Últimas Notícias: MIIT promove máquinas de litografia DUV nacionais com precisão de sobreposição de ≤8nm

Nos últimos meses, o Ministério da Indústria e Tecnologia da Informação (MIIT) publicou as "Diretrizes para a Promoção e Aplicação do Primeiro Conjunto de Equipamentos Técnicos Principais (Edição de 2024)". Isso abre caminho para a localização completa do processo de fabricação de chips maduros para nós acima de 28nm!

Embora a tecnologia de 28 nm não seja de ponta, ela possui importância significativa como divisor de águas entre chips de baixo a médio desempenho e chips de médio a alto desempenho. Além de CPUs, GPUs e chips de IA avançados, a maioria dos chips de nível industrial utiliza tecnologias de 28 nm ou superiores.

Princípio de funcionamento: Avanços na litografia ultravioleta profunda

As máquinas de litografia KrF (fluoreto de criptônio) e ArF (fluoreto de argônio) pertencem à categoria de litografia ultravioleta profunda (DUV). Ambas utilizam comprimentos de onda de luz específicos projetados através de sistemas ópticos sobre a camada de fotorresistente de uma pastilha de silício, transferindo padrões de circuitos complexos.

Máquinas de litografia KrF: Utilizam uma fonte de luz com comprimento de onda de 248 nm, alcançando resoluções abaixo de 110 nm, adequadas para diversos processos de fabricação de circuitos integrados.

Máquinas de litografia ArF: Utilizam uma fonte de luz com comprimento de onda de 193 nm, oferecendo maior resolução para tecnologias de processo abaixo de 65 nm, permitindo a fabricação de circuitos mais finos.

Significado tecnológico: modernização da indústria e autossuficiência

O desenvolvimento dessas máquinas de litografia representa um marco importante no avanço da fabricação de semicondutores e na conquista da autonomia industrial:

Avanços técnicos: A criação bem-sucedida de máquinas de litografia KrF e ArF destaca um progresso significativo na tecnologia de litografia de ponta, fornecendo um suporte técnico robusto para a fabricação de semicondutores.

Modernização do setor: As máquinas de litografia de alta precisão permitem a produção de circuitos integrados mais complexos e de alto desempenho, impulsionando a inovação em toda a cadeia de valor dos semicondutores.

Segurança Econômica e Nacional: Ao reduzir a dependência de tecnologia estrangeira, essas máquinas fortalecem a autossuficiência da indústria nacional de semicondutores, reforçando a segurança econômica e industrial.

Resfriador de água : a chave para o desempenho estável da máquina de litografia.

O controle preciso da temperatura é essencial para garantir a qualidade e o rendimento do processo de litografia. Os chillers de água, como componentes fundamentais dos sistemas de refrigeração, desempenham um papel vital:

Requisitos de refrigeração: As máquinas de litografia são extremamente sensíveis a flutuações de temperatura durante a exposição, necessitando de resfriadores de água que proporcionem um controle de temperatura altamente preciso e estável.

Funções dos Chillers: Ao circular água de refrigeração, os chillers dissipam eficazmente o calor gerado durante o funcionamento, mantendo o equipamento a laser dentro de uma faixa de temperatura ideal e garantindo precisão e confiabilidade no processo de litografia.

TEYU Chiller oferece soluções profissionais de refrigeração para máquinas de litografia

TEYU Os chillers a laser ultrarrápidos da série CWUP proporcionam um controle de temperatura preciso e estável para máquinas de litografia. O modelo CWUP-20ANP atinge uma estabilidade de temperatura de ±0,08°C, oferecendo resfriamento altamente eficiente para manufatura de precisão.

No mundo preciso da fabricação de semicondutores, as máquinas de litografia são os dispositivos essenciais para a transferência de padrões de microcircuitos. Com o avanço da tecnologia, as máquinas de litografia de fluoreto de criptônio e de fluoreto de argônio tornaram-se uma força importante para impulsionar o desenvolvimento da indústria, graças ao seu excelente desempenho.