler : Der Schlüssel zur stabilen Leistung von Lithografiemaschinen
Eine präzise Temperaturregelung ist für die Qualität und Ausbeute des Lithografieprozesses unerlässlich. Wasserkühler spielen als Kernkomponenten von Kühlsystemen eine entscheidende Rolle:
Kühlungsanforderungen: Lithografiegeräte reagieren während der Belichtung äußerst empfindlich auf Temperaturschwankungen und erfordern daher Wasserkühler, die eine äußerst genaue und stabile Temperaturregelung ermöglichen.
Funktionen von Kühlern: Durch die Zirkulation von Kühlwasser leiten Kühler die während des Betriebs erzeugte Wärme effektiv ab, halten die Laserausrüstung in einem optimalen Temperaturbereich und gewährleisten Genauigkeit und Zuverlässigkeit im Lithografieprozess.
TEYU Chiller bietet professionelle Kühllösungen für Lithografiemaschinen
Die ultraschnellen Laserkühler der CWUP-Serie von TEYU ermöglichen eine präzise und stabile Temperaturregelung für Lithografiemaschinen. Das Kühlermodell CWUP-20ANP erreicht eine Temperaturstabilität von ±0,08 °C und bietet hocheffiziente Kühlung für die Präzisionsfertigung.
In der anspruchsvollen Welt der Halbleiterherstellung sind Lithographiemaschinen die wichtigsten Geräte für die Übertragung von Mikroschaltkreismustern. Mit dem Fortschritt der Technologie sind Kryptonfluorid-Lithographiemaschinen und Argonfluorid-Lithographiemaschinen mit ihrer hervorragenden Leistung zu einer wichtigen Kraft geworden, die die Entwicklung der Branche vorantreibt.
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