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突发新闻:工信部推广套刻精度≤8纳米的国产深紫外光刻机

工信部 2024 年的指导方针推动 28nm 以上芯片制造的全流程本土化,这是一个重要的技术里程碑。关键的进步包括 KrF 和 ArF 光刻机,可实现高精度电路并提高行业自力更生能力。精确的温度控制对这些过程至关重要,而 TEYU CWUP 冷水机可确保半导体制造的稳定性能。

2024/12/06

近月,工信部发布《首台(套)重大技术装备推广应用指南(2024年版)》,为28nm以上节点成熟芯片制造全流程国产化铺平了道路!


28nm工艺虽然不算尖端,但作为中低端芯片与中高端芯片的分界线,却具有重要意义。除了高端CPU、GPU、AI芯片等,绝大多数工业级芯片都采用28nm及以上工艺。


工信部推广套刻精度≤8纳米国产深紫外光刻机


工作原理:深紫外光刻技术的进步

KrF(氟化氪)和 ArF(氟化氩)光刻机属于深紫外(DUV)光刻技术。二者均利用特定波长的光通过光学系统投射到硅片的光刻胶层上,从而转移复杂的电路图案。

KrF光刻机:使用248nm波长光源,可实现110nm以下的分辨率,适用于各种集成电路制造工艺。

ArF 光刻机:使用 193nm 波长的光源,为 65nm 以下工艺技术提供更高的分辨率,从而能够制造更精细的电路。


科技意义:产业升级与自力更生

这些光刻机的研发,标志着半导体制造领域迈向产业自主化的重要里程碑:

技术突破: KrF、ArF光刻机的成功研制,标志着高端光刻技术取得重大进展,为半导体制造提供了有力的技术支撑。

产业升级:高精度光刻机使更复杂、更高性能的集成电路生产成为可能,推动了整个半导体价值链的创新。

经济和国家安全:通过减少对外国技术的依赖,这些机器增强了国内半导体产业的自给自足能力,增强了经济和工业安全。


冷水机:光刻机性能稳定的关键

精准的温度控制是保证光刻工艺质量和良率的关键,而冷水机组作为冷却系统的核心部件,发挥着至关重要的作用:

冷却要求:光刻机对曝光过程中的温度波动极为敏感,因此需要提供高度精确和稳定的温度控制的水冷器。

冷水机的作用:冷水机通过循环冷却水,有效带走激光设备在运行过程中产生的热量,使激光设备维持在最佳温度范围内,保证光刻工艺的准确性和可靠性。


超快激光冷却器CWUP-20ANP,稳定性0.08℃


TEYU冷水机为光刻机提供专业的冷却解决方案

TEYU CWUP系列超快激光冷水机可为光刻机提供精准稳定的温度控制, 其中CWUP-20ANP型号的冷水机温度稳定性可达±0.08℃,为精密制造提供高效冷却。


在精密的半导体制造世界中,光刻机是微电路图形转移的核心设备,随着技术的进步,氪氟化物光刻机、氩氟化物光刻机凭借优异的性能成为推动行业发展的重要力量。

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