Àwọn Ìròyìn Tó Gbajúmọ̀: MIIT gbé Àwọn Ẹ̀rọ Lithography DUV Domestic lárugẹ pẹ̀lú Ìwọ̀n Àgbékalẹ̀ Orí ≤8nm

Ní oṣù díẹ̀ sẹ́yìn, Ilé Iṣẹ́ ti Ilé Iṣẹ́ àti Ìmọ̀-ẹ̀rọ Ìròyìn (MIIT) ti ṣe àgbékalẹ̀ “Àwọn Ìtọ́sọ́nà fún Ìgbéga àti Lílo Àwọn Ohun Èlò Ìmọ̀-ẹ̀rọ Àkọ́kọ́ (Set) (Àtúnse 2024)”. Èyí ṣí ọ̀nà sílẹ̀ fún ìṣètò gbogbogbò ti iṣẹ́ ṣíṣe ërún àgbà fún àwọn nódù tí ó wà lókè 28nm!

Bó tilẹ̀ jẹ́ pé ìmọ̀ ẹ̀rọ 28nm kì í ṣe ògbóǹtarìgì, ó ṣe pàtàkì gẹ́gẹ́ bí ìlà pípín láàárín àwọn eerun kékeré sí àárín àti àwọn eerun àárín sí gíga. Yàtọ̀ sí àwọn CPU tó ti ní ìlọsíwájú, GPU, àti àwọn eerun AI, ọ̀pọ̀lọpọ̀ àwọn eerun onípele ilé-iṣẹ́ gbára lé àwọn ìmọ̀ ẹ̀rọ 28nm tàbí jù bẹ́ẹ̀ lọ.

Ilana Iṣiṣẹ: Awọn Ilọsiwaju ninu Lithography Ultraviolet Jinlẹ

Àwọn ẹ̀rọ ìwádìí KrF (Krypton Fluoride) àti ArF (Argon Fluoride) wà lábẹ́ ẹ̀ka ìwádìí Deep Ultraviolet (DUV). Àwọn méjèèjì lo àwọn ìgbì ìmọ́lẹ̀ pàtó kan tí a gbé kalẹ̀ nípasẹ̀ àwọn ètò ìrísí ojú tí a fi ń ṣe àwòrán sí orí ìpele fọ́tòrísítì ti wafer silicon kan, tí wọ́n ń gbé àwọn ìlànà ìṣiṣẹ́ onípele dídíjú.

Àwọn Ẹ̀rọ KrF Lithography: Lo orísun ìmọ́lẹ̀ onígun 248nm, tí ó ń ṣe àṣeyọrí àwọn ìpinnu tí ó wà ní ìsàlẹ̀ 110nm, tí ó yẹ fún onírúurú iṣẹ́ ṣíṣe ẹ̀rọ amúṣẹ́dá.

Àwọn Ẹ̀rọ Ìlànà ArF: Lo orísun ìmọ́lẹ̀ onígun 193nm, tí ó ń fúnni ní ìpinnu gíga fún àwọn ìmọ̀-ẹ̀rọ ìlànà tí ó wà ní ìsàlẹ̀-65nm, èyí tí ó ń jẹ́ kí a ṣe àwọn àyíká tí ó dára jù.

Pàtàkì Ìmọ̀-ẹ̀rọ: Ìmúdàgbàsókè Ilé-iṣẹ́ àti Ìgbẹ́kẹ̀lé Ara-ẹni

Idagbasoke awọn ẹrọ lithography wọnyi ṣe ami pataki pataki ninu ilọsiwaju iṣelọpọ semiconductor ati aṣeyọri ominira ile-iṣẹ:

Àwọn Àṣeyọrí Ìmọ̀-Ẹ̀rọ: Ṣíṣẹ̀dá àwọn ẹ̀rọ ìwádìí KrF àti ArF ní àṣeyọrí fi hàn pé ìlọsíwájú pàtàkì ló wà nínú ìmọ̀-ẹ̀rọ ìwádìí tó ga jùlọ, èyí tó ń pèsè ìrànlọ́wọ́ ìmọ̀-ẹ̀rọ tó lágbára fún iṣẹ́-ṣíṣe semiconductor.

Ìmúdàgbàsókè Ilé-iṣẹ́: Àwọn ẹ̀rọ lithography tí ó péye máa ń jẹ́ kí iṣẹ́ àwọn iyika tí a ti so pọ̀ di ohun tí ó díjú àti tí ó ní iṣẹ́ gíga, èyí sì ń mú kí ìmọ̀ tuntun gbòòrò jákèjádò gbogbo ẹ̀wọ̀n iye semiconductor.

Ààbò Ọrọ̀-ajé àti ti Orílẹ̀-èdè: Nípa dídín ìgbẹ́kẹ̀lé ìmọ̀-ẹ̀rọ àjèjì kù, àwọn ẹ̀rọ wọ̀nyí ń mú kí ilé-iṣẹ́ semiconductor ti orílẹ̀-èdè lágbára síi, wọ́n sì ń mú ààbò ọrọ̀-ajé àti ti ilé-iṣẹ́ lágbára síi.

Ohun èlò ìtútù omi : Kókó sí iṣẹ́ ẹ̀rọ Lithography tó dúró ṣinṣin

Ṣíṣe àkóso iwọn otutu pàtó ṣe pàtàkì fún rírí dájú pé iṣẹ́ lithography dára àti pé ó ń mú èrè wá. Àwọn ohun èlò ìtutù omi, gẹ́gẹ́ bí àwọn ohun pàtàkì nínú àwọn ètò ìtutù, ń kó ipa pàtàkì:

Àwọn Ohun Tí A Nílò fún Ìtutù: Àwọn ẹ̀rọ Lithography máa ń ní ìmọ̀lára púpọ̀ sí ìyípadà otutu nígbà tí a bá ń fi ara hàn, èyí sì máa ń mú kí àwọn ohun èlò ìtutù omi máa ṣàkóso ìwọ̀n otutu tó péye àti tó dúró ṣinṣin.

Iṣẹ́ Àwọn Alága Ìtutù: Nípa yíyí omi ìtutù káàkiri, àwọn alága ìtutù máa ń tú ooru tí a ń rí jáde nígbà tí a bá ń ṣiṣẹ́ kára, wọ́n máa ń pa àwọn ohun èlò lésà mọ́ láàrín ìwọ̀n otútù tó dára jùlọ, wọ́n sì máa ń rí i dájú pé ó péye, ó sì ṣeé gbẹ́kẹ̀lé nínú iṣẹ́ ìwádìí.

TEYU Chiller nfunni Awọn ojutu Itutu Ọjọgbọn fun Awọn Ẹrọ Lithography

TEYU Àwọn ohun èlò ìtutù lésà onípele CWUP le pese ìṣàkóso ìwọ̀n otútù tó péye àti tó dúró ṣinṣin fún àwọn ẹ̀rọ lithography. Àwòrán ìtutù CWUP-20ANP ṣe àṣeyọrí ìdúróṣinṣin ìwọ̀n otútù ti ±0.08°C, ó sì ń fúnni ní ìtutù tó gbéṣẹ́ gan-an fún ṣíṣe àgbékalẹ̀ tó péye.

Nínú ayé ìṣelọ́pọ́ semiconductor, àwọn ẹ̀rọ lithography ni àwọn ohun èlò pàtàkì fún gbígbé àwọn ìlànà microcircuit. Pẹ̀lú ìlọsíwájú ìmọ̀ ẹ̀rọ, ẹ̀rọ lithography krypton fluoride àti ẹ̀rọ lithography argon fluoride ti di agbára pàtàkì láti gbé ìdàgbàsókè ilé iṣẹ́ náà lárugẹ pẹ̀lú iṣẹ́ wọn tó dára jùlọ.