自 2002 年以來，為雷射系統和工業應用提供精確的溫度控制
語言
工信部2024年指導方針推動28奈米+晶片製造全製程國產化，這是一個重要的技術里程碑。主要進步包括 KrF 和 ArF 光刻機，可實現高精度電路並促進行業自力更生。精確的溫度控制對於這些製程至關重要，TEYU CWUP 冷水機可確保半導體製造的穩定性能。
近幾個月，工業與資訊化部發布了《首台（套）重大技術裝備推廣應用指南（2024年版）》。這為28nm以上節點成熟晶片製造全製程國產化鋪平了道路！
雖然28奈米技術並不前沿，但它作為中低端和中高端晶片的分界線具有重要意義。除了先進的CPU、GPU和AI晶片外，大多數工業級晶片都依賴28奈米或更高的技術。
工作原理：深紫外光刻技術的進步
KrF（氟化氪）和 ArF（氟化氬）光刻機屬於深紫外線（DUV）光刻機的範疇。兩者都利用透過光學系統投射到矽晶圓的光阻層上的特定光波長，轉移複雜的電路圖案。
KrF光刻機：採用248nm波長光源，解析度可達110nm以下，適用於各種積體電路製造製程。
ArF 光刻機：使用 193nm 波長光源，為 65nm 以下製程技術提供更高分辨率，從而能夠製造更精細的電路。
技術意義：產業升級、自力更生
這些光刻機的開發標誌著推動半導體製造和實現工業自主化的一個重要里程碑：
技術突破： KrF、ArF光刻機的成功打造，凸顯了高端光刻技術的重大進展，為半導體製造提供了強有力的技術支撐。
產業升級：高精度光刻機能夠生產更複雜、高性能的積體電路，推動整個半導體價值鏈的創新。
經濟與國家安全：透過減少對外國技術的依賴，這些機器增強了國內半導體產業的自給自足能力，增強了經濟和工業安全。
冷水機：光刻機性能穩定的關鍵
精確的溫度控制對於確保光刻製程的品質和良率至關重要。冷水機作為冷卻系統的核心部件，發揮至關重要的作用：
冷卻需求：光刻機對曝光過程中的溫度波動極為敏感，因此需要冷水機組來提供高精度和穩定的溫度控制。
冷水機的作用：冷水機透過循環冷卻水，有效散發運轉過程中產生的熱量，使雷射設備保持在最佳溫度範圍內，確保光刻過程的準確性和可靠性。
特域冷水機為光刻機提供專業的冷卻解決方案
TEYU CWUP系列超快雷射冰水機可為光刻機提供精確且穩定的溫度控制。 CWUP-20ANP 型冷水機可實現 ±0.08°C 的溫度穩定性，為精密製造提供高效冷卻。
在精密半導體製造領域，光刻機是微電路圖案轉移的核心設備。隨著科技的進步，氟化氪光刻機和氟化氬光刻機以其優異的性能成為推動產業發展的重要力量。
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TEYU S&A 冰水機成立於 2002 年，擁有 23 年的冰水機製造經驗，現已被公認為雷射產業冷卻技術的先驅和值得信賴的合作夥伴。
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