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Controle preciso de temperatura para sistemas a laser e aplicações industriais desde 2002
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As diretrizes do MIIT de 2024 promovem a localização de processo completo para a fabricação de chips de 28 nm+, um marco tecnológico crucial. Os principais avanços incluem máquinas de litografia KrF e ArF, permitindo circuitos de alta precisão e aumentando a autossuficiência da indústria. O controle preciso da temperatura é vital para esses processos, com os resfriadores de água TEYU CWUP garantindo desempenho estável na fabricação de semicondutores.
Nos últimos meses, o Ministério da Indústria e Tecnologia da Informação (MIIT) emitiu as "Diretrizes para a Promoção e Aplicação do Primeiro (Conjunto) Equipamento Técnico Principal (Edição de 2024)". Isso abre caminho para a localização de processo completo de fabricação de chips maduros para nós acima de 28 nm!
Embora a tecnologia de 28 nm não seja de ponta, ela tem importância significativa como a linha divisória entre chips de baixo a médio e médio a alto. Além de CPUs, GPUs e chips de IA avançados, a maioria dos chips de nível industrial depende de tecnologias de 28 nm ou superiores.
Princípio de funcionamento: Avanços na litografia ultravioleta profunda
As máquinas de litografia KrF (fluoreto de criptônio) e ArF (fluoreto de argônio) se enquadram na categoria de litografia ultravioleta profunda (DUV). Ambas utilizam comprimentos de onda de luz específicos projetados por sistemas ópticos na camada de fotorresistência de uma pastilha de silício, transferindo padrões de circuitos intrincados.
Máquinas de litografia KrF: usam uma fonte de luz de comprimento de onda de 248 nm, alcançando resoluções abaixo de 110 nm, adequadas para vários processos de fabricação de circuitos integrados.
Máquinas de litografia ArF: usam uma fonte de luz de comprimento de onda de 193 nm, oferecendo maior resolução para tecnologias de processo sub-65 nm, permitindo a fabricação de circuitos mais finos.
Significado tecnológico: atualização da indústria e autossuficiência
O desenvolvimento dessas máquinas de litografia representa um marco importante no avanço da fabricação de semicondutores e na obtenção de autonomia industrial:
Avanços técnicos: A criação bem-sucedida das máquinas de litografia KrF e ArF destaca um progresso significativo na tecnologia de litografia de ponta, fornecendo suporte técnico robusto para a fabricação de semicondutores.
Atualização do setor: máquinas de litografia de alta precisão permitem a produção de circuitos integrados mais complexos e de alto desempenho, impulsionando a inovação em toda a cadeia de valor de semicondutores.
Segurança econômica e nacional: ao reduzir a dependência de tecnologia estrangeira, essas máquinas fortalecem a autossuficiência da indústria nacional de semicondutores, reforçando a segurança econômica e industrial.
Resfriador de água : a chave para o desempenho estável da máquina de litografia
O controle preciso da temperatura é essencial para garantir a qualidade e o rendimento do processo de litografia. Os resfriadores de água, como componentes principais dos sistemas de resfriamento, desempenham um papel vital:
Requisitos de resfriamento: As máquinas de litografia são extremamente sensíveis às flutuações de temperatura durante a exposição, necessitando de resfriadores de água que forneçam controle de temperatura altamente preciso e estável.
Funções dos resfriadores: Ao circular água de resfriamento, os resfriadores dissipam efetivamente o calor gerado durante a operação, mantendo o equipamento a laser dentro de uma faixa de temperatura ideal e garantindo precisão e confiabilidade no processo de litografia.
TEYU Chiller oferece soluções profissionais de resfriamento para máquinas de litografia
Os chillers a laser ultrarrápidos da série TEYU CWUP podem fornecer controle de temperatura preciso e estável para máquinas de litografia. O modelo de chiller CWUP-20ANP atinge estabilidade de temperatura de ±0,08°C, fornecendo resfriamento altamente eficiente para fabricação de precisão.
No mundo preciso da fabricação de semicondutores, as máquinas de litografia são os principais dispositivos para a transferência de padrões de microcircuitos. Com o avanço da tecnologia, a máquina de litografia de fluoreto de criptônio e a máquina de litografia de fluoreto de argônio se tornaram uma força importante para promover o desenvolvimento da indústria com seu excelente desempenho.
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