自 2002 年以来，为激光系统和工业应用提供精确的温度控制
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工信部 2024 年的指导方针推动 28nm 以上芯片制造的全流程本土化，这是一个重要的技术里程碑。关键的进步包括 KrF 和 ArF 光刻机，可实现高精度电路并提高行业自力更生能力。精确的温度控制对这些过程至关重要，而 TEYU CWUP 冷水机可确保半导体制造的稳定性能。
近月，工信部发布《首台（套）重大技术装备推广应用指南（2024年版）》，为28nm以上节点成熟芯片制造全流程国产化铺平了道路！
28nm工艺虽然不算尖端，但作为中低端芯片与中高端芯片的分界线，却具有重要意义。除了高端CPU、GPU、AI芯片等，绝大多数工业级芯片都采用28nm及以上工艺。
工作原理：深紫外光刻技术的进步
KrF（氟化氪）和 ArF（氟化氩）光刻机属于深紫外（DUV）光刻技术。二者均利用特定波长的光通过光学系统投射到硅片的光刻胶层上，从而转移复杂的电路图案。
KrF光刻机：使用248nm波长光源，可实现110nm以下的分辨率，适用于各种集成电路制造工艺。
ArF 光刻机：使用 193nm 波长的光源，为 65nm 以下工艺技术提供更高的分辨率，从而能够制造更精细的电路。
科技意义：产业升级与自力更生
这些光刻机的研发，标志着半导体制造领域迈向产业自主化的重要里程碑：
技术突破： KrF、ArF光刻机的成功研制，标志着高端光刻技术取得重大进展，为半导体制造提供了有力的技术支撑。
产业升级：高精度光刻机使更复杂、更高性能的集成电路生产成为可能，推动了整个半导体价值链的创新。
经济和国家安全：通过减少对外国技术的依赖，这些机器增强了国内半导体产业的自给自足能力，增强了经济和工业安全。
冷水机：光刻机性能稳定的关键
精准的温度控制是保证光刻工艺质量和良率的关键，而冷水机组作为冷却系统的核心部件，发挥着至关重要的作用：
冷却要求：光刻机对曝光过程中的温度波动极为敏感，因此需要提供高度精确和稳定的温度控制的水冷器。
冷水机的作用：冷水机通过循环冷却水，有效带走激光设备在运行过程中产生的热量，使激光设备维持在最佳温度范围内，保证光刻工艺的准确性和可靠性。
TEYU冷水机为光刻机提供专业的冷却解决方案
TEYU CWUP系列超快激光冷水机可为光刻机提供精准稳定的温度控制， 其中CWUP-20ANP型号的冷水机温度稳定性可达±0.08℃，为精密制造提供高效冷却。
在精密的半导体制造世界中，光刻机是微电路图形转移的核心设备，随着技术的进步，氪氟化物光刻机、氩氟化物光刻机凭借优异的性能成为推动行业发展的重要力量。
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TEYU S&A 冷水机成立于 2002 年，拥有 23 年的冷水机制造经验，目前被公认为激光行业冷却技术的先驱和值得信赖的合作伙伴。
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