Nieuws
VR

Laatste nieuws: MIIT promoot binnenlandse DUV-lithografiemachines met een overlaynauwkeurigheid van ≤8 nm

De richtlijnen van MIIT voor 2024 promoten volledige proceslokalisatie voor 28nm+ chipproductie, een cruciale technologische mijlpaal. Belangrijke ontwikkelingen zijn KrF- en ArF-lithografiemachines, die circuits met hoge precisie mogelijk maken en de zelfredzaamheid van de industrie vergroten. Nauwkeurige temperatuurregeling is essentieel voor deze processen, waarbij TEYU CWUP-waterkoelers zorgen voor stabiele prestaties in de halfgeleiderproductie.

December 06, 2024

De afgelopen maanden heeft het Ministerie van Industrie en Informatietechnologie (MIIT) de "Richtlijnen voor de promotie en toepassing van de eerste (set) belangrijke technische apparatuur (editie 2024)" uitgegeven. Dit maakt de weg vrij voor volledige proceslokalisatie van volwassen chipproductie voor knooppunten boven 28 nm!


Hoewel 28nm-technologie niet cutting-edge is, is het van groot belang als scheidslijn tussen low-to-mid-end en mid-to-high-end chips. Afgezien van geavanceerde CPU's, GPU's en AI-chips, vertrouwen de meeste industriële chips op 28nm of hogere technologieën.


MIIT promoot binnenlandse DUV-lithografiemachines met een overlaynauwkeurigheid van ≤8 nm


Werkprincipe: Vooruitgang in diepe ultraviolette lithografie

KrF (Krypton Fluoride) en ArF (Argon Fluoride) lithografiemachines vallen onder de categorie Deep Ultraviolet (DUV) lithografie. Beide maken gebruik van specifieke lichtgolflengtes die via optische systemen op de fotoresistlaag van een siliciumwafer worden geprojecteerd, waardoor ingewikkelde circuitpatronen worden overgebracht.

KrF-lithografiemachines: maken gebruik van een lichtbron met een golflengte van 248 nm en bereiken resoluties onder de 110 nm. Ze zijn geschikt voor verschillende productieprocessen voor geïntegreerde schakelingen.

ArF-lithografiemachines: maken gebruik van een lichtbron met een golflengte van 193 nm en bieden een hogere resolutie voor procestechnologieën met een golflengte van minder dan 65 nm, waardoor fijnere circuits kunnen worden vervaardigd.


Technologische betekenis: industriële upgrade en zelfredzaamheid

De ontwikkeling van deze lithografiemachines markeert een belangrijke mijlpaal in de vooruitgang van de halfgeleiderproductie en het bereiken van industriële autonomie:

Technische doorbraken: De succesvolle ontwikkeling van KrF- en ArF-lithografiemachines onderstreept de aanzienlijke vooruitgang in geavanceerde lithografietechnologie en biedt robuuste technische ondersteuning voor de productie van halfgeleiders.

Industrie-upgrade: Zeer nauwkeurige lithografiemachines maken de productie van complexere en hoogwaardigere geïntegreerde schakelingen mogelijk, wat innovatie in de gehele halfgeleiderwaardeketen stimuleert.

Economische en nationale veiligheid: Door de afhankelijkheid van buitenlandse technologie te verminderen, versterken deze machines de zelfredzaamheid van de binnenlandse halfgeleiderindustrie, wat de economische en industriële veiligheid vergroot.


Waterkoeler : de sleutel tot stabiele prestaties van lithografiemachines

Precieze temperatuurcontrole is essentieel om de kwaliteit en opbrengst van het lithografieproces te waarborgen. Waterkoelers, als kerncomponenten van koelsystemen, spelen een cruciale rol:

Koelvereisten: Lithografiemachines zijn extreem gevoelig voor temperatuurschommelingen tijdens de belichting. Daarom zijn waterkoelers nodig die een uiterst nauwkeurige en stabiele temperatuurregeling bieden.

Functies van koelmachines: Door koelwater te laten circuleren, voeren koelmachines de warmte die tijdens de werking ontstaat effectief af. Zo blijft de temperatuur van de laserapparatuur optimaal en wordt de nauwkeurigheid en betrouwbaarheid van het lithografieproces gewaarborgd.


Ultrasnelle laserkoeler CWUP-20ANP met 0,08℃ stabiliteit


TEYU Chiller biedt professionele koeloplossingen voor lithografiemachines

TEYU CWUP-serie ultrasnelle laserkoelers kunnen nauwkeurige en stabiele temperatuurregeling bieden voor lithografiemachines. Het koelermodel CWUP-20ANP bereikt een temperatuurstabiliteit van ±0,08°C en levert zeer efficiënte koeling voor precisieproductie.


In de precieze wereld van halfgeleiderproductie zijn lithografiemachines de kernapparaten voor de overdracht van microcircuitpatronen. Met de vooruitgang van de technologie zijn kryptonfluoridelithografiemachines en argonfluoridelithografiemachines een belangrijke kracht geworden om de ontwikkeling van de industrie te bevorderen met hun uitstekende prestaties.

Basis informatie
  • Opgericht in het jaar
    --
  • Soort bedrijf
    --
  • Land / regio
    --
  • Hoofdindustrie
    --
  • hoofd producten
    --
  • Enterprise Juridische persoon
    --
  • Totaal werknemers
    --
  • Jaarlijkse uitvoerwaarde
    --
  • Exportmarkt
    --
  • Medewerkte klanten
    --

Wij zijn er voor u wanneer u ons nodig heeft.

Vul het formulier in om contact met ons op te nemen. Wij helpen u graag verder.

Stuur uw aanvraag

Kies een andere taal
English
العربية
Deutsch
Español
français
italiano
日本語
한국어
Português
русский
简体中文
繁體中文
Afrikaans
አማርኛ
Azərbaycan
Беларуская
български
বাংলা
Bosanski
Català
Sugbuanon
Corsu
čeština
Cymraeg
dansk
Ελληνικά
Esperanto
Eesti
Euskara
فارسی
Suomi
Frysk
Gaeilgenah
Gàidhlig
Galego
ગુજરાતી
Hausa
Ōlelo Hawaiʻi
हिन्दी
Hmong
Hrvatski
Kreyòl ayisyen
Magyar
հայերեն
bahasa Indonesia
Igbo
Íslenska
עִברִית
Basa Jawa
ქართველი
Қазақ Тілі
ខ្មែរ
ಕನ್ನಡ
Kurdî (Kurmancî)
Кыргызча
Latin
Lëtzebuergesch
ລາວ
lietuvių
latviešu valoda‎
Malagasy
Maori
Македонски
മലയാളം
Монгол
मराठी
Bahasa Melayu
Maltese
ဗမာ
नेपाली
Nederlands
norsk
Chicheŵa
ਪੰਜਾਬੀ
Polski
پښتو
Română
سنڌي
සිංහල
Slovenčina
Slovenščina
Faasamoa
Shona
Af Soomaali
Shqip
Српски
Sesotho
Sundanese
svenska
Kiswahili
தமிழ்
తెలుగు
Точики
ภาษาไทย
Pilipino
Türkçe
Українська
اردو
O'zbek
Tiếng Việt
Xhosa
יידיש
èdè Yorùbá
Zulu
Huidige taal:Nederlands