工信部2024年發布的指導方針旨在推動28nm+晶片製造流程的全程國產化，這是一項至關重要的技術里程碑。關鍵進展包括KrF和ArF光刻機，它們能夠實現高精度電路製造，並提升產業自主性。精確的溫度控制對於這些製程至關重要，而CWUP水冷式冷卻器則確保了半導體製造製程的穩定性能。
突發新聞：工信部推廣國產DUV微影機，套刻精準度≤8nm
2024-12-20
近幾個月來，工業和資訊化部發布了《第一（套）重大技術裝備推進應用指南（2024年版）》。這為28nm以上節點成熟晶片製造的全流程國產化鋪平了道路！
雖然28奈米製程並非尖端技術，但它作為中低階晶片和中高階晶片的分界線，具有重要的意義。除了高階CPU、GPU和AI晶片之外，大多數工業級晶片都採用28奈米或更先進的製程。
工作原理：深紫外光刻技術的進步
KrF（氟化氪）和ArF（氟化氬）光刻機屬於深紫外線（DUV）光刻技術。它們都利用特定波長的光，透過光學系統投射到矽晶片的光阻層上，從而轉移複雜的電路圖案。
KrF 光刻機：採用 248nm 波長光源，解析度低於 110nm，適用於各種積體電路製造製程。
ArF 光刻機：採用 193nm 波長光源，為 65nm 以下製程技術提供更高的分辨率，從而能夠製造更精細的電路。
技術意義：產業升級與自力更生
這些光刻機的研發標誌著半導體製造技術進步和實現工業自主化過程中的一個重要里程碑：
技術突破： KrF 和 ArF 光刻機的成功研發凸顯了高階光刻技術的重大進步，為半導體製造提供了強大的技術支援。
產業升級：高精度光刻機能夠生產更複雜、更高性能的積體電路，推動整個半導體價值鏈的創新。
經濟與國家安全：這些機器透過減少對外國技術的依賴，增強了國內半導體產業的自主能力，從而增強了經濟和產業安全。
水冷機：確保光刻機性能穩定的關鍵
精確的溫度控制對於確保光刻製程的品質和良率至關重要。水冷機作為冷卻系統的核心部件，發揮至關重要的作用：
冷卻需求：光刻機對曝光過程中的溫度波動極為敏感，因此需要水冷機提供高度精確且穩定的溫度控制。
冷卻器的功能：透過循環冷卻水，冷卻器有效地散發運作過程中產生的熱量，使雷射設備保持在最佳溫度範圍內，並確保光刻製程的準確性和可靠性。
TEYU 冰水機提供光刻機專業冷卻解決方案
TEYU CWUP系列超快雷射冷卻器可為光刻機提供精確且穩定的溫度控制。其中，CWUP-20ANP型冷卻器可實現±0.08°C的溫度穩定性，為精密製造提供高效冷卻。
在精密的半導體製造領域，光刻機是微電路圖案轉移的核心設備。隨著技術的進步，氟化氪光刻機和氟化氬光刻機憑藉其優異的性能，已成為推動產業發展的重要力量。
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