Berita Terkini: MIIT Mempromosikan Mesin Litografi DUV Domestik dengan Akurasi Overlay ≤8nm

Dalam beberapa bulan terakhir, Kementerian Perindustrian dan Teknologi Informasi (MIIT) telah menerbitkan "Pedoman untuk Promosi dan Penerapan Peralatan Teknis Utama Pertama (Edisi 2024)". Hal ini membuka jalan bagi lokalisasi proses penuh manufaktur chip yang sudah matang untuk node di atas 28nm!

Meskipun teknologi 28nm bukanlah teknologi mutakhir, teknologi ini memegang peran penting sebagai garis pemisah antara chip kelas bawah hingga menengah dan chip kelas menengah hingga atas. Selain CPU, GPU, dan chip AI canggih, sebagian besar chip kelas industri mengandalkan teknologi 28nm atau lebih tinggi.

Prinsip Kerja: Kemajuan dalam Litografi Ultraviolet Dalam

Mesin litografi KrF (Kripton Fluorida) dan ArF (Argon Fluorida) termasuk dalam kategori litografi Ultraviolet Dalam (DUV). Keduanya menggunakan panjang gelombang cahaya tertentu yang diproyeksikan melalui sistem optik ke lapisan fotoresist pada wafer silikon, untuk mentransfer pola sirkuit yang rumit.

Mesin Litografi KrF: Menggunakan sumber cahaya dengan panjang gelombang 248nm, mencapai resolusi di bawah 110nm, cocok untuk berbagai proses manufaktur sirkuit terpadu.

Mesin Litografi ArF: Menggunakan sumber cahaya dengan panjang gelombang 193nm, menawarkan resolusi lebih tinggi untuk teknologi proses di bawah 65nm, memungkinkan pembuatan sirkuit yang lebih halus.

Signifikansi Teknologi: Peningkatan Industri dan Kemandirian

Pengembangan mesin litografi ini menandai tonggak penting dalam memajukan manufaktur semikonduktor dan mencapai otonomi industri:

Terobosan Teknologi: Keberhasilan pembuatan mesin litografi KrF dan ArF menyoroti kemajuan signifikan dalam teknologi litografi kelas atas, memberikan dukungan teknis yang kuat untuk manufaktur semikonduktor.

Peningkatan Industri: Mesin litografi presisi tinggi memungkinkan produksi sirkuit terpadu yang lebih kompleks dan berkinerja tinggi, mendorong inovasi di seluruh rantai nilai semikonduktor.

Keamanan Ekonomi dan Nasional: Dengan mengurangi ketergantungan pada teknologi asing, mesin-mesin ini memperkuat kemandirian industri semikonduktor dalam negeri, sehingga meningkatkan keamanan ekonomi dan industri.

Pendingin Air : Kunci untuk Kinerja Mesin Litografi yang Stabil

Pengendalian suhu yang tepat sangat penting untuk memastikan kualitas dan hasil proses litografi. Pendingin air, sebagai komponen inti dari sistem pendinginan, memainkan peran vital:

Persyaratan Pendinginan: Mesin litografi sangat sensitif terhadap fluktuasi suhu selama pemaparan, sehingga memerlukan pendingin air yang memberikan kontrol suhu yang sangat akurat dan stabil.

Fungsi Chiller: Dengan mensirkulasikan air pendingin, chiller secara efektif menghilangkan panas yang dihasilkan selama pengoperasian, menjaga peralatan laser dalam kisaran suhu optimal dan memastikan akurasi serta keandalan dalam proses litografi.

TEYU Chiller Menawarkan Solusi Pendinginan Profesional untuk Mesin Litografi

TEYU Pendingin laser ultrafast seri CWUP dapat memberikan kontrol suhu yang presisi dan stabil untuk mesin litografi. Model pendingin CWUP-20ANP mencapai stabilitas suhu ±0,08°C, memberikan pendinginan yang sangat efisien untuk manufaktur presisi.

Dalam dunia manufaktur semikonduktor yang presisi, mesin litografi merupakan perangkat inti untuk mentransfer pola sirkuit mikro. Dengan kemajuan teknologi, mesin litografi kripton fluorida dan mesin litografi argon fluorida telah menjadi kekuatan penting untuk mendorong perkembangan industri dengan kinerja yang sangat baik.