Laser Neiegkeeten
VR

Breaking News: MIIT fördert Domestic DUV Lithographie Maschinnen mat ≤8nm Overlay Genauegkeet

D'MIIT's 2024 Richtlinnen förderen Vollprozesslokaliséierung fir 28nm+ Chipfabrikatioun, e wesentlechen Tech Meilesteen. Schlëssel Fortschrëtter enthalen KrF an ArF Lithographie Maschinnen, déi héich Präzisioun Circuiten erlaben an d'Industrie Selbstvertrauen erhéijen. Präzis Temperaturkontrolle ass vital fir dës Prozesser, mat TEYU CWUP Waasserchiller déi stabil Leeschtung an der Hallefleitfabrikatioun garantéieren.

Dezember 06, 2024

An de leschte Méint huet de Ministère fir Industrie an Informatiounstechnologie (MIIT) d'"Guidelines for the Promotion and Application of First (Set) Major Technical Equipment (2024 Edition)" erausginn. Dëst mécht de Wee fir Voll-Prozess Lokaliséierung vun reife Chip Fabrikatioun fir Node iwwer 28nm!


Och wann 28nm Technologie net opzedeelen ass, hält se bedeitend Wichtegkeet als Trennungslinn tëscht Low-to-Mid-End a Mid-to-High-End Chips. Nieft fortgeschratt CPUs, GPUs, an AI Chips, vertrauen déi meescht Industriegrad Chips op 28nm oder méi héich Technologien.


MIIT fördert Domestic DUV Lithographie Maschinnen mat ≤8nm Overlay Genauegkeet


Aarbechtsprinzip: Fortschrëtter an Deep Ultraviolet Lithography

KrF (Krypton Fluoride) an ArF (Argon Fluoride) Lithographiemaschinne falen ënner der Kategorie Deep Ultraviolet (DUV) Lithographie. Béid benotze spezifesch Liichtwellelängten, déi duerch optesch Systemer op d'Fotoresistschicht vun engem Siliziumwafer projizéiert sinn, a komplizéiert Circuitmuster iwwerdroen.

KrF Lithographie Maschinnen: Benotzt eng 248nm Wellelängt Liichtquell, Erreeche Resolutiounen ënner 110nm, gëeegent fir verschidden integréiert Circuit Fabrikatioun Prozesser.

ArF Lithographie Maschinnen: Benotzt eng 193nm Wellelängt Liichtquell, bitt méi héich Opléisung fir Ënner-65nm Prozesstechnologien, wat d'Fabrikatioun vu méi feine Kreesleef erméiglecht.


Technologesch Bedeitung: Industrie Upgrade a Selbstvertrauen

D'Entwécklung vun dëse Lithographiemaschinne markéiert e grousse Meilesteen bei der Fortschrëtter vun der Halbleiterfabrikatioun an der Erreeche vun der industrieller Autonomie:

Technesch Duerchbréch: Déi erfollegräich Kreatioun vu KrF an ArF Lithografie Maschinnen beliicht bedeitend Fortschrëtter an der High-End Lithographie Technologie, déi robust technesch Ënnerstëtzung fir Halbleiterfabrikatioun ubitt.

Industrie Upgrade: Héichpräzis Lithographiemaschinnen erméiglechen d'Produktioun vu méi komplexen a performante integréierte Circuiten, déi Innovatioun iwwer d'ganz Hallefleitwäertkette féieren.

Wirtschaftlech an National Sécherheet: Duerch d'Reduktioun vun der Ofhängegkeet vun der auslännescher Technologie, stäerken dës Maschinnen d'Selbstversécherung vun der Gewalt Halbleiterindustrie, stäerken d'wirtschaftlech an industriell Sécherheet.


Waasser Chiller : De Schlëssel fir stabil Lithographie Maschinn Leeschtung

Präzis Temperaturkontroll ass essentiell fir d'Qualitéit an d'Ausbezuele vum Lithographieprozess ze garantéieren. Waasserchiller, als Kärkomponente vu Killsystemer, spillen eng vital Roll:

Ofkillungsfuerderunge: Lithographie Maschinnen sinn extrem empfindlech op Temperaturschwankungen wärend der Belaaschtung, erfuerderlech Waasserkühler déi héich genau a stabil Temperaturkontrolle ubidden.

Fonctiounen vun Chiller: Duerch zirkuléierend Killwaasser, chilleren effektiv Hëtzt opléisen, déi während der Operatioun generéiert gëtt, Laserausrüstung an engem optimalen Temperaturberäich erhalen a Genauegkeet an Zouverlässegkeet am Lithographieprozess garantéieren.


Ultraschnell Laser Chiller CWUP-20ANP mat 0,08 ℃ Stabilitéit


TEYU Chiller Offer berufflech Killmëttel Léisunge fir Lithographie Maschinnen

TEYU CWUP Serie ultraschnell Laser Chiller kënnen präzis a stabil Temperaturkontrolle fir Lithographiemaschinnen ubidden. De Chiller Modell CWUP-20ANP erreecht Temperaturstabilitéit vun ± 0,08 ° C, liwwert héich effizient Ofkillung fir Präzisiounsfabrikatioun.


An der präzis Welt vun der Halbleiterfabrikatioun sinn Lithographiemaschinnen d'Kärgeräter fir den Transfer vu Mikrokreesmuster. Mat dem Fortschrëtt vun der Technologie, Krypton Fluorid Lithographie Maschinn an Argon Fluor Lithographie Maschinn sinn eng wichteg Kraaft ginn fir d'Entwécklung vun der Industrie mat hirer exzellenter Leeschtung ze förderen.

Basis Informatioun
  • Am Joer etabléiert
    --
  • Geschäftsaart
    --
  • Land / Regioun
    --
  • Haaptinadik
    --
  • Haaptprodukter
    --
  • Enterprise legal Persoun
    --
  • Total Mataarbechter
    --
  • Allgemeng Brice Wäert
    --
  • Export Maart
    --
  • Kooperéiert Clienten
    --

Mir sinn fir Iech do wann Dir eis braucht.

Fëllt w.e.g. de Formulaire aus fir eis ze kontaktéieren, a mir wäerten Iech gären hëllefen.

Schéckt Är Ufro

Wielt eng aner Sprooch
English
العربية
Deutsch
Español
français
italiano
日本語
한국어
Português
русский
简体中文
繁體中文
Afrikaans
አማርኛ
Azərbaycan
Беларуская
български
বাংলা
Bosanski
Català
Sugbuanon
Corsu
čeština
Cymraeg
dansk
Ελληνικά
Esperanto
Eesti
Euskara
فارسی
Suomi
Frysk
Gaeilgenah
Gàidhlig
Galego
ગુજરાતી
Hausa
Ōlelo Hawaiʻi
हिन्दी
Hmong
Hrvatski
Kreyòl ayisyen
Magyar
հայերեն
bahasa Indonesia
Igbo
Íslenska
עִברִית
Basa Jawa
ქართველი
Қазақ Тілі
ខ្មែរ
ಕನ್ನಡ
Kurdî (Kurmancî)
Кыргызча
Latin
Lëtzebuergesch
ລາວ
lietuvių
latviešu valoda‎
Malagasy
Maori
Македонски
മലയാളം
Монгол
मराठी
Bahasa Melayu
Maltese
ဗမာ
नेपाली
Nederlands
norsk
Chicheŵa
ਪੰਜਾਬੀ
Polski
پښتو
Română
سنڌي
සිංහල
Slovenčina
Slovenščina
Faasamoa
Shona
Af Soomaali
Shqip
Српски
Sesotho
Sundanese
svenska
Kiswahili
தமிழ்
తెలుగు
Точики
ภาษาไทย
Pilipino
Türkçe
Українська
اردو
O'zbek
Tiếng Việt
Xhosa
יידיש
èdè Yorùbá
Zulu
Aktuell Sprooch:Lëtzebuergesch