loading
Язык

Срочная новость: Министерство промышленности и информационных технологий продвигает отечественные машины для литографии с двойным ультрафиолетовым излучением, обеспечивающие точность совмещения ≤8 нм.

Руководящие принципы MIIT 2024 года способствуют локализации всего процесса производства микросхем по технологии 28 нм+, что является важнейшим технологическим достижением. Ключевые достижения включают в себя литографические машины KrF и ArF, позволяющие создавать высокоточные схемы и повышающие самодостаточность отрасли. Точный контроль температуры имеет решающее значение для этих процессов, а водоохладители CWUP обеспечивают стабильную работу в полупроводниковом производстве.

В последние месяцы Министерство промышленности и информационных технологий (МИИТ) выпустило «Руководство по продвижению и применению первого (комплекта) основного технического оборудования (издание 2024 года)». Это открывает путь к полной локализации зрелого процесса производства микросхем для техпроцессов выше 28 нм!

Хотя 28-нм технология не является передовой, она имеет важное значение как разделительная линия между чипами низкого и среднего ценового сегмента и чипами среднего и высокого ценового сегмента. За исключением продвинутых процессоров, графических процессоров и чипов для искусственного интеллекта, большинство чипов промышленного класса используют 28-нм или более совершенные технологии.

 Министерство промышленности и информационных технологий продвигает отечественные литографические машины с ультрафиолетовым облучением, обеспечивающие точность совмещения ≤8 нм.

Принцип работы: достижения в области глубокой ультрафиолетовой литографии

Литографические установки на основе KrF (фторида криптона) и ArF (фторида аргона) относятся к категории глубокой ультрафиолетовой (ДУВ) литографии. Обе используют определенные длины волн света, проецируемые через оптические системы на слой фоторезиста кремниевой пластины, для переноса сложных схемных рисунков.

Литографические машины KrF: используют источник света с длиной волны 248 нм, обеспечивая разрешение менее 110 нм, что подходит для различных процессов производства интегральных схем.

Литографические машины ArF: используют источник света с длиной волны 193 нм, обеспечивая более высокое разрешение для технологических процессов с размером частиц менее 65 нм, что позволяет изготавливать более тонкие схемы.

Технологическое значение: модернизация промышленности и самодостаточность

Разработка этих литографических машин знаменует собой важный этап в развитии полупроводникового производства и достижении промышленной автономии:

Технические прорывы: Успешное создание литографических машин на основе KrF и ArF демонстрирует значительный прогресс в высокотехнологичных технологиях литографии, обеспечивая надежную техническую поддержку полупроводниковому производству.

Модернизация отрасли: высокоточные литографические машины позволяют производить более сложные и высокопроизводительные интегральные схемы, стимулируя инновации по всей цепочке создания стоимости в полупроводниковой отрасли.

Экономическая и национальная безопасность: снижая зависимость от иностранных технологий, эти машины укрепляют самодостаточность отечественной полупроводниковой промышленности, повышая экономическую и промышленную безопасность.

Водоохладитель : залог стабильной работы литографического аппарата.

Точный контроль температуры имеет решающее значение для обеспечения качества и выхода годной продукции в процессе литографии. Водоохладители, как основные компоненты систем охлаждения, играют жизненно важную роль:

Требования к охлаждению: Литографические машины чрезвычайно чувствительны к колебаниям температуры во время экспозиции, поэтому необходимы водоохладители, обеспечивающие высокоточный и стабильный контроль температуры.

Функции чиллеров: Циркулируя охлаждающую воду, чиллеры эффективно рассеивают тепло, выделяемое во время работы, поддерживая лазерное оборудование в оптимальном температурном диапазоне и обеспечивая точность и надежность процесса литографии.

 Сверхбыстрый лазерный охладитель CWUP-20ANP со стабильностью 0,08℃.

TEYU Chiller предлагает профессиональные решения для охлаждения литографических машин.

TEYU Сверхбыстрые лазерные чиллеры серии CWUP обеспечивают точный и стабильный контроль температуры для литографических машин. Чиллер модели CWUP-20ANP обеспечивает стабильность температуры ±0,08°C, что гарантирует высокоэффективное охлаждение для прецизионного производства.

В высокоточной полупроводниковой промышленности литографические машины являются ключевыми устройствами для переноса микросхемных рисунков. С развитием технологий литографические машины на основе фторида криптона и фторида аргона, благодаря своим превосходным характеристикам, стали важной движущей силой развития отрасли.

предыдущий
Применение лазерных технологий в производстве складных смартфонов.
Роль лазерных технологий в сельском хозяйстве: повышение эффективности и устойчивости.
следующий

Мы здесь для вас, когда вы нуждаетесь в нас.

Пожалуйста, заполните форму, чтобы связаться с нами, и мы будем рады вам помочь.

Дом   |     Продукты       |     SGS и UL Чиллер       |     Охлаждающее решение     |     Компания      |    Ресурс       |      Устойчивость
Авторские права © 2026 TEYU S&A Chiller | Карта сайта Политика конфиденциальности
Связаться с нами
email
Свяжитесь с обслуживанием клиентов
Связаться с нами
email
Отмена
Customer service
detect